JPH0624674B2 - 基板載置台 - Google Patents
基板載置台Info
- Publication number
- JPH0624674B2 JPH0624674B2 JP61294338A JP29433886A JPH0624674B2 JP H0624674 B2 JPH0624674 B2 JP H0624674B2 JP 61294338 A JP61294338 A JP 61294338A JP 29433886 A JP29433886 A JP 29433886A JP H0624674 B2 JPH0624674 B2 JP H0624674B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mounting table
- processing liquid
- processing
- flat portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3021—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、現像装置等の処理液を用いて基板の処理を行
なう基板処理装置に配置される基板載置台に係わり、特
にコンパクトディスク原盤等の透項を有する基板の処理
を行なう基板処理装置に配置される基板載置台に関す
る。
なう基板処理装置に配置される基板載置台に係わり、特
にコンパクトディスク原盤等の透項を有する基板の処理
を行なう基板処理装置に配置される基板載置台に関す
る。
（従来の技術） 一般に、半導体ウエハ表面に形成される半導体素子、コ
ンパクトディスク原盤等を製造する場合、その製造工程
において処理液を用いた種々の処理が行なわれる。
ンパクトディスク原盤等を製造する場合、その製造工程
において処理液を用いた種々の処理が行なわれる。
例えば半導体ウエハ、コンパクトディスク原盤等の表面
に形成される微細なパターンは、感光性膜を露光現像す
ることによって形成されることが多いが、コンパクトデ
ィスク原盤等では、ガラス等からなる環状の基板表面に
液状のレジストを塗布してレジスト膜を形成する工程、
基板を回転させながらレジスト膜に対してレーザ光によ
り所定の音声信号に応じた光強度で露光した後、現像液
を用いて現像する工程等の処理液を用いて基板の処理を
行なう工程を経て、基板上の音声信号に応じた微細パタ
ーンが形成される。
に形成される微細なパターンは、感光性膜を露光現像す
ることによって形成されることが多いが、コンパクトデ
ィスク原盤等では、ガラス等からなる環状の基板表面に
液状のレジストを塗布してレジスト膜を形成する工程、
基板を回転させながらレジスト膜に対してレーザ光によ
り所定の音声信号に応じた光強度で露光した後、現像液
を用いて現像する工程等の処理液を用いて基板の処理を
行なう工程を経て、基板上の音声信号に応じた微細パタ
ーンが形成される。
上述のような処理液を用いて基板の処理を行なう工程の
うち例えばレジスト膜に所定の化学反応を生じさせる現
像工程では、基板を基板載置台上に保持し、基板表面ス
プレー等により現像液を供給して現像液とレジスト膜と
を一定時間接触させ、この後、基板表面から現像液を除
去して現像を終了させる現像装置が用いられる。
うち例えばレジスト膜に所定の化学反応を生じさせる現
像工程では、基板を基板載置台上に保持し、基板表面ス
プレー等により現像液を供給して現像液とレジスト膜と
を一定時間接触させ、この後、基板表面から現像液を除
去して現像を終了させる現像装置が用いられる。
現像装置に配置される従来の基板載置台は、上面に平坦
部が形成されており、この平坦部に真空チャック等によ
り基板を保持し、駆動装置により載置台とともに基板を
回転させることにより、処理液の均一な供給と、基板表
面からの処理液の除去を行なうよう構成されたものが多
い。
部が形成されており、この平坦部に真空チャック等によ
り基板を保持し、駆動装置により載置台とともに基板を
回転させることにより、処理液の均一な供給と、基板表
面からの処理液の除去を行なうよう構成されたものが多
い。
（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、上述の従来の基板載置台では、半導体ウ
エハ等の円板状の基板を処理する場合には問題はない
が、コンパクトディスク原盤等、中央部に透孔を有する
環状の基板を処理する場合には、透孔部と基板載置台の
平坦部との間に基板の厚さ分の処理液が溜り、この処理
液が回転により徐々に基板表面に流出し、処理液と基板
との接触状態が続くために処理が進行し、所定の時間で
処理を終了させることができず、所定の処理を行えない
という問題がある。
エハ等の円板状の基板を処理する場合には問題はない
が、コンパクトディスク原盤等、中央部に透孔を有する
環状の基板を処理する場合には、透孔部と基板載置台の
平坦部との間に基板の厚さ分の処理液が溜り、この処理
液が回転により徐々に基板表面に流出し、処理液と基板
との接触状態が続くために処理が進行し、所定の時間で
処理を終了させることができず、所定の処理を行えない
という問題がある。
本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもの
で、中央部に透孔を有する環状の基板等でも基板表面か
ら速やかに処理液を除去することができ、所定の時間で
確実に処理を終了させることのできる基板載置台を提供
しようとするものである。
で、中央部に透孔を有する環状の基板等でも基板表面か
ら速やかに処理液を除去することができ、所定の時間で
確実に処理を終了させることのできる基板載置台を提供
しようとするものである。
［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） すなわち本発明は、基板に処理液を供給しこの基板に所
定の処理を施す基板処理装置に配置され、上面に形成さ
れた平坦部に前記基板を吸着保持する基板載置台におい
て、前記平坦部の中央付近に前記処理液を排出する処理
液排出手段を設けるとともに、少なくとも前記平坦部の
前記処理液排出手段の周囲および前記平坦部の外周縁部
に前記基板と当接される環状の柔軟性部材からなる部位
を設けたことを特徴とする。
定の処理を施す基板処理装置に配置され、上面に形成さ
れた平坦部に前記基板を吸着保持する基板載置台におい
て、前記平坦部の中央付近に前記処理液を排出する処理
液排出手段を設けるとともに、少なくとも前記平坦部の
前記処理液排出手段の周囲および前記平坦部の外周縁部
に前記基板と当接される環状の柔軟性部材からなる部位
を設けたことを特徴とする。
（作用） 本発明の基板載置台では、例えば載置台中央部に配置さ
れ、基板中央部に配置された透孔とほぼ同径の凹陥部
と、この凹陥部から処理液を導出する導出路等からな
り、載置台中央部から現像液等の処理液を排出する処理
液排出手段を備えている。
れ、基板中央部に配置された透孔とほぼ同径の凹陥部
と、この凹陥部から処理液を導出する導出路等からな
り、載置台中央部から現像液等の処理液を排出する処理
液排出手段を備えている。
したがって、基板中央部に透孔を有するコンパクトディ
スク原盤等の基板の現像等の処理を行なう場合でも、現
像液等の処理液がこの処理液排出手段により排出され、
基板中央部の透孔部分と載置台との間に現像液等の処理
液が溜ることがなく、現像等の処理を確実に終了させる
ことができる。
スク原盤等の基板の現像等の処理を行なう場合でも、現
像液等の処理液がこの処理液排出手段により排出され、
基板中央部の透孔部分と載置台との間に現像液等の処理
液が溜ることがなく、現像等の処理を確実に終了させる
ことができる。
また、本発明では、平坦部の処理液排出手段の周囲およ
び平坦部の外周縁部に基板と当接される環状の柔軟性部
材からなる部位が、例えばＯリングによって形成されて
いるので、基板の裏面や載置台面に処理液が回り込むこ
とを防止することができる。
び平坦部の外周縁部に基板と当接される環状の柔軟性部
材からなる部位が、例えばＯリングによって形成されて
いるので、基板の裏面や載置台面に処理液が回り込むこ
とを防止することができる。
（実施例） 以下本発明の基板載置台を図面を参照して一実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
コンパクトディスク原盤等の中央部に透孔１ａを有する
基板１を保持するこの実施例の基板載置台２は、上面に
基板１よりやや小径な円形の平坦部３が形成されてい
る。平坦部３の中央部には、透孔１ａとほぼ同径な円形
の凹陥部４が形成され、この凹陥部４と、凹陥部４内か
ら下方へ処理液を排出する導出路５により処理液排出手
段が構成されている。
基板１を保持するこの実施例の基板載置台２は、上面に
基板１よりやや小径な円形の平坦部３が形成されてい
る。平坦部３の中央部には、透孔１ａとほぼ同径な円形
の凹陥部４が形成され、この凹陥部４と、凹陥部４内か
ら下方へ処理液を排出する導出路５により処理液排出手
段が構成されている。
また、平坦部３には、周縁部および凹陥部４周囲にＯリ
ング６、７等からなる気密部材が配置されており、これ
らのＯリング６、７によって囲まれた環状の領域には、
図示しない吸引装置に接続された複数の開口８が形成さ
れ、真空チャックを構成している。
ング６、７等からなる気密部材が配置されており、これ
らのＯリング６、７によって囲まれた環状の領域には、
図示しない吸引装置に接続された複数の開口８が形成さ
れ、真空チャックを構成している。
そして、平坦部３の下方には、図示しない駆動装置に接
続され、平坦部３の中央を軸として回転させる回転軸９
が配置されている。
続され、平坦部３の中央を軸として回転させる回転軸９
が配置されている。
上記構成のこの実施例の基板載置台は、例えば現像装置
等に配置され、開口８から吸引することによってコンパ
クトディスク原盤等の中央部に透孔１ａを有する基板１
を、平坦部３上に吸着保持する。
等に配置され、開口８から吸引することによってコンパ
クトディスク原盤等の中央部に透孔１ａを有する基板１
を、平坦部３上に吸着保持する。
そして、基板１を例えば10rpm 〜30rpm 程度の回転数で
回転させながら、スプレー等で現像液を霧状にして吹き
付け、基板１表面のレジスト膜に現像液を供給して現像
を行なう。このとき、スプレーノズルを基板１にスキャ
ンニングさせる場合もある。なお、このような現像時間
は、一般に数10秒程度である。
回転させながら、スプレー等で現像液を霧状にして吹き
付け、基板１表面のレジスト膜に現像液を供給して現像
を行なう。このとき、スプレーノズルを基板１にスキャ
ンニングさせる場合もある。なお、このような現像時間
は、一般に数10秒程度である。
この後、基板１に対する現像液の供給を停止し、基板１
を数1000rpm 程度で回転させ、基板１表面に付着した現
像液を除去し、純水等によるリンスを行なう。
を数1000rpm 程度で回転させ、基板１表面に付着した現
像液を除去し、純水等によるリンスを行なう。
このとき、基板１の透孔１ａの部分に供給された現像液
等の処理液は、凹陥部４から導出路５により下方へ排出
される。したがって、この部分に現像液等の処理液が溜
ることがなく、基板１を高速で回転させることによっ
て、基板１上から現像液等の処理液を速やかに除去する
ことができる。
等の処理液は、凹陥部４から導出路５により下方へ排出
される。したがって、この部分に現像液等の処理液が溜
ることがなく、基板１を高速で回転させることによっ
て、基板１上から現像液等の処理液を速やかに除去する
ことができる。
したがって、現像等の処理を所定の時間で確実に停止さ
せることができ、基板１に所望の処理を施すことができ
る。また、半導体ウエハ等の円板状の基板の場合は、従
来と同様に処理を行なうことができる。
せることができ、基板１に所望の処理を施すことができ
る。また、半導体ウエハ等の円板状の基板の場合は、従
来と同様に処理を行なうことができる。
なお、上記説明の基板載置台は、現像装置に限らず、例
えばレジスト塗布装置等、処理液を用いて基板の処理を
行なうあらゆる処理装置を用いることができ、処理対象
は、例えばハードディスク等、どのような基板でもよ
い。
えばレジスト塗布装置等、処理液を用いて基板の処理を
行なうあらゆる処理装置を用いることができ、処理対象
は、例えばハードディスク等、どのような基板でもよ
い。
［発明の効果］ 上述のように、本発明の基板装置台では、載置台中央部
から現像液等の処理液を排出する処理液排出手段を備え
ている。
から現像液等の処理液を排出する処理液排出手段を備え
ている。
したがって、基板中央部に透孔を有するコンパクトディ
スク原盤等の基板の現像等の処理を行なう場合でも、現
像液等の処理液がこの処理液排出手段により排出され、
基板中央部の透孔部分と載置台との間に現像液等の処理
液が溜ることがなく、現像等の処理を確実に終了させ、
所望の処理を行なうことができる。
スク原盤等の基板の現像等の処理を行なう場合でも、現
像液等の処理液がこの処理液排出手段により排出され、
基板中央部の透孔部分と載置台との間に現像液等の処理
液が溜ることがなく、現像等の処理を確実に終了させ、
所望の処理を行なうことができる。
また、本発明では、平坦部の処理液排出手段の周囲およ
び平坦部の外周縁部に基板と当接される環状の柔軟性部
材からなる部位が、例えばＯリングによって形成されて
いるので、基板の裏面や載置台面に処理液が回り込むこ
とを防止することができる。
び平坦部の外周縁部に基板と当接される環状の柔軟性部
材からなる部位が、例えばＯリングによって形成されて
いるので、基板の裏面や載置台面に処理液が回り込むこ
とを防止することができる。
図は本発明の一実施例の基板載置台を示す縦断面図であ
る。 １……基板、１ａ……透孔、２……基板載置台 ３……平坦部、４……凹陥部、５……導出路。
る。 １……基板、１ａ……透孔、２……基板載置台 ３……平坦部、４……凹陥部、５……導出路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 21/68 Ｐ 8418−4Ｍ
Claims (3)
- 【請求項１】基板に処理液を供給しこの基板に所定の処
理を施す基板処理装置に配置され、上面に形成された平
坦部に前記基板を吸着保持する基板載置台において、前
記平坦部の中央付近に前記処理液を排出する処理液排出
手段を設けるとともに、少なくとも前記平坦部の前記処
理液排出手段の周囲および前記平坦部の外周縁部に前記
基板と当接される環状の柔軟性部材からなる部位を設け
たこと特徴とする基板載置台。 - 【請求項２】処理液排出手段は、平坦部の中央部分に配
置され、基板中央部に配置された透孔とほぼ同径の凹陥
部と、この凹陥部から処理液を導出する導出路とからな
る特許請求の範囲第１項記載の基板載置台。 - 【請求項３】基板処理装置は、現像装置である特許請求
の範囲第１項ないし第２項記載の基板載置台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61294338A JPH0624674B2 (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 基板載置台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61294338A JPH0624674B2 (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 基板載置台 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63143970A JPS63143970A (ja) | 1988-06-16 |
| JPH0624674B2 true JPH0624674B2 (ja) | 1994-04-06 |
Family
ID=17806408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61294338A Expired - Lifetime JPH0624674B2 (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | 基板載置台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0624674B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2624353B2 (ja) * | 1990-03-26 | 1997-06-25 | 松下電子工業株式会社 | 染色ベース層形成方法 |
| JPH04137526U (ja) * | 1991-05-31 | 1992-12-22 | 京セラ株式会社 | 光記録体の基板ホルダ |
| US5635165A (en) * | 1995-09-27 | 1997-06-03 | Helene Curtis, Inc. | Antiperspirant deodorant compositions |
| JP2007294588A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハ保持具 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS565306U (ja) * | 1979-06-27 | 1981-01-17 | ||
| JPH0441977Y2 (ja) * | 1986-01-31 | 1992-10-02 |
-
1986
- 1986-12-09 JP JP61294338A patent/JPH0624674B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63143970A (ja) | 1988-06-16 |
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