JPH04137526U

JPH04137526U - 光記録体の基板ホルダ

Info

Publication number: JPH04137526U
Application number: JP4064291U
Authority: JP
Inventors: 浩貴田中; 美津雄宮崎
Original assignee: 京セラ株式会社
Priority date: 1991-05-31
Filing date: 1991-05-31
Publication date: 1992-12-22

Abstract

(57)【要約】【目的】光記録媒体の成膜層の特性に影響を及ぼす脱
ガスを効率的に行いうる光記録体の基板ホルダを提供す
ることを目的とする。【構成】本考案の光記録体の基板ホルダは、基板載置
面に通気孔を設けたことを特徴とし、これにより、基板
からの発生ガスを従来よりいっそう効率的に排出するこ
とができ、基板上に形成される成膜層に特性上悪影響を
及ぼすガスの混入が極力防止される。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、光記録媒体を基板上に形成するのに際し、基板を保持する光記録体の基板ホルダに関する。

【０００２】

【従来の技術とその問題点】

ＣＤ−ＲＯＭ、追記型光ディスク、及び書き換え可能型光ディスク等の光記録媒体を形成する場合、図４に示すように、真空ポンプＰに連結された排気室Ｃ内にディスク状の基板１を基板ホルダＨに載置し、排気室Ｃ内を充分に減圧した後、窒化ケイ素や金属等のターゲットＴをＲＦやＤＣ電源を用いてスパッタリングして、基板１上に所望の光記録媒体を成膜する。ここで、基板ホルダＨは、基板１を載置する支持台Ｈ１と、これに固定され基板１の外周部を取り囲む枠Ｈ２等とから構成される。

【０００３】基板１を基板ホルダＨに載置した状態で光記録媒体を成膜する場合、基板１の内周及び外周付近は、それぞれ支持台Ｈ１や枠Ｈ２などに覆われた状態であるため非成膜部となる。従来、光記録媒体の成膜の際に、この非成膜部から発生したガスが非成膜部の近傍に位置する光記録媒体の成膜層へ混入することを防止するために、基板１の外周側面１ａから発生したガスが基板ホルダＨを通じて、真空ポンプＰによって排気されるように、枠Ｈ２に通気孔Ｈ２ａを開口した基板ホルダＨが提案されている（特開平2-273345号公報等参照）。

【０００４】また、成膜層を形成する際に記録領域（データを書き込む領域）の最外周と基板１の非成膜部との距離を遠ざけることにより、成膜層へ流れ込むガスの悪影響を回避してきた。

【０００５】

【従来技術の課題】

しかしながら、支持台Ｈ１に固定する側の基板１の非成膜面１ｂから発生するガスは、排気装置による脱ガスが抑制されるため、上記従来の装置では脱ガスが不十分となり、やはり光記録媒体の成膜層へのガスの混入を避けることはできず、成膜層における記録領域の特性を著しく損なうので問題である。さらに、成膜層が基板１の端面にまで及ぶと端面はオーバーコートされない箇所であるので、腐食の原因となり、この腐食の影響が記録領域にも及び商品価値が低下する。

【０００６】また、基板１の支持台Ｈ１に固定する側の非成膜面１ｂからの発生ガスの流出量は、基板１の側面１ａから発生するガスよりも量が多く、従来はこれからのガスの一部のみが通気孔Ｈ２ａから排気されていたにすぎなかった。

【０００７】

【考案の目的】

そこで、本考案は上記問題点を解消し、成膜層の特性に影響を及ぼす脱ガスを効率的に行いうる光記録体の基板ホルダを提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】

上記目的を達成するために、本考案の光記録体の基板ホルダは、基板載置面に通気孔を設けたことを特徴とする。

【０００９】

【作用】

本考案の基板ホルダは、基板載置面に通気孔を有するので、基板からの発生ガスを従来より一層効率的に排出することができ、基板上に形成される光記録媒体の成膜層の特性に悪影響を及ぼすガスの混入が極力防止される。

【００１０】

【実施例】

本考案に係る実施例を詳細に説明する。本案装置の基本的な構成は図２に示した従来の基板ホルダＨと同様であり説明を省略する。従来のものと異なる点は、従来では枠Ｈ２に通気孔を設けるのに対し、本案装置では図１に示すように、支持台Ｈ１の基板載置面Ｈ１ａに通気孔Ｈ１ｂを設けた点である。ここで、この通気孔Ｈ１ｂは径約4 mmのものを複数個を配置し、特に基板ホルダＨが基板１の端面と近接している箇所に数多く設けている。さらに、基板１の光記録媒体の非成膜部から発生したガスが真空ポンプＰ側へ効率よく排気されるように、載置面Ｈ１ａに対し垂直方向へ開孔している。なお、基板１は外径約86mmのポリカーボネート基板である。

【００１１】上記のように通気孔Ｈ１ｂを設けることにより、非成膜面１ａから発生したガスの排気が充分かつ効率的に行われ、成膜層にガスが流れ込み不純物が混入することが極力防止できた。

【００１２】次に、本案装置により従来装置と比較して効率よくガスの排気を行うことができ、優れた特性の光記録体が提供できることを、図２及び図３の結果に基づいて説明する。

【００１３】ここで、光記録体の半径方向（基板１の中心からの距離）の反射率の分布は、光磁気ディスク用の電気特性測定装置を用いて測定した結果である。なお、反射率の出力電圧は反射光の絶対値を示し、径方向の反射率の差が大きいほど反射率の基本スペックから外れることになる。

【００１４】また、保磁力の分布はカー効果測定装置を用いて測定した結果である。なお、径方向の保磁力の差が大きいほど保磁力の基本スペックから外れることになる。

【００１５】図２から明らかなように、従来装置で作製した光記録体は、その反射率を示す出力電圧の最大と最小との差は140mV であり、半径位置が約38mm以上となると大幅に減少したのに対し、本案装置で作製したものは出力電圧の最大と最小との差は45mVにすぎず、半径位置にほとんど依存せずほぼ一定の反射率を示す結果となった。

【００１６】また、図３から明らかなように、保磁力においても従来装置で作製したものは基板１の中心付近と外周付近は保磁力が大きく低下し、その最大と最小との差は約3.0kOeもあった。一方、本案装置で作製したものは、保磁力の最大と最小の差は約0.2kOeであり、半径位置にほとんど依存せずほぼ一定の保持力を有するものであった。

【００１７】以上の結果により、基板１の支持台Ｈ１に固定する側の非成膜面からの発生ガスの流出量は、基板１の側面１ａから発生するガスよりも量が多く、従来はこれからのガスの一部のみが通気孔Ｈ２ａから排気されていたにすぎなかったことが判明した。

【００１８】

【考案の効果】

以上説明したように、本考案の光記録体の基板ホルダは、基板載置面に通気孔を有するので、基板からの発生ガスを従来よりいっそう効率的に排出することができ、従来よりも光記録体の半径位置における反射率及び保磁力の分布が均一化され、特性の極めてすぐれた光記録体を提供できる。

【００１９】また、従来のように基板の最外周と光記録媒体を形成した記録領域の最外周との距離を狭める必要がなく、信頼性の高い光記録体を容易に提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案に係る基板ホルダの概略断面図である。

【図２】従来装置と本案装置のそれぞれで作製した光記
録体の半径位置における反射率の分布を示す。

【図３】従来装置と本案装置のそれぞれで作製した光記
録体の半径位置における保磁力の分布を示す。

【図４】従来の基板ホルダの概略断面図である。

【符号の説明】

１・・・基板Ｃ・・・排気室Ｈ・・・ホル
ダＨ１・・・支持台Ｈ１ａ・・・基板
載置面Ｈ１ｂ・・・通気孔Ｈ２・・・枠Ｈ２ａ・・・通気孔Ｐ・・・真空
ポンプ

Claims

【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】光記録媒体を基板上に被着させることに
よって光記録体を形成するのに際し、前記基板を載置し
て保持させる基板ホルダであって、該基板ホルダはその
基板載置面に通気孔が設けられていることを特徴とする
光記録体の基板ホルダ。