JP4378017B2 - 光ディスク用スパッタ装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスク基板にスパッタ膜を形成する光ディスク用スパッタ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種のスパッタ装置として、真空排気した真空処理室内に、ターゲットを備えたカソード及び該ターゲットの周囲を覆うアースシールドを取り付けたカソード取付フランジと、該ターゲットに対向する合成樹脂製の光ディスク基板を保持した基板ホルダーと、該基板ホルダーの周囲に設けた防着板が取り付けられたシートフランジとを有する装置が知られている。該基板ホルダーは、光ディスク基板をその中心部に設けられた透孔と周縁部を支えて該ターゲットと対向した位置に保持する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
上記スパッタ装置は、該カソードへ通電し、該ターゲットの前方にプラズマを発生させてスパッタ粒子を該光ディスク基板へ入射させ、スパッタ膜の成膜が行われるが、プラズマ中で生成するイオンの一部はシールドにも入射してこれの温度を上昇させ、スパッタ粒子は光ディスク基板の方向だけでなく防着板へも入射してその温度を上昇させるので、これらからの輻射熱が光ディスク基板の温度を上昇させてしまう不都合があり、また光ディスク基板が該輻射やスパッタ粒子の入射で昇温しても、光ディスク基板の温度管理が考慮されていないから、該光ディスク基板がDVD用のように薄い基板になると昇温による損傷を受け、機械的特性を低下させる欠点が見られた。
【0004】
本発明は、光ディスク基板にその損傷と機械的特性の低下をもたらさずにスパッタ成膜を施せる装置を提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明では、真空処理室内に、ターゲットを備えたカソード及び該ターゲットの周囲を覆うアースシールドを取り付けたカソード取付フランジと、該ターゲットに対向する光ディスク基板を保持した基板ホルダーと、該基板ホルダーの周囲に設けた防着板が取り付けられたシートフランジを有するスパッタ装置に於いて、該基板ホルダーを円板状に形成してその背面に冷却水の循環通路を備えた冷却板を当接させ、該カソード取付フランジ及びシートフランジに夫々冷却水の循環通路を設けることにより、上記の目的を達成するようにした。該カソード取付フランジ及びシートフランジを環状に形成してこれらを一体に連結し、該冷却板を基板ホルダーと略同径の円板にて形成して円形フランジの前面に取り付け、該カソード取付フランジを移動自在に設けてその移動により該シートフランジの背面と円形フランジとを互いに接離させ、光ディスク基板を温度上昇させずに枚葉式にスパッタ処理することができる。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図面に基づき説明すると、図1及び図2に於いて、符号1は旋回可能な8角形の搬送室2の壁面に取り付けられ真空ポンプにより内部が真空排気された真空処理室を示し、各真空処理室1は搬送室2に取り付けられた基板ホルダー室1aと、図2に示したように光ディスク基板を出し入れするために該基板ホルダー室1aから揺動分離するターゲット室1bとで構成した。該搬送室2の旋回により各真空処理室1がロード・アンロード機3の位置に至ったとき、ターゲット室1bが揺動分離してスパッタ成膜された光ディスク基板を基板ホルダー室1aから取り出し、新たな光ディスク基板と交換される。光ディスク基板は、搬送室2が1回転する間にスパッタ成膜が施される。
【0007】
該真空処理室1の詳細は図3及び図4に示す如くであり、該基板ホルダー室1a内には、合成樹脂製の光ディスク基板4を保持した基板ホルダー5が設けられ、ターゲット室1b内には、バッキングプレート6にボンディングされた円板状の金属その他のターゲット7を電極8の前方に備えたカソード9と、該ターゲット7の周囲を覆うアルミニウムもしくはステンレス製のアースシールド10とを支柱11に固定したカソード取付フランジ12に取り付けて設けた。該ターゲット7と光ディスク基板4は対向して設けられ、該基板ホルダー5の周囲にはターゲット7から飛来するスパッタ粒子の散逸を防ぐためのアルミニウムもしくはステンレス製の防着板13を取り付けたシートフランジ14が設けられ、該シートフランジ14をターゲット室1bの側壁を構成する円筒状のケーシング1cを介して該支柱11に取り付けした。15は該ケーシング1cに設けた真空処理室1内を真空排気するための排気ポート、16はマグネトロンスパッタを行わせるために設けた回転自在の磁石である。
【0008】
該真空処理室1内をArガス等のスパッタガスを導入して適当な真空圧に排気し、電極8にDC或いはRF電源から通電すると、ターゲット7の前方にプラズマが発生し、これに伴い発生するスパッタガスのイオンがカソード9の電位にひかれてターゲット7に衝突するためこれがスパッタされ、そのスパッタ粒子が光ディスク基板4に入射してその表面に薄膜が形成される。
【0009】
こうしたスパッタ工程に於いて、イオンが該アースシールド10にも入射してこれを昇温させ、また、スパッタ粒子が光ディスク基板4と防着板13に入射することによりこれらの温度も高くなるが、該光ディスク基板4はスパッタ粒子の入射による温度上昇に加えアースシールド10及び防着板13からの輻射熱を受けるためより一層温度が上昇する。該光ディスク基板4がDVD用の基板である場合は、その厚さが0.6mm程度であるから、温度上昇で基板の機械的特性が失われ損傷する不都合を生じるが、該基板ホルダー5を銅などの熱良導体で光ディスク基板4よりもやや大径の円板状に形成して該光ディスク基板4の背面全体に当接するようにし、さらに該基板ホルダー5の背面に螺旋状や蛇行して形成した冷却水17の循環通路18を備えた冷却板19を密接重合させて該光ディスク基板4に生じる熱を冷却水17で冷却するようにした。該冷却板19はロッド20の先端に設けた該冷却板19よりも大径の円形フランジ21の前面にネジ止めし、該円形フランジ21の前面は、基板ホルダー室1aとターゲット室1bとが合体した状態では、シートフランジ14の背面にシールリング22を介して気密に当接し、真空処理室1内の真空が維持されるようにした。スパッタ中に該アースシールド10及び該防着板13の温度上昇を防ぐために、アースシールド10を取り付けた該カソード取付フランジ12に冷却水の循環通路23を設け、該防着板13を取り付けたシートフランジ14にも冷却水の循環通路24を設け、これらの輻射熱で光ディスク基板4の温度が上昇されないようにした。これらの循環通路23、24には該真空処理室1の外部から配管25により冷却水が供給される。
【0010】
光ディスク基板4がDVD用の厚さ0.6mmの合成樹脂である場合、本発明の装置を使用してZnS・SiO2膜、AgInSbTeもしくはGeSbTe膜、ZnS・SiO2膜、及びAlTi膜の4層をトータル3000Åの厚さにスパッタ成膜にて成膜しても、該基板4の温度は80℃程にしか上昇せず、その機械的特性の低下や熱損傷はなかったが、冷却水の循環通路のない従来のスパッタ装置で同様のスパッタ成膜を行ったところ、該基板4の温度は100℃にまで上昇し、製品の100%は熱変形の損傷を生じた。
【0011】
【発明の効果】
以上のように本発明によるときは、光ディスク基板を保持する基板ホルダーを円板状に形成してその背面に冷却水の循環通路を備えた冷却板を当接させ、アースシールドを取り付けたカソード取付フランジ及び防着板を取り付けたシートフランジに夫々冷却水の循環通路を設けたので、スパッタ成膜中に該光ディスク基板の温度上昇を防止してその機械的特性の低下や損傷を防止することができ、薄い光ディスク基板のスパッタ成膜を施す場合の生産性を向上させることができる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す平面図
【図2】図1の正面図
【図3】図1の3−3線部分の拡大断面図
【図4】図3の要部の拡大図
【符号の説明】
1 真空処理室、4 光ディスク基板、5 基板ホルダー、7 ターゲット、9カソード、10 アースシールド、12 カソード取付フランジ、13 防着板、14 シートフランジ、17 冷却水、19 冷却板、18・23・24 循環通路、21 円形フランジ、
Claims (2)
- 真空処理室内に、ターゲットを備えたカソード及び該ターゲットの周囲を覆うアースシールドを取り付けたカソード取付フランジと、該ターゲットに対向する光ディスク基板を保持した基板ホルダーと、該基板ホルダーの周囲に設けた防着板が取り付けられたシートフランジを有するスパッタ装置に於いて、該基板ホルダーを円板状に形成してその背面に冷却水の循環通路を備えた冷却板を当接させ、該カソード取付フランジ及びシートフランジに夫々冷却水の循環通路を設けたことを特徴とする光ディスク用スパッタ装置。
- 上記カソード取付フランジ及びシートフランジを環状に形成してこれらを一体に連結し、上記冷却板を基板ホルダーと略同径の円板にて形成して円形フランジの前面に取り付け、該カソード取付フランジを移動自在に設けてその移動により該シートフランジの背面と円形フランジとを互いに接離させたことを特徴とする請求項1に記載の光ディスク用スパッタ装置。
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