JP2001240962A - 光ディスク用スパッタ装置 - Google Patents

光ディスク用スパッタ装置

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JP2001240962A JP2000055493A JP2000055493A JP2001240962A JP 2001240962 A JP2001240962 A JP 2001240962A JP 2000055493 A JP2000055493 A JP 2000055493A JP 2000055493 A JP2000055493 A JP 2000055493A JP 2001240962 A JP2001240962 A JP 2001240962A
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裕之 平野
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稔 土城
Shoji Nagasawa
昭治 長沢
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(57)【要約】 【課題】光ディスク基板にその損傷と機械的特性の低下
をもたらさずにスパッタ成膜を施せる装置を提供する。 【解決手段】真空処理室１内に、ターゲット７を備えた
カソード９及び該ターゲットの周囲を覆うアースシール
ド１０を取り付けたカソード取付フランジ１２と、該タ
ーゲットに対向する光ディスク基板４を保持した基板ホ
ルダー５と、該基板ホルダーの周囲に設けた防着板１３
が取り付けられたシートフランジ１４を有するスパッタ
装置に於いて、該基板ホルダーを円板状に形成してその
背面に冷却水１７の循環通路１８を備えた冷却板１９を
当接させ、該カソード取付フランジ及びシートフランジ
に夫々冷却水の循環通路２３、２４を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク基板に
スパッタ膜を形成する光ディスク用スパッタ装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のスパッタ装置として、真
空排気した真空処理室内に、ターゲットを備えたカソー
ド及び該ターゲットの周囲を覆うアースシールドを取り
付けたカソード取付フランジと、該ターゲットに対向す
る合成樹脂製の光ディスク基板を保持した基板ホルダー
と、該基板ホルダーの周囲に設けた防着板が取り付けら
れたシートフランジとを有する装置が知られている。該
基板ホルダーは、光ディスク基板をその中心部に設けら
れた透孔と周縁部を支えて該ターゲットと対向した位置
に保持する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記スパッタ装置は、
該カソードへ通電し、該ターゲットの前方にプラズマを
発生させてスパッタ粒子を該光ディスク基板へ入射さ
せ、スパッタ膜の成膜が行われるが、プラズマ中で生成
するイオンの一部はシールドにも入射してこれの温度を
上昇させ、スパッタ粒子は光ディスク基板の方向だけで
なく防着板へも入射してその温度を上昇させるので、こ
れらからの輻射熱が光ディスク基板の温度を上昇させて
しまう不都合があり、また光ディスク基板が該輻射やス
パッタ粒子の入射で昇温しても、光ディスク基板の温度
管理が考慮されていないから、該光ディスク基板がＤＶ
Ｄ用のように薄い基板になると昇温による損傷を受け、
機械的特性を低下させる欠点が見られた。
【０００４】本発明は、光ディスク基板にその損傷と機
械的特性の低下をもたらさずにスパッタ成膜を施せる装
置を提供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明では、真空処理室
内に、ターゲットを備えたカソード及び該ターゲットの
周囲を覆うアースシールドを取り付けたカソード取付フ
ランジと、該ターゲットに対向する光ディスク基板を保
持した基板ホルダーと、該基板ホルダーの周囲に設けた
防着板が取り付けられたシートフランジを有するスパッ
タ装置に於いて、該基板ホルダーを円板状に形成してそ
の背面に冷却水の循環通路を備えた冷却板を当接させ、
該カソード取付フランジ及びシートフランジに夫々冷却
水の循環通路を設けることにより、上記の目的を達成す
るようにした。該カソード取付フランジ及びシートフラ
ンジを環状に形成してこれらを一体に連結し、該冷却板
を基板ホルダーと略同径の円板にて形成して円形フラン
ジの前面に取り付け、該カソード取付フランジを移動自
在に設けてその移動により該シートフランジの背面と円
形フランジとを互いに接離させ、光ディスク基板を温度
上昇させずに枚葉式にスパッタ処理することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
き説明すると、図１及び図２に於いて、符号１は旋回可
能な８角形の搬送室２の壁面に取り付けられ真空ポンプ
により内部が真空排気された真空処理室を示し、各真空
処理室１は搬送室２に取り付けられた基板ホルダー室１
ａと、図２に示したように光ディスク基板を出し入れす
るために該基板ホルダー室１ａから揺動分離するターゲ
ット室１ｂとで構成した。該搬送室２の旋回により各真
空処理室１がロード・アンロード機３の位置に至ったと
き、ターゲット室１ｂが揺動分離してスパッタ成膜され
た光ディスク基板を基板ホルダー室１ａから取り出し、
新たな光ディスク基板と交換される。光ディスク基板
は、搬送室２が１回転する間にスパッタ成膜が施され
る。
【０００７】該真空処理室１の詳細は図３及び図４に示
す如くであり、該基板ホルダー室１ａ内には、合成樹脂
製の光ディスク基板４を保持した基板ホルダー５が設け
られ、ターゲット室１ｂ内には、バッキングプレート６
にボンディングされた円板状の金属その他のターゲット
７を電極８の前方に備えたカソード９と、該ターゲット
７の周囲を覆うアルミニウムもしくはステンレス製のア
ースシールド１０とを支柱１１に固定したカソード取付
フランジ１２に取り付けて設けた。該ターゲット７と光
ディスク基板４は対向して設けられ、該基板ホルダー５
の周囲にはターゲット７から飛来するスパッタ粒子の散
逸を防ぐためのアルミニウムもしくはステンレス製の防
着板１３を取り付けたシートフランジ１４が設けられ、
該シートフランジ１４をターゲット室１ｂの側壁を構成
する円筒状のケーシング１ｃを介して該支柱１１に取り
付けした。１５は該ケーシング１ｃに設けた真空処理室
１内を真空排気するための排気ポート、１６はマグネト
ロンスパッタを行わせるために設けた回転自在の磁石で
ある。
【０００８】該真空処理室１内をＡｒガス等のスパッタ
ガスを導入して適当な真空圧に排気し、電極８にＤＣ或
いはＲＦ電源から通電すると、ターゲット７の前方にプ
ラズマが発生し、これに伴い発生するスパッタガスのイ
オンがカソード９の電位にひかれてターゲット７に衝突
するためこれがスパッタされ、そのスパッタ粒子が光デ
ィスク基板４に入射してその表面に薄膜が形成される。
【０００９】こうしたスパッタ工程に於いて、イオンが
該アースシールド１０にも入射してこれを昇温させ、ま
た、スパッタ粒子が光ディスク基板４と防着板１３に入
射することによりこれらの温度も高くなるが、該光ディ
スク基板４はスパッタ粒子の入射による温度上昇に加え
アースシールド１０及び防着板１３からの輻射熱を受け
るためより一層温度が上昇する。該光ディスク基板４が
ＤＶＤ用の基板である場合は、その厚さが０．６ｍｍ程
度であるから、温度上昇で基板の機械的特性が失われ損
傷する不都合を生じるが、該基板ホルダー５を銅などの
熱良導体で光ディスク基板４よりもやや大径の円板状に
形成して該光ディスク基板４の背面全体に当接するよう
にし、さらに該基板ホルダー５の背面に螺旋状や蛇行し
て形成した冷却水１７の循環通路１８を備えた冷却板１
９を密接重合させて該光ディスク基板４に生じる熱を冷
却水１７で冷却するようにした。該冷却板１９はロッド
２０の先端に設けた該冷却板１９よりも大径の円形フラ
ンジ２１の前面にネジ止めし、該円形フランジ２１の前
面は、基板ホルダー室１ａとターゲット室１ｂとが合体
した状態では、シートフランジ１４の背面にシールリン
グ２２を介して気密に当接し、真空処理室１内の真空が
維持されるようにした。スパッタ中に該アースシールド
１０及び該防着板１３の温度上昇を防ぐために、アース
シールド１０を取り付けた該カソード取付フランジ１２
に冷却水の循環通路２３を設け、該防着板１３を取り付
けたシートフランジ１４にも冷却水の循環通路２４を設
け、これらの輻射熱で光ディスク基板４の温度が上昇さ
れないようにした。これらの循環通路２３、２４には該
真空処理室１の外部から配管２５により冷却水が供給さ
れる。
【００１０】光ディスク基板４がＤＶＤ用の厚さ０．６
ｍｍの合成樹脂である場合、本発明の装置を使用してＺ
ｎＳ・ＳｉＯ2膜、ＡｇＩｎＳｂＴｅもしくはＧｅＳｂ
Ｔｅ膜、ＺｎＳ・ＳｉＯ2膜、及びＡｌＴｉ膜の４層を
トータル３０００Åの厚さにスパッタ成膜にて成膜して
も、該基板４の温度は８０℃程にしか上昇せず、その機
械的特性の低下や熱損傷はなかったが、冷却水の循環通
路のない従来のスパッタ装置で同様のスパッタ成膜を行
ったところ、該基板４の温度は１００℃にまで上昇し、
製品の１００％は熱変形の損傷を生じた。
【００１１】
【発明の効果】以上のように本発明によるときは、光デ
ィスク基板を保持する基板ホルダーを円板状に形成して
その背面に冷却水の循環通路を備えた冷却板を当接さ
せ、アースシールドを取り付けたカソード取付フランジ
及び防着板を取り付けたシートフランジに夫々冷却水の
循環通路を設けたので、スパッタ成膜中に該光ディスク
基板の温度上昇を防止してその機械的特性の低下や損傷
を防止することができ、薄い光ディスク基板のスパッタ
成膜を施す場合の生産性を向上させることができる等の
効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す平面図
【図２】図１の正面図
【図３】図１の３−３線部分の拡大断面図
【図４】図３の要部の拡大図
【符号の説明】
１ 真空処理室、４ 光ディスク基板、５ 基板ホルダ
ー、７ ターゲット、９カソード、１０ アースシール
ド、１２ カソード取付フランジ、１３ 防着板、１４
シートフランジ、１７ 冷却水、１９ 冷却板、１８
・２３・２４循環通路、２１ 円形フランジ、
フロントページの続き (72)発明者 平野 裕之 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 日本真空 技術株式会社内 (72)発明者 土城 稔 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 日本真空 技術株式会社内 (72)発明者 長沢 昭治 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 日本真空 技術株式会社内 Ｆターム(参考） 4K029 AA11 AA24 BA21 BA46 BA51 BB02 BD12 CA05 DA10 EA08 JA01 5D121 AA01 AA04 AA05 EE03 EE09 EE13 EE19 EE27 JJ08

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】真空処理室内に、ターゲットを備えたカソ
    ード及び該ターゲットの周囲を覆うアースシールドを取
    り付けたカソード取付フランジと、該ターゲットに対向
    する光ディスク基板を保持した基板ホルダーと、該基板
    ホルダーの周囲に設けた防着板が取り付けられたシート
    フランジを有するスパッタ装置に於いて、該基板ホルダ
    ーを円板状に形成してその背面に冷却水の循環通路を備
    えた冷却板を当接させ、該カソード取付フランジ及びシ
    ートフランジに夫々冷却水の循環通路を設けたことを特
    徴とする光ディスク用スパッタ装置。
  2. 【請求項２】上記カソード取付フランジ及びシートフラ
    ンジを環状に形成してこれらを一体に連結し、上記冷却
    板を基板ホルダーと略同径の円板にて形成して円形フラ
    ンジの前面に取り付け、該カソード取付フランジを移動
    自在に設けてその移動により該シートフランジの背面と
    円形フランジとを互いに接離させたことを特徴とする請
    求項１に記載の光ディスク用スパッタ装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2003046903A1 (fr) * 2001-11-28 2003-06-05 Tdk Corporation Procede de fabrication de support d'enregistrement optique de type disque et support d'enregistrement optique
KR20210107104A (ko) * 2019-01-23 2021-08-31 베이징 나우라 마이크로일렉트로닉스 이큅먼트 씨오., 엘티디. 라이닝 냉각 어셈블리, 반응 챔버 및 반도체 가공 디바이스

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