JPH02273345A - 光ディスク媒体成膜装置 - Google Patents
光ディスク媒体成膜装置Info
- Publication number
- JPH02273345A JPH02273345A JP9453189A JP9453189A JPH02273345A JP H02273345 A JPH02273345 A JP H02273345A JP 9453189 A JP9453189 A JP 9453189A JP 9453189 A JP9453189 A JP 9453189A JP H02273345 A JPH02273345 A JP H02273345A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- optical disk
- film
- substrate holder
- vacuum chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスク媒体成膜装置、特に、光を用いて
情報の記録再生を行う光ディスク媒体を成膜するための
光ディスク媒体成膜装置に関する。
情報の記録再生を行う光ディスク媒体を成膜するための
光ディスク媒体成膜装置に関する。
一般に、光ディスク基板としては、情報の記録再生を行
うレーザ光のトラックキングを行う溝やディスク上のア
ドレスを得るためのプリピットが成形されている樹脂基
板や紫外線硬化樹脂を用いた基板等が使われている。
うレーザ光のトラックキングを行う溝やディスク上のア
ドレスを得るためのプリピットが成形されている樹脂基
板や紫外線硬化樹脂を用いた基板等が使われている。
従来の光ディスク媒体成膜装置は、このような光ディス
ク基板上に、スパッタや真空蒸着等の成膜方法により情
報を記録する膜が成膜される。
ク基板上に、スパッタや真空蒸着等の成膜方法により情
報を記録する膜が成膜される。
第３図は従来の一例を示す中央断面図である。
第３図に示す光ディスク媒体成膜装置において、基板ホ
ルダーは基板ホルダーベース部２と基板ホルダー押さえ
部３′により構成され、光ディスク基板１を保持してい
る。基板ホルダー押さえ部３で隠されていない部分にも
光ディスク媒体が成膜される。
ルダーは基板ホルダーベース部２と基板ホルダー押さえ
部３′により構成され、光ディスク基板１を保持してい
る。基板ホルダー押さえ部３で隠されていない部分にも
光ディスク媒体が成膜される。
しかしながら、このような従来の光ディスク媒体成膜装
置は、樹脂基板や紫外線硬化樹脂から発生するガスが、
成膜中に情報を記録する膜の中に混入することがあり、
光デ・イスク基板から発生するガスは、おもに光ディス
ク基板の中に吸収された水等があり、このため、必要な
光ディスク媒体の特性が得られなくなることがあり、特
に、光磁気ディスクの記録媒体は、酸化しやすい希土類
元素や鉄族遷移金属元素が使われているため、基板から
の発生ガスの影響が大きく、特に、基板ホルダー押さえ
部で隠されている基板からガスが発生し、光ディスク基
板の表面に光ディスク基板からのガスが流れて記録媒体
が影響され、所望の特性を持つ光ディスク媒体の成膜を
阻害されるという欠点がある。
置は、樹脂基板や紫外線硬化樹脂から発生するガスが、
成膜中に情報を記録する膜の中に混入することがあり、
光デ・イスク基板から発生するガスは、おもに光ディス
ク基板の中に吸収された水等があり、このため、必要な
光ディスク媒体の特性が得られなくなることがあり、特
に、光磁気ディスクの記録媒体は、酸化しやすい希土類
元素や鉄族遷移金属元素が使われているため、基板から
の発生ガスの影響が大きく、特に、基板ホルダー押さえ
部で隠されている基板からガスが発生し、光ディスク基
板の表面に光ディスク基板からのガスが流れて記録媒体
が影響され、所望の特性を持つ光ディスク媒体の成膜を
阻害されるという欠点がある。
本発明の光ディスク媒体成膜装置は、光ディスク基板を
保持する基板ホルダーに、光ディスク基板の記録媒体を
成膜しない側の部分あるいは光ディスク基板側面の部分
に真空室内に通ずる通気孔を有して構成される。
保持する基板ホルダーに、光ディスク基板の記録媒体を
成膜しない側の部分あるいは光ディスク基板側面の部分
に真空室内に通ずる通気孔を有して構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
第１図は本発明の第１の実施例を示す中火断面図である
。
。
第１図に示す光ティスフ媒体成膜装置において、光ディ
スク基板１は、基板ホルダーベース部２と基板ホルダー
押さえ部３からなる基板ボルダーにより保持されており
、基板ホルダー押さえ部３には基板ホルダー内の発生ガ
スを真空室８の内に流す通気孔としてのガス出し穴４が
開いている。
スク基板１は、基板ホルダーベース部２と基板ホルダー
押さえ部３からなる基板ボルダーにより保持されており
、基板ホルダー押さえ部３には基板ホルダー内の発生ガ
スを真空室８の内に流す通気孔としてのガス出し穴４が
開いている。
このガス出し穴４により、光ディスク基板１の側面から
発生するガスは光ディスク基板１の表面に流れずに、真
空室８の内に放出され真空ポンプ７で排気される。この
ため、記録膜を成膜する光ディスク基板１の表面のガス
による影響はなくなる。
発生するガスは光ディスク基板１の表面に流れずに、真
空室８の内に放出され真空ポンプ７で排気される。この
ため、記録膜を成膜する光ディスク基板１の表面のガス
による影響はなくなる。
第２図は本発明の第２の実施例を示す中央断面図である
。
。
第２図に示す光ディスク媒体成膜装置において、光ディ
スク基板１は、基板ホルダーベース部２′と基板ホルダ
ー押さえ部３′からなる基板ホルダーにより保持されて
おり、基板ホルダーベース部２′には基板ホルダー内の
発生ガスを真空室８の内に流す通気孔としてのガス出し
溝５が開いている。
スク基板１は、基板ホルダーベース部２′と基板ホルダ
ー押さえ部３′からなる基板ホルダーにより保持されて
おり、基板ホルダーベース部２′には基板ホルダー内の
発生ガスを真空室８の内に流す通気孔としてのガス出し
溝５が開いている。
このガス出し溝５により、光ディスク基板１の側面から
発生するガスは光ディスク基板１の表面に流れずに、真
空室８の内に放出され真空ポンプ７で排気される。この
ため、記録膜を成膜する光ディスク基板１０表面のガス
による影響はなくなる。
発生するガスは光ディスク基板１の表面に流れずに、真
空室８の内に放出され真空ポンプ７で排気される。この
ため、記録膜を成膜する光ディスク基板１０表面のガス
による影響はなくなる。
本発明の光ディスク媒体成膜装置は、通気孔を設けるこ
とにより成膜時に基板から発生するガスの影響を低減で
きるため、所望の特性を持つ成膜を実現できるという効
果がある。
とにより成膜時に基板から発生するガスの影響を低減で
きるため、所望の特性を持つ成膜を実現できるという効
果がある。
■・・・・・・光ディスク基板、２，２′・・・・・基
板ボルダ−ベース部、３，３′・・・・・・基板ホルダ
ー押さえ部、４・・・・・・ガス出し穴、５・旧・・ガ
ス出し溝、６・・・・・ターゲット、７・・・・・・真
空ポンプ、８・旧・・真空室、９ ・・・・スパッタ電
源。
板ボルダ−ベース部、３，３′・・・・・・基板ホルダ
ー押さえ部、４・・・・・・ガス出し穴、５・旧・・ガ
ス出し溝、６・・・・・ターゲット、７・・・・・・真
空ポンプ、８・旧・・真空室、９ ・・・・スパッタ電
源。
代理人 弁理士 内 原 晋
第１図は本発明の第１の実施例を示す中央断面図、第２
図は本発明の第２の実施例を示す中央断面図、第３図は
従来の一例を示す中央断面図である。 一
図は本発明の第２の実施例を示す中央断面図、第３図は
従来の一例を示す中央断面図である。 一
Claims (1)
- 真空室と、前記真空室の内のガスを排気する真空ポン
プと、光ディスク媒体を成膜するための媒体源と、前記
媒体源を基板に付着させる手段と、光ディスク基板を保
持しこの光ディスク基板の記録媒体を成膜しない部分に
前記真空室に通ずる通気孔を有する基板ホルダーとを含
むことを特徴とする光ディスク媒体成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9453189A JPH02273345A (ja) | 1989-04-13 | 1989-04-13 | 光ディスク媒体成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9453189A JPH02273345A (ja) | 1989-04-13 | 1989-04-13 | 光ディスク媒体成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02273345A true JPH02273345A (ja) | 1990-11-07 |
Family
ID=14112915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9453189A Pending JPH02273345A (ja) | 1989-04-13 | 1989-04-13 | 光ディスク媒体成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02273345A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04137526U (ja) * | 1991-05-31 | 1992-12-22 | 京セラ株式会社 | 光記録体の基板ホルダ |
| US6841049B2 (en) | 1999-02-09 | 2005-01-11 | Ricoh Company, Ltd. | Optical device substrate film-formation apparatus, optical disk substrate film-formation method, substrate holder manufacture method, substrate holder, optical disk and a phase-change recording type of optical disk |
-
1989
- 1989-04-13 JP JP9453189A patent/JPH02273345A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04137526U (ja) * | 1991-05-31 | 1992-12-22 | 京セラ株式会社 | 光記録体の基板ホルダ |
| US6841049B2 (en) | 1999-02-09 | 2005-01-11 | Ricoh Company, Ltd. | Optical device substrate film-formation apparatus, optical disk substrate film-formation method, substrate holder manufacture method, substrate holder, optical disk and a phase-change recording type of optical disk |
| US7273534B2 (en) | 1999-02-09 | 2007-09-25 | Ricoh Company, Ltd. | Optical device substrate film-formation apparatus, optical disk substrate film-formation method, substrate holder manufacture method, substrate holder, optical disk and a phase-change recording type of optical disk |
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