JP2624353B2 - 染色ベース層形成方法 - Google Patents
染色ベース層形成方法Info
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- JP2624353B2 JP2624353B2 JP7607290A JP7607290A JP2624353B2 JP 2624353 B2 JP2624353 B2 JP 2624353B2 JP 7607290 A JP7607290 A JP 7607290A JP 7607290 A JP7607290 A JP 7607290A JP 2624353 B2 JP2624353 B2 JP 2624353B2
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、固体撮像素子の有機カラーフィルターをゼ
ラチンによって形成する染色ベース層形成方法に関す
る。
ラチンによって形成する染色ベース層形成方法に関す
る。
従来の技術 従来のこの種の染色ベース層形成方法は第３図（ａ）
〜（ｅ）に示す方法が一般的であり、図において、１は
固体撮像素子が形成されている基板、２はパターン露光
済みゼラチン層、３は現像液、４はパターン化したゼラ
チンからなる染色ベース層、５はリンス液、６は現像液
とリンス液との混合液である。
〜（ｅ）に示す方法が一般的であり、図において、１は
固体撮像素子が形成されている基板、２はパターン露光
済みゼラチン層、３は現像液、４はパターン化したゼラ
チンからなる染色ベース層、５はリンス液、６は現像液
とリンス液との混合液である。
上記構成において、以下その形成方法について説明す
る。
る。
第３図（ｅ）に示すように、固体撮像素子が形成され
ている基板１上のパターン露光済みゼラチン層２に現像
液３を吹きつけるなどして現像処理を施すことにより、
同図（ｂ）に示すようにパターン化したゼラチンからな
る染色ベース層４が形成される。この時染色ベース層４
の上には現像液３が残存した状態となっている。つぎに
同図（ｃ）に示すように現像液３が残存している染色ベ
ース層４の上にリンス液５を吹きつけるなどしてリンス
処理を施すとリンス液５は残存している現像液３と混合
し、その混合液６が染色ベース層４上に残る。さらにリ
ンス液５を吹きつけると同図（ｄ）に示すように混合液
６は洗い流され染色ベース層４上にはリンス液５のみが
残存した状態になる。つぎにこのリンス液５を除去する
ことにより同図（ｅ）に示すように染色ベース層４が基
板１上に形成されることになる。
ている基板１上のパターン露光済みゼラチン層２に現像
液３を吹きつけるなどして現像処理を施すことにより、
同図（ｂ）に示すようにパターン化したゼラチンからな
る染色ベース層４が形成される。この時染色ベース層４
の上には現像液３が残存した状態となっている。つぎに
同図（ｃ）に示すように現像液３が残存している染色ベ
ース層４の上にリンス液５を吹きつけるなどしてリンス
処理を施すとリンス液５は残存している現像液３と混合
し、その混合液６が染色ベース層４上に残る。さらにリ
ンス液５を吹きつけると同図（ｄ）に示すように混合液
６は洗い流され染色ベース層４上にはリンス液５のみが
残存した状態になる。つぎにこのリンス液５を除去する
ことにより同図（ｅ）に示すように染色ベース層４が基
板１上に形成されることになる。
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような形成方法では、現像液３が
ゼラチンからなる染色ベース層４の上に残存している状
態のところへリンス液５を吹きつけてリンス処理をして
いるため、現像液３とリンス液５との混合液６によって
染色ベース層４にしみが発生するという課題があった。
ゼラチンからなる染色ベース層４の上に残存している状
態のところへリンス液５を吹きつけてリンス処理をして
いるため、現像液３とリンス液５との混合液６によって
染色ベース層４にしみが発生するという課題があった。
本発明は、上記従来の課題を解決するもので、しみ等
の外観異常が発生しない染色ベース層を提供するもので
ある。
の外観異常が発生しない染色ベース層を提供するもので
ある。
課題を解決するための手段 本発明は上記目的を達成するために、基板上に形成さ
れたパターン露光済みの染色ベース層に対して、現像液
を供給してパターン化した染色ベース層を形成する現像
工程と、前記染色ベース層にリンス液を供給してリンス
処理するリンス工程とよりなる染色ベース層形成方法で
あって、前記現像工程は、前記パターン露光済みの染色
ベース層に対して現像液を供給して現像処理し、パター
ン化した染色ベース層を形成する工程と、前記工程に連
続して前記染色ベース層表面が乾燥しないようにさらに
現像液を前記染色ベース層に供給しながら基板を回転さ
せ、高速回転に達した時点で現像液の供給を停止し、前
記染色ベース層に残存している現像液を振り切り除去す
る工程とよりなり、前記リンス工程は、前記染色ベース
層から現像液を除去した後に行うものである。
れたパターン露光済みの染色ベース層に対して、現像液
を供給してパターン化した染色ベース層を形成する現像
工程と、前記染色ベース層にリンス液を供給してリンス
処理するリンス工程とよりなる染色ベース層形成方法で
あって、前記現像工程は、前記パターン露光済みの染色
ベース層に対して現像液を供給して現像処理し、パター
ン化した染色ベース層を形成する工程と、前記工程に連
続して前記染色ベース層表面が乾燥しないようにさらに
現像液を前記染色ベース層に供給しながら基板を回転さ
せ、高速回転に達した時点で現像液の供給を停止し、前
記染色ベース層に残存している現像液を振り切り除去す
る工程とよりなり、前記リンス工程は、前記染色ベース
層から現像液を除去した後に行うものである。
作用 本発明は上記した構成により、パターン化したゼラチ
ンからなる染色ベース層上に残存している現像液を基板
の高速回転等によって振り切り、90％以上除去した後リ
ンス処理を行なうため、または現像処理後のリンス本処
理の前に、リンス前処理液にてリンス前処理を施した後
に、リンス液にてリンス本処理を行うため、現像液とリ
ンス液との混合がなくなり、したがって形成された染色
ベース層の混合液によるしみの発生を防止することがで
きるものである。
ンからなる染色ベース層上に残存している現像液を基板
の高速回転等によって振り切り、90％以上除去した後リ
ンス処理を行なうため、または現像処理後のリンス本処
理の前に、リンス前処理液にてリンス前処理を施した後
に、リンス液にてリンス本処理を行うため、現像液とリ
ンス液との混合がなくなり、したがって形成された染色
ベース層の混合液によるしみの発生を防止することがで
きるものである。
実施例 以下本発明の実施例について第１図，第２図とともに
第３図と同一部分には同一番号を付して詳しい説明を省
略し、相違する点について説明する。
第３図と同一部分には同一番号を付して詳しい説明を省
略し、相違する点について説明する。
第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明の一実施例における染
色ベース層形成方法を示すものであり、第１図（ａ）は
第３図（ａ）と同じである。
色ベース層形成方法を示すものであり、第１図（ａ）は
第３図（ａ）と同じである。
そして、同図（ｂ）に示すように染色ベース層４の上
に残存している現像液３を基板１の高速回転による遠心
力によって振り切るなどして同図（ｃ）に示すように90
％以上除去する。この場合、基板１上に残存する現像液
３の乾燥によるしみの発生を防止するため、現像液３を
基板１が高回転数に達するまで染色ベース層４上に吹き
つけて基板１の表面を乾燥しないようにし、高回転数に
達した時点で現像液３の吹きつけを止め、瞬間的に現像
液３を遠心力で振り切り除去する。次に同図（ｄ）に示
すように、リンス液５を吹きつけるなどしてリンス処理
を行う。これにより、現像液３とリンス液５との混合が
生じることはなくなる。次に染色ベース層４上のリンス
液５を同図（ｅ）に示すように除去することによりしみ
の発生しない染色ベース層４が形成される。
に残存している現像液３を基板１の高速回転による遠心
力によって振り切るなどして同図（ｃ）に示すように90
％以上除去する。この場合、基板１上に残存する現像液
３の乾燥によるしみの発生を防止するため、現像液３を
基板１が高回転数に達するまで染色ベース層４上に吹き
つけて基板１の表面を乾燥しないようにし、高回転数に
達した時点で現像液３の吹きつけを止め、瞬間的に現像
液３を遠心力で振り切り除去する。次に同図（ｄ）に示
すように、リンス液５を吹きつけるなどしてリンス処理
を行う。これにより、現像液３とリンス液５との混合が
生じることはなくなる。次に染色ベース層４上のリンス
液５を同図（ｅ）に示すように除去することによりしみ
の発生しない染色ベース層４が形成される。
なお、本実施例ではゼラチンを用いた染色ベース層４
について説明したが、染色ベース層を形成する主な材料
としてカゼイン，グリューなどの天然タンパク質，合成
タンパク質を使用した場合についても同じ効果が得られ
るものである。
について説明したが、染色ベース層を形成する主な材料
としてカゼイン，グリューなどの天然タンパク質，合成
タンパク質を使用した場合についても同じ効果が得られ
るものである。
次に本発明の他の実施例を第２図（ａ）〜（ｅ）を用
いて説明する。第２図において、前記実施例と相違する
点は高速回転による遠心力で現像液を除去する工程に代
えてリンス前処理液７によるリンス前処理によって現像
液を除去する構成としたことにあり、この構成により同
図（ｃ）に示すように染色ベース層４上に残存している
現像液３にリンス前処理液７を吹きつけるなどしてリン
ス前処理を施し、この時、染色ベース層４上には、リン
ス前処理液７と現像液３との混合液８が残存するが、こ
の混合液８はリンス液５に溶け易い溶液であり、同図
（ｄ）に示すようにリンス液５を吹きつけるなどしてリ
ンス本処理を施すことによって混合液８は容易に除去さ
れ、つぎに染色ベース層４上のリンス液５を除去するこ
とによって、同図（ｅ）に示すようにしみなどが発生し
ない染色ベース層４を得ることができるものである。
いて説明する。第２図において、前記実施例と相違する
点は高速回転による遠心力で現像液を除去する工程に代
えてリンス前処理液７によるリンス前処理によって現像
液を除去する構成としたことにあり、この構成により同
図（ｃ）に示すように染色ベース層４上に残存している
現像液３にリンス前処理液７を吹きつけるなどしてリン
ス前処理を施し、この時、染色ベース層４上には、リン
ス前処理液７と現像液３との混合液８が残存するが、こ
の混合液８はリンス液５に溶け易い溶液であり、同図
（ｄ）に示すようにリンス液５を吹きつけるなどしてリ
ンス本処理を施すことによって混合液８は容易に除去さ
れ、つぎに染色ベース層４上のリンス液５を除去するこ
とによって、同図（ｅ）に示すようにしみなどが発生し
ない染色ベース層４を得ることができるものである。
発明の効果 以上の実施例から明らかなように本発明によれば、基
板上に形成された染色ベース層の上に残存した現像液を
高速回転による遠心力で振り切って除去するかまたはリ
ンス前処理液によって現像液を除去することにより、し
み等の外観異常のないカラーフィルターを構成するしみ
のない染色ベース層を形成することができる。
板上に形成された染色ベース層の上に残存した現像液を
高速回転による遠心力で振り切って除去するかまたはリ
ンス前処理液によって現像液を除去することにより、し
み等の外観異常のないカラーフィルターを構成するしみ
のない染色ベース層を形成することができる。
第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明の一実施例における工程
を示す染色ベース層の要部断面図、第２図（ａ）〜
（ｅ）は本発明の他の実施例における工程を示す染色ベ
ース層の要部断面図、第３図（ａ）〜（ｅ）は従来例の
工程を示す染色ベース層の要部断面図である。 １……基板、２……パターン露光済みゼラチン層、３…
…現像液、４……染色ベース層、５……リンス液。
を示す染色ベース層の要部断面図、第２図（ａ）〜
（ｅ）は本発明の他の実施例における工程を示す染色ベ
ース層の要部断面図、第３図（ａ）〜（ｅ）は従来例の
工程を示す染色ベース層の要部断面図である。 １……基板、２……パターン露光済みゼラチン層、３…
…現像液、４……染色ベース層、５……リンス液。
Claims (1)
- 【請求項１】基板上に形成されたパターン露光済みの染
色ベース層に対して、現像液を供給してパターン化した
染色ベース層を形成する現像工程と、前記染色ベース層
にリンス液を供給してリンス処理するリンス工程とより
なる染色ベース層形成方法であって、前記現像工程は、
前記パターン露光済みの染色ベース層に対して現像液を
供給して現像処理し、パターン化した染色ベース層を形
成する工程と、前記工程に連続して前記染色ベース層表
面が乾燥しないようにさらに現像液を前記染色ベース層
に供給しながら基板を回転させ、高速回転に達した時点
で現像液の供給を停止し、前記染色ベース層に残存して
いる現像液を振り切り除去する工程とよりなり、前記リ
ンス工程は、前記染色ベース層から現像液を除去した後
に行うことを特徴とする染色ベース層形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7607290A JP2624353B2 (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 染色ベース層形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7607290A JP2624353B2 (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 染色ベース層形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03274505A JPH03274505A (ja) | 1991-12-05 |
| JP2624353B2 true JP2624353B2 (ja) | 1997-06-25 |
Family
ID=13594596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7607290A Expired - Lifetime JP2624353B2 (ja) | 1990-03-26 | 1990-03-26 | 染色ベース層形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2624353B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0624674B2 (ja) * | 1986-12-09 | 1994-04-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板載置台 |
| JPS63164217A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-07 | Toshiba Corp | ホトレジスト膜の現像方法および現像装置 |
| JPH01214863A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-29 | Toshiba Corp | 現像装置 |
-
1990
- 1990-03-26 JP JP7607290A patent/JP2624353B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03274505A (ja) | 1991-12-05 |
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