JPH10246967A - 現像装置 - Google Patents

現像装置

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JPH10246967A
JPH10246967A JP4898497A JP4898497A JPH10246967A JP H10246967 A JPH10246967 A JP H10246967A JP 4898497 A JP4898497 A JP 4898497A JP 4898497 A JP4898497 A JP 4898497A JP H10246967 A JPH10246967 A JP H10246967A
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JP
Japan
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developing
developed
plane
wafer
developing device
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Pending
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JP4898497A
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English (en)
Inventor
Yasushi Kusano
恭 草野
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハの被現像面を面内で均一に良好に現像
するようにした現像装置を提供する。 【解決手段】 現像装置24は、被現像面22を上面に
してウエハ12を保持する水平な保持面15、及び保持
面15を面内で回転させるモータ17を有するウエハチ
ャック14と、ウエハチャック14に保持されたウエハ
12の被現像面22に現像液を塗布する現像ノズル27
とを備えている。現像ノズル27の先端には、保持面1
5に平行で、被現像面22と同じ径の円状の吐出面26
を有する吐出部28が設けられている。吐出面26に
は、現像液を吐出する複数個の円状のノズル孔30が、
全面にわたり一様に形成されている。現像装置24を用
いると、現像液は被現像面全面にわたり同時刻に塗布さ
れるので、現像液が被現像面22に付着している時間は
面内で均一である。よって、被現像面22は面内で均一
に現像される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光処理されたウ
エハの被現像面を現像する現像装置に関し、更に詳しく
は、被現像面を面内で均一に現像するようにした現像装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、LSIの高集積化の進展に伴い、
LSIのデザインルールは益々小さくなってきており、
これに伴い、露光処理されたフォトレジスト膜の高い現
像性能、すなわちパターンは被現像面内で高い均一性で
現像されていることが、要求されてきている。図3は、
ウエハの被現像面を現像する従来の現像装置の構成概念
を示す側面断面図である。従来の現像装置10は、図3
に示すように、ウエハ12を保持する保持面15と、保
持面15を面内で回転させるモータ17とを有するウエ
ハチャック14と、ウエハチャック14の上方に設けら
れ、ウエハチャック14に保持されたウエハ被現像面に
向けて現像液を複数方向に吐出する現像ノズル16とを
備えている。現像装置10は、更に、ウエハチャック1
4の斜め上方に設けられ、ウエハ上面に向けて純水を吐
出するリンスノズル18と、ウエハ12及びウエハチャ
ック14の周囲を覆い、現像液及び純水の散乱を防止す
る現像カップ20とを備えている。
【0003】現像装置10を用いるには、フォトレジス
ト膜が形成され更に露光処理がされたウエハ被現像面2
2を上面にして、ウエハチャック14の保持面15に保
持する。次いで、ウエハチャック14を回転させること
により被現像面22を回転させつつ、被現像面22にに
向けて現像ノズル16から現像液を吐出し、被現像面2
2の全面に塗布する。次いで、現像液の吐出及びウエハ
チャック14の回転を停止し、所定時間放置して被現像
面22を現像してパターンを形成する。次いで、リンス
ノズル18から純水を吐出し、ウエハチャック14を回
転させ、被現像面22を洗浄する。
【0004】尚、従来の現像装置では、現像ノズル16
が吐出しながら移動する機構を有するものもある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、現像液は、粘
性が高く流動性が悪いため、以下の問題が、従来からあ
った。第1には、吐出された現像液のウエハ被現像面に
付着するときと、付着してから被現像面全面に拡がると
きとの時間差が大きいため、現像時間が被現像面内で不
均一になり、このため、被現像面が面内で不均一に現像
される。このことは、疎密分布を有するパターンが被現
像面内に形成されている場合、特に問題となる。第2に
は、ウエハ被現像面に付着した現像液が、被現像面に拡
がる過程で、気泡を巻き込むことや現像液からマイクロ
バブルが発生することにより、被現像面に現像不良が生
じる。以上のような事情に照らして、本発明の目的は、
ウエハの被現像面を面内で均一に良好に現像するように
した現像装置を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る現像装置は、フォトレジスト膜が形成
され、更に露光処理されたウエハの被現像面を現像する
現像装置であって、被現像面を上面にしてウエハを保持
する水平な保持面と、保持面を面内で回転させる回転/
停止の自在な回転機構とを有するウエハチャックと、ウ
エハチャックに保持されたウエハの被現像面に現像液を
吐出する現像ノズルとを備え、現像ノズルは、ウエハチ
ャックの保持面に対向し、少なくとも被現像面と同じ大
きさの寸法で、被現像面に現像液を吐出する複数個のノ
ズル孔を全面にわたって有する吐出面を下端面に備えて
いることを特徴としている。
【0007】隣り合うノズル孔同士の間隔は、通常、1
0mm以内である。好適には、吐出面は、ウエハチャック
の保持面に平行である。現像装置は、好適には、現像液
を吐出するに際し、吐出面を昇降動させて被現像面と吐
出面との間隔を所定値にするようにした昇降機構を備え
ている。所定値は、通常、1mm〜5mmの範囲内である。
【0008】本発明に係る現像装置を用いてウエハの被
現像面を現像する際、現像液は、被現像面の全面にわた
り同時刻に塗布されるので、現像液が被現像面に付着し
ている時間は面内で均一である。よって、被現像面が面
内で均一に現像される。また、現像液は、従来のように
被現像面に拡がることなく塗布される。よって、従来の
ように現像液が気泡を巻き込むことや現像液にマイクロ
バブルが発生することがないので、被現像面が良好に現
像される。
【0009】
【発明の実施の形態】以下に、実施例を挙げ、添付図面
を参照して、本発明の実施の形態を具体的かつより詳細
に説明する。実施例 本実施例は、本発明に係る現像装置の一実施例である。
図1(a)及び(b)は、それぞれ、本実施例の現像装
置の構成を示す側面断面図、及び現像装置の現像ノズル
下端の背面図である。本実施例の現像装置24は、ウエ
ハ径と同じ径の円状の吐出面26を下面に有する吐出部
28を現像ノズルの下端に有すること、及び、吐出部2
8を昇降動させて吐出面26を所定位置に設定する昇降
機構(図示せず)を備えていることが、従来の現像装置
10に比べて異なる。尚、図1では、図2と同じ部品に
は同じ符号を付してその説明を省略する。
【0010】吐出部28は、現像装置24の現像ノズル
27の先端に設けられており、ウエハチャック14の中
心軸と吐出面28の中心軸とは一致している。吐出面2
6は、ウエハチャック14の保持面15に平行で、ウエ
ハ径と同じ径の円状の面である。吐出面26には、図1
(b)に示すように、現像液を吐出する複数個の円状の
ノズル孔30が、全面にわたり一様に形成されている。
ノズル孔30の径は3mmで、ノズル孔縁部と隣り合うノ
ズル孔縁部との距離は5mm〜10mmの範囲内である。
尚、モータ17は、回転/停止を自在に行え、かつ保持
面15の回転数を変えることができ、しかも保持面15
を高速回転させることもできるモータである。
【0011】現像装置24を用いてウエハ12の被現像
面22を現像するには、先ず、フォトレジスト膜が形成
され更に露光処理された被現像面22を上面にして、か
つウエハチャック14とウエハ12との中心軸をほぼ一
致させて、保持面15にウエハ12を保持する。次い
で、昇降機構により吐出部28を下降させ、吐出面26
と被現像面22との間隔が3mmになるように設定する。
この結果、吐出面26が被現像面22の全面を覆うよう
に設定される。次いで、ウエハチャック14を回転させ
ることにより被現像面22を回転させつつ、図2に示す
ように、吐出面26から現像液を吐出して被現像面22
全面に塗布する。次いで、現像液の吐出及びウエハチャ
ック14の回転を停止し、所定時間放置することによ
り、被現像面22を現像してパターンを形成する。所定
時間は、例えば60秒である。次いで、昇降機構により
吐出部28を上昇させて所定の位置に戻し、更に、ウエ
ハチャック14を回転させて被現像面22を回転させつ
つ、リンスノズル18から純水を吐出して被現像面22
を洗浄し、被現像面22上のフォトレジスト膜溶解物及
び現像液を除去する。次いで、純水の吐出を停止して、
ウエハチャック14を高速で回転させ、被現像面22上
の純水を遠心力により振り切る。
【0012】本実施例では、吐出された現像液は、被現
像面22の全面にわたり同時刻に塗布されるので、現像
液が被現像面22に付着している時間は、従来と異なり
面内で均一である。よって、被現像面22が面内で均一
に現像される。また、現像液が気泡を巻き込むことや、
現像液にマイクロバブルが発生することはないので、被
現像面22は良好に現像される。
【0013】尚、昇降機構は、被現像面22と吐出面2
6との間隔を任意に設定できるようにされ、現像ノズル
27は、ノズル孔30からの現像液吐出圧力を自在に設
定できようにされていてもよい。これにより、被現像面
22を現像処理する前の工程の条件が変わっても、変わ
った条件に応じて上記間隔及び上記圧力を変更して、同
様の効果を奏することができる。
【0014】
【発明の効果】本発明によれば、現像装置の現像ノズル
先端には、ウエハチャックの保持面に対向し、被現像面
と同じか又は被現像面よりも大きい寸法形状で、被現像
面に現像液を吐出する複数個のノズル孔が全面にわたっ
て形成されている吐出面を下面に有する吐出部が設けら
れている。本発明に係る現像装置を用いると、現像液
は、被現像面の全面にわたり同時刻に塗布されるので、
現像液が被現像面に付着している時間は面内で均一であ
る。よって、被現像面が、面内で均一に現像される。面
内で均一に現像されることは、被現像面のパターンのレ
イアウトに関係なく実現される。また、現像液は、従来
のように被現像面に拡がることなく塗布されので、現像
液が気泡を巻き込むことや現像液にマイクロバブルが発
生することはない。よって、被現像面が面内で良好に現
像され、歩留まりが向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a)及び(b)は、それぞれ、実施例の
現像装置の構成を示す側面断面図、及び実施例の現像装
置の現像ノズルの背面図である。
【図2】実施例で、現像装置の吐出部により、ウエハの
被現像面全面に現像液が同時刻に塗布されることを示す
側面断面図である。
【図3】従来の現像装置の構成概念を示す側面断面図で
ある。
【符号の説明】
10……現像装置、12……ウエハ、14……ウエハチ
ャック、15……保持面、16……現像ノズル、17…
…モータ、18……リンスノズル、20……現像カッ
プ、22……被現像面、24……現像装置、26……吐
出面、27……現像ノズル、28……吐出部、30……
ノズル孔。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フォトレジスト膜が形成され、更に露光
    処理されたウエハの被現像面を現像する現像装置であっ
    て、 被現像面を上面にしてウエハを保持する水平な保持面
    と、保持面を面内で回転させる回転/停止の自在な回転
    機構とを有するウエハチャックと、 ウエハチャックに保持されたウエハの被現像面に現像液
    を吐出する現像ノズルとを備え、 現像ノズルは、ウエハチャックの保持面に対向し、少な
    くとも被現像面と同じ大きさの寸法で、被現像面に現像
    液を吐出する複数個のノズル孔を全面にわたって有する
    吐出面を下端面に備えていることを特徴とする現像装
    置。
  2. 【請求項2】 現像液を吐出するに際し、吐出面を昇降
    動させて被現像面と吐出面との間隔を所定値にするよう
    にした昇降機構を備えていることを特徴とする請求項1
    に記載の現像装置。
JP4898497A 1997-03-04 1997-03-04 現像装置 Pending JPH10246967A (ja)

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JP4898497A JPH10246967A (ja) 1997-03-04 1997-03-04 現像装置

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JP4898497A JPH10246967A (ja) 1997-03-04 1997-03-04 現像装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100441709B1 (ko) * 2001-12-21 2004-07-27 동부전자 주식회사 반도체 현상장비의 현상액 분사장치
JP2011228500A (ja) * 2010-04-20 2011-11-10 Toppan Printing Co Ltd 現像処理方法及び現像処理装置
CN103034076A (zh) * 2012-11-28 2013-04-10 上海华力微电子有限公司 一种新型显影处理单元结构

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