JPH03256321A - レジスト膜形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体ウェーハ（以下ウェーハと言う〉にフ
ォトリソグラフィ用のレジスト膜を形成するレジスト膜
形成装置に関する。

〔従来の技術〕

第５図は従来の一例を示すレジスト膜形成装置の断面図
、第６図（ａ＞及び（ｂ）はウェーハ上に形成されたレ
ジスト膜の状態を示すウェーハの断面図である。このレ
ジスト膜形成装置は、第５図に示すように、ウェーハ２
を保持し、高速回転するスピンチャック１０と、ウェー
ハ２の表面にレジスト液を滴下するノズル１とを有して
いた。

また、このレジスト膜形成装置で形成されたウェーハ２
の周辺部のレジストを除去するために、カバー８を貫通
する溶剤用ノズル７及び１２が設けられている。この装
置を使用して、ウェーハ２上にレジスト膜を形成する場
合は、まず、ノズル１よりレジスト液をウェーハ２面に
滴下し、スピンチャック１０の回転遠心力でレジスト液
をウェーハ面で伸ばし、第５図（ａ）に示すように、ウ
ェーハ２面にレジスト膜１１を形成していた。また、ウ
ェーハ２面の周辺部の不要なレジスト膜を除去するのに
、第５図に示す、溶剤用ノズル７及び１２より、例えば
、ケトン液のような溶剤を滴下したり、噴出させること
により、第５図（ｂ）に示すように、周辺部のレジスト
膜１１を除去していた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来のレジスト膜形成装置では、成膜されたレ
ジスト膜１１が第５図（ｂ）に示すように、その端部で
、溶剤に溶がされたレジストがレジストの持つ張力のた
めに盛り上がりを生じる。

つまり、ここの部分の膜厚が厚くなるのでレジスト全面
除去や周辺露光でレジストが取り切れずに残ってしまう
という欠点を有する。

本発明は、かかる欠点を解消するレジスト膜形成装置を
提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明のレジスト膜形成装置は、半導体ウェーハを保持
し、回転させるスピンチャックと、前記半導体ウェーハ
面の、所定の位置にレジスト液を滴下する第１のノズル
と、前記半導体ウェーハの周辺部に形成されたレジスト
膜を露光する光源と、露光された前記レジスト膜の任意
の個所に現像液を滴下する第２のノズルとを備え構成さ
れる。

〔実施例〕

次に、本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の一実施例を示すレジスト膜形成装置の
断面図である。このレジスト膜形成装置は、同図に示す
ように、周辺のレジストを露光するための光源３と、そ
の光源で露光されたレジスト膜をエツチング除去する現
像液を滴下するノズル４とを設けたことである。従来技
術においては、第５図に示すように、レジスト液をウェ
ーハ２上に滴下して、塗布した後に、ウェーハ２の周辺
のレジスト膜を除去するために、例えば、ケトン等のレ
ジストの溶剤を用いて、ウェーハの周辺の上部又は裏面
から溶剤用ノズル７及び１２でウェーハ２に噴出して行
っている。このとき、ウェーハ周辺のレジスト膜は除去
されるが、レジストの端部では溶剤に溶かされたレジス
トがレジストの持つ張力のために盛り上がりを生じる。

つまり、ここの部分の膜厚が厚くなるのでレジスト全面
除去や周辺露光でレジストが取れ切れずに残ってしまう
。

第２図（ａ＞、（ｂ）及び（Ｃ）はウェーハ上に形成さ
れたレジスト膜の状態を示すウェーハの断面図である。

ここで、本発明では、レジスト液をウェーハ２上に滴下
して、塗布した後に、周辺露光用の光源３でウェーハ２
の真上から光を照射してウェーハ２を回転させながら露
光し、さらに、現像液用ノズルである第２のノズル４か
ら現像液を滴下させる。これによって、第２図（ｂ）に
示すように、レジスト膜の端部が盛り上がらずにレジス
ト膜１１が除去される。さらに、ウェーハ２の側壁部の
レジストは残るため、第１図に示すように、ウェーハ２
の裏面から溶剤用ノズル７で、ケトンを噴出して除去す
る。このように、本発明のレジスト膜形成装置によれば
、第２図（ｃ）に示すように、レジスト膜１１の端で盛
り上がらずに、ウェーハ周辺の除去が可能となる。

第３図は本発明の他の実施例を示すレジスト膜形成装置
の断面図、第４図（ａ）及び（ｂ）はウェーハ上に形成
されたレジスト膜の状態を示すウェーハの断面図である
。このレジスト膜形成装置は、前述の実施例に示した露
光用の光源３と並べて、ウェーハ２の端面に斜めに照射
する光源３ａを設けたことである。この構造にすること
により、前述の溶剤用ノズルを必要とすることなく、ウ
ェーハ２の端部のレジストは、第４図（ｂ）に示すよう
に、取除くことが出来る。

この実施例の場合は、前述の実施例と比べ、溶剤用ノズ
ルが不要になるばかりでなく、排出管９より排出される
有害な溶剤が不要になるという利点がある。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明のレジスト膜形成装置は、ウ
ェーハの周辺部のレジスト膜を露光する光源と、この光
源で露光されたレジスト膜を除去する現像液を滴下する
第２のノズルを設けることによって、形成されたウェー
ハのレジスト膜端面に盛り上がりが生ずることなく、ウ
ェーハ周辺部のレジスト膜が完全除去できるという効果
がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示すレジスト膜形成装置の
断面図、第２図（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）はウェーハ上
に形成されたレジスト膜の状態を示すウェーハの断面図
、第３図は本発明の他の実施例を示すレジスト膜形成装
置の断面図、第４図（ａ）及び（ｂ）はウェーハ上に形
成されたレジスト膜の状態を示すウェーハの断面図、第
５図は従来の一例を示すレジスト膜形成装置の断面図、
第６図（ａ）及び（ｂ）はウェーハ上に形成されたレジ
スト膜の状態を示すウェーハの断面図である。 １・・・ノズル、２・・・ウェーハ、３，３ａ・・・光
源、４・・・第２のノズル、５・・・洗浄用ノズル、７
，１２・・・溶剤用ノズル、８・・・カバー、９・・・
排出管、１０・・・スピンチャック、１１・・・レジス
ト膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　半導体ウェーハを保持し、回転させるスピンチャック
   と、前記半導体ウェーハ面の、所定の位置にレジスト液
   を滴下する第１のノズルと、前記半導体ウェーハの周辺
   部に形成されたレジスト膜を露光する光源と、露光され
   た前記レジスト膜の任意の個所に現像液を滴下する第２
   のノズルとを備えることを特徴とするレジスト膜形成装
   置。