JP2008098520A - 周辺露光装置、塗布、現像装置、周辺露光方法及び塗布、現像方法並びに記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】塗布膜(レジスト膜)が形成されたウエハWの周縁部に対して露光処理を行う周辺露光装置4において、スピンチャック41に保持されたウエハWの外縁の位置データを検出するための位置検出手段7と、ウエハWの周縁部に対して露光処理を行うための露光部6と、前記露光された領域に現像液を供給する現像ノズル81と、スピンチャック41を水平方向に移動させるための位置合わせ手段とを備える。前記位置検出手段7によって検出したウエハWの外縁の位置データに基づいて、当該ウエハWの外縁と露光部6との位置関係が一定になるように前記位置合わせ手段を制御しながら、前記露光部6によりスピンチャック41に保持されたウエハWの周縁部に対して露光処理を行う。
【選択図】図7
Description
表面に塗布膜が形成された基板を水平に保持するための基板保持部と、
この基板保持部に保持された基板の外縁の位置データを検出するための位置検出手段と、
前記基板保持部に保持された基板の周縁部に対して露光処理を行うための周辺露光手段と、
前記基板保持部に保持され、前記周縁部に露光処理が行われた基板に対して、その露光された領域に現像液を供給し、前記露光された領域の塗布膜を溶解して除去するための現像液供給手段と、
前記基板保持部に保持された基板と前記周辺露光手段とを相対的に水平方向に移動させるための位置合わせ手段と、
前記周辺露光手段により露光処理を行う際に、前記基板の外縁の位置データに基づいて、基板の外縁と周辺露光手段との位置関係が一定になるように前記位置合わせ手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。
表面に塗布膜が形成された基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
次いで前記基板保持部に保持された基板の外縁の位置データを検出する工程と、
次いで前記基板の外縁の位置データに基づいて、前記基板保持部に保持された基板に対して周辺露光手段を相対的に水平方向に移動させて、前記基板の外縁と前記周辺露光手段との位置関係が一定になるように位置合わせを行ないながら、前記周辺露光手段により基板の周縁部に対して露光処理を行う工程と、
次いで前記基板の外縁の位置データに基づいて、前記基板保持部に保持された基板に対して現像液供給手段を相対的に水平方向に移動させて、前記基板の外縁と前記現像液供給手段との位置関係が一定になるように位置合わせを行ないながら、現像液供給手段により前記基板の周縁部の露光された領域に現像液を供給し、前記露光された領域の塗布膜を溶解して除去する工程と、を含むことを特徴とする。
次いで既述の周辺露光方法を用いて、基板の周縁部の塗布膜を除去する工程と、
次いで前記前記周縁部の塗布膜が除去された基板に対して、基板表面に液層を形成して露光を行う液浸露光処理を行う工程と、
次いで前記液浸露光処理が行われた基板に対して現像処理を行う工程と、を含むことを特徴とする。
前記コンピュータプログラムは、既述の周辺露光方法を実施するようにステップが組まれていることを特徴とする。
同様に、現像液供給時の現像ノズル81と、洗浄液供給時の洗浄ノズル83とについても同様の位置合わせ作業を行い、現像液供給時のウエハWの外縁と現像ノズル81との位置関係が一定になるように、洗浄液供給時のウエハWの外縁と洗浄ノズル83の位置関係が一定になるように夫々前記位置合わせ手段7を制御しながら、常にウエハWの周縁部の予定された領域に現像液、洗浄液を夫々供給して、夫々の作業を行う。
さらに本発明の周辺露光装置4をインターフェイス部に設けることにより、当該周辺露光装置4にて処理されたウエハWを直ちに露光装置B4に搬送することができるので、搬送の際のパーティクルの付着等が抑えられ、より露光装置B4内のパーティクル汚染を抑制した状態で露光処理を行うことができる。
B 反射防止膜
R レジスト膜
20 キャリア
26 反射防止膜形成ユニット
27 塗布ユニット
4 周辺露光装置
41、5 スピンチャック
43 駆動機構
44 基台
45 ガイドレール
46 カップ体
54 塗布液ノズル
55 エッジリンス機構
6 露光部
7 位置検出手段
71 CCDカメラ
81 現像ノズル
83 洗浄ノズル
100 制御手段
Claims (10)
- 塗布膜が形成された基板の周縁部に対して露光処理を行う周辺露光装置において、
表面に塗布膜が形成された基板を水平に保持するための基板保持部と、
この基板保持部に保持された基板の外縁の位置データを検出するための位置検出手段と、
前記基板保持部に保持された基板の周縁部に対して露光処理を行うための周辺露光手段と、
前記基板保持部に保持され、前記周縁部に露光処理が行われた基板に対して、その露光された領域に現像液を供給し、前記露光された領域の塗布膜を溶解して除去するための現像液供給手段と、
前記基板保持部に保持された基板と前記周辺露光手段とを相対的に水平方向に移動させるための位置合わせ手段と、
前記周辺露光手段により露光処理を行う際に、前記基板の外縁の位置データに基づいて、基板の外縁と周辺露光手段との位置関係が一定になるように前記位置合わせ手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする周辺露光装置。 - 前記基板保持部に保持され、前記周縁部の露光処理が行われた基板に対して、前記露光された領域に洗浄液を供給して当該領域を洗浄するための洗浄液供給手段を備えることを特徴とする請求項1記載の周辺露光装置。
- 前記請求項1又は2記載の周辺露光装置を備え、
キャリア載置部にキャリアにより搬入された基板を処理部に受け渡し、この処理部にて前記基板に対して塗布膜の形成を行なった後、前記周辺露光装置において、基板の周縁部の不要な塗布膜に対する露光処理と、この露光が行われた領域の現像処理とを行ない、次いで基板をインターフェイス部を介して露光装置に搬送し、前記インターフェイス部を介して戻ってきた露光処理後の基板を前記処理部にて現像処理して前記キャリア載置部に受け渡すことを特徴とする塗布、現像装置。 - 前記露光装置は、基板表面に液層を形成して露光を行う液浸露光処理が行われる装置であることを特徴とする請求項3記載の塗布、現像装置。
- 前記請求項1又は2記載の周辺露光装置は、前記インターフェイス部に設けられることを特徴とする請求項3又は4記載の塗布、現像装置。
- 前記塗布膜は、反射防止膜とこの上に形成されるレジスト膜とを含むことを特徴とする請求項3ないし5のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 前記周辺露光装置にて処理される基板は、基板表面に反射防止膜形成用の塗布液が塗布された後、基板の周縁部の不要な反射防止膜が除去され、次いでこの反射防止膜の上にレジスト液が塗布された後、基板の周縁部の不要なレジスト膜が除去されているものであることを特徴とする請求項3ないし6のいずれか一に記載の塗布、現像装置。
- 塗布膜が形成された基板に対して、前記基板の周縁部に露光処理を行う周辺露光方法において、
表面に塗布膜が形成された基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
次いで前記基板保持部に保持された基板の外縁の位置データを検出する工程と、
次いで前記基板の外縁の位置データに基づいて、前記基板保持部に保持された基板に対して周辺露光手段を相対的に水平方向に移動させて、前記基板の外縁と前記周辺露光手段との位置関係が一定になるように位置合わせを行ないながら、前記周辺露光手段により基板の周縁部に対して露光処理を行う工程と、
次いで前記基板の外縁の位置データに基づいて、前記基板保持部に保持された基板に対して現像液供給手段を相対的に水平方向に移動させて、前記基板の外縁と前記現像液供給手段との位置関係が一定になるように位置合わせを行ないながら、現像液供給手段により前記基板の周縁部の露光された領域に現像液を供給し、前記露光された領域の塗布膜を溶解して除去する工程と、を含むことを特徴とする周辺露光方法。 - 基板の表面に塗布膜を形成する工程と、
次いで請求項9記載の周辺露光方法を用いて、基板の周縁部の塗布膜を除去する工程と、
次いで前記前記周縁部の塗布膜が除去された基板に対して、基板表面に液層を形成して露光を行う液浸露光処理を行う工程と、
次いで前記液浸露光処理が行われた基板に対して現像処理を行う工程と、を含むことを特徴とする塗布、現像方法。 - 塗布膜が形成された基板の周縁部に対して露光を行う周辺露光装置に用いられ、コンピュータ上で動作するコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項8記載の周辺露光方法を実施するようにステップが組まれていることを特徴とする記憶媒体。
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