JPH0554438A - 光デイスク原盤製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 現像プロセス時における現像液の内外周間で
の不均一拡散を防止すると共に現像ムラのない光ディス
ク原盤の作製を行うことが可能な光ディスク原盤製造装
置を提供する。 【構成】 ガラス基盤１の表面にフォトレジスト４を塗
布し、このフォトレジスト４に光ビームを照射すること
により潜像を形成し、その後現像を行うことにより光デ
ィスク原盤５を作製する光ディスク原盤製造装置におい
て、光ディスク原盤５の回転中心部に対応した位置に現
像液垂直吐出用の第１ノズル孔１１が形成された第１ア
ームノズル１２を配設し、光ディスク原盤５の情報記録
領域の全面に対応した位置に現像液垂直吐出用の多数の
第２ノズル孔１３が形成された第２アームノズル１４を
配設した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、情報の書込み及び読込
みを行う光ディスクの原盤を作製する光ディスク原盤製
造装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ガラス基盤の表面にフォトレジス
トを塗布し、このフォトレジストに光ビームを照射する
ことにより潜像を形成した後、現像を行うことにより光
ディスク原盤の作製を行う光ディスク原盤製造装置にお
いて、その現像プロセス時に現像液を塗布する手段とし
て種々のものが提案されている。例えばその第一の従来
例として、光ディスク原盤の回転中心部に現像液の垂直
吐出を行うノズル孔を有するアームノズルを備えたもの
や、また、その第二の従来例として、アームノズルの側
壁の数個所にノズル孔を設けることにより光ディスク原
盤の全面に渡って現像液を垂直に吐出するものや、さら
に、その第三の従来例として、特開平２−１３４６４０
号公報に開示されているようにアームノズルのノズル孔
の吐出角度がレジスト面に対して鋭角となるように形成
されているものがある。

【０００３】そこで、今、具体例として第一及び第二の
従来例をとって述べる。まず、その第一の従来例を図４
に基づいて述べる。図４（ａ）に示すように、ガラス基
盤１の裏面側は、ターンテーブル２上でこれに形成され
たバキューム孔３からのバキュームによって吸着されて
いる。ガラス基盤１上にはフォトレジスト４がターンテ
ーブル２の回転によって全面に均一に塗布されており、
このフォトレジスト４には原盤露光機により情報用ピッ
トが潜像として記録される。この場合、ガラス基盤１と
フォトレジスト４とにより構成される光ディスク原盤５
の回転中心部に位置して、ノズル孔６を有するＬ字形を
したアームノズル７が配設されている。従って、そのノ
ズル孔６を通して現像液８を垂直に吐出させることによ
って、光ディスク原盤５上の情報記録領域Ａの全面に渡
ってその現像液８が塗布されるようになり、これにより
情報用ピットを形成することができる。

【０００４】また、その第二の従来例を図５に基づいて
説明する。ここでは、上述したようなＬ字形のアームノ
ズル７の代わりに、図５（ａ）に示すように、側壁の数
個所にノズル孔９が形成されたアームノズル１０を用
い、これにより現像液８の塗布を行うようにしたもので
ある。従って、この場合にも、ターンテーブル２の回転
に伴って現像液８は全面に塗布されることになり、情報
用ピットを形成することができる。

【０００５】なお、ここで、上述したような現像プロセ
スの一般的な方法を具体例を上げて述べておく。ガラス
基盤上に密着材としてのＨＭＤＳが塗布され、その上に
ポジ型フォトレジストを０．１６μｍの厚さに塗布し、
熱処理した後、Ａｒレーザ光を用いてレーザカッティン
グによりプリフォーマット部及びプリグルーブ部を潜像
として形成する。その後、ポジ型フォトレジスト用の現
像液を現像液：純水＝１：２で希釈し、これにより記録
された光ディスク原盤上に３０秒間吐出する。その後、
純水を用いて光ディスク原盤の表面をリンスして付着し
た現像液を完全に除去する。このようにして一連の現像
プロセスを行うことができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】第一の従来例（図４参
照）で述べたような光ディスク原盤５の回転中心部に垂
直吐出を行うような方法において、光ディスク原盤５が
回転し、現像液８がフォトレジスト４の面上に吐出され
た直後の状態は、図４（ｂ）に示すように、ノズル孔６
の光ディスク原盤５に対する垂直角のズレによって現像
液８が一方向へ流れやすくなる。このため、現像液８の
吐出直後と全面に渡って現像液８が覆う時間との間にタ
イムラグが発生し、その塗布終了後に外観上のムラが生
じていた。そこで、そのようなタイムラグをなくすため
に、回転を高速に設定すると、フォトレジスト４の面に
現像液８を吐出した際に飛散し、その結果、未現像部と
現像部との間に現像ムラが発生してしまうことになる。

【０００７】また、第二の従来例（図５参照）で述べた
ようなアームノズル１０に数個所のノズル孔９を設けて
垂直吐出するような方法においては、前述した第一の従
来例の場合と同様にタイムラグが発生し、外観上のムラ
が発生していた。また、図６は図５（ａ）に示すような
塗布の状態が全面に形成され、３０秒現像した時の現像
ムラの状態をノズル孔９との位置関係で表わしたもので
ある。この場合、ノズル孔９に位置するところは、フォ
トレジスト４の膜減が大きく、ノズル位置から離れた位
置では膜減が小さいことから、図６（ｂ）に示すような
現像ムラが現れることになる。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明で
は、ガラス基盤の表面にフォトレジストを塗布し、この
フォトレジストに光ビームを照射することにより潜像を
形成し、その後現像を行うことにより光ディスク原盤を
作製する光ディスク原盤製造装置において、前記光ディ
スク原盤の回転中心部に対応した位置に現像液垂直吐出
用の第１ノズル孔が形成された第１アームノズルを配設
し、前記光ディスク原盤の情報記録領域の全面に対応し
た位置に現像液垂直吐出用の多数の第２ノズル孔が形成
された第２アームノズルを配設した。

【０００９】請求項２記載の発明では、請求項１記載の
発明において、第２ノズル孔を光ディスク原盤の情報記
録領域の内外周よりも広い範囲に渡って形成した。

【００１０】請求項３記載の発明では、請求項１記載の
発明において、第２ノズル孔の孔径をφd とし、そのノ
ズルの径方向のピッチをＰとした時、 Ｐ＜φd の条件を満たすように前記第２ノズル孔を径方向に配列
した。

【００１１】

【作用】請求項１記載の発明においては、現像液の光デ
ィスク原盤への供給は、第１ノズル孔及び第２ノズル孔
を用いて光ディスク原盤の内外周の全面に渡って同時に
塗布することができるため、これにより瞬時拡散が可能
となり現像ムラの発生がなく均一な現像を行うことが可
能となる。

【００１２】請求項２記載の発明においては、光ディス
ク原盤の情報記録範囲以上の領域に渡って第２ノズル孔
を配置することにより、現像による膜減りが均一とな
り、これにより現像ムラをなくすことができる。

【００１３】請求項３記載の発明においては、第２ノズ
ル孔の配列をＰ＜φdの条件でしかも円周方向に多数取
付けることにより環状ムラがなくなり、現像液の広がり
時間を短縮でき均一な光ディスク原盤を作製することが
可能となる。

【００１４】

【実施例】本発明の一実施例を図１〜図３に基づいて説
明する。なお、従来例（図４及び図５参照）と同一部分
については同一符号を用い、その同一部分についての説
明は省略する。

【００１５】ガラス基盤１の表面にフォトレジスト４を
塗布してなる光ディスク原盤５の回転中心部に対応した
位置には、現像液垂直吐出用の第１ノズル孔１１が先端
部に形成されたＬ字形の第１アームノズル１２が配設さ
れている。また、前記光ディスク原盤５の情報記録領域
Ａの全面に対応した位置には、現像液垂直吐出用の多数
の第２ノズル孔１３が形成された第２アームノズル１４
が配設されている。

【００１６】このような構成において、現像プロセス時
には、ターンテーブル２の回転に伴って光ディスク原盤
５が回転し、その上部に配置された第１ノズル孔１１及
び第２ノズル孔１３から現像液８が同時に吐出されるた
め、これにより現像液８は情報記録領域Ａの全面に渡っ
て同時に接触して供給されることになる。そして、この
ようにして光ディスク原盤５の記録面に現像液８が拡散
された後、第２アームノズル１４の電磁弁１５を閉じ、
その後はＬ字形の第１アームノズル１２側のみから現像
液８の吐出を行うことにより現像プロセスを終了する。
なお、現像液８の消費を考えないならば、電磁弁１５を
閉じずに連続的に使用してもよい。

【００１７】従って、このように現像液８の光ディスク
原盤５への供給は、第１ノズル孔１１及び第２ノズル孔
１３を用いて光ディスク原盤５の内外周の全面に渡って
同時に塗布することができるため、瞬時拡散が可能とな
り、現像ムラの発生がなく均一な現像を行うことが可能
となる。また、第２アームノズル１４は多数の第２ノズ
ル孔１３を有するため現像液８の量は多くなるが、一旦
全面に渡って広げられた後は吐出を停止することができ
るため、実際には現像液８をそれほど大量には必要とし
ない。

【００１８】次に、前述した第２ノズル孔１３の配列の
変形例について述べる。図３は、第２ノズル孔１３を光
ディスク原盤５の情報記録領域Ａの内外周よりも広い範
囲に渡って形成し、しかも、この場合、第２ノズル孔１
３は、その第２ノズル孔１３の孔径をφd とし、そのノ
ズルの径方向のピッチをＰとした時、Ｐ＜φd の条件を
満たすように径方向Ｘに配列されている。

【００１９】この場合、ターンテーブル２の回転のタイ
ムラグを少なくするために、円周方向は４０°の方向に
一周当り９個所形成されている。また、ここでは、ター
ンテーブル２の回転は１５０ｒｐｍで回転されるため、
現像液８が情報記録領域Ａに塗布されるのに、従来の方
式では一回転するのに０．４ｓを費やすが、本実施例の
ような２ノズル方式の場合には０．０４５ｓ（０．４ｓ
／９個所）で全面に塗布される。なお、一回転するのに
０．１ｓ以下を満足するには、分割数を４個所以上とす
ればよい。

【００２０】上述したように、光ディスク原盤５の情報
記録領域Ａ以上に渡って第２ノズル孔１３を配置するこ
とにより、現像による膜減りが均一となり、これにより
現像ムラをなくすことが可能となる。また、第２ノズル
孔１３の配列を、Ｐ＜φd の条件でしかも円周方向に多
数形成することによって、環状ムラをなくすことがで
き、これにより現像液８の広がり時間を短縮できると共
に、膜厚の均一な光ディスク原盤５を作製することがで
きるようになる。

【００２１】

【発明の効果】請求項１記載の発明は、ガラス基盤の表
面にフォトレジストを塗布し、このフォトレジストに光
ビームを照射することにより潜像を形成し、その後現像
を行うことにより光ディスク原盤を作製する光ディスク
原盤製造装置において、前記光ディスク原盤の回転中心
部に対応した位置に現像液垂直吐出用の第１ノズル孔が
形成された第１アームノズルを配設し、前記光ディスク
原盤の情報記録領域の全面に対応した位置に現像液垂直
吐出用の多数の第２ノズル孔が形成された第２アームノ
ズルを配設したので、現像液の光ディスク原盤への供給
は、第１ノズル孔及び第２ノズル孔を用いて光ディスク
原盤の内外周の全面に渡って同時に塗布することができ
るため、これにより瞬時拡散が可能となり、現像ムラの
発生がなく膜厚の均一な現像を行うことが可能となるも
のである。

【００２２】請求項２記載の発明は、第２ノズル孔を光
ディスク原盤の情報記録領域の内外周よりも広い範囲に
渡って形成したので、現像による膜減りを均一とするこ
とができ、これにより現像ムラをなくすことが可能とな
るものである。

【００２３】請求項３記載の発明は、第２ノズル孔の孔
径をφd とし、そのノズルの径方向のピッチをＰとした
時、Ｐ＜φd の条件を満たすように第２ノズル孔を径方
向に配列したので、環状ムラがなくなり、現像液の広が
り時間を短縮でき均一な光ディスク原盤を作製すること
が可能となるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である光ディスク原盤製造装
置の一例を示す側面図である。

【図２】光ディスク原盤上に現像液が塗布される状態を
第１ノズル孔の側から見た場合の様子を示す平面図であ
る。

【図３】第２ノズル孔の配列の状態を示す底面図であ
る。

【図４】（ａ）は第一の従来例を示す側面図、（ｂ）は
その平面図である。

【図５】（ａ）は第二の従来例を示す側面図、（ｂ）は
その平面図である。

【図６】（ａ）は図５の現像プロセス時の様子を示す側
面図、（ｂ）はその現像により光ディスク原盤上で現像
ムラが発生している様子を示す平面図である。

【符号の説明】

１ ガラス基盤 ４ フォトレジスト ５ 光ディスク原盤 １１ 第１ノズル孔 １２ 第１アームノズル １３ 第２ノズル孔 １４ 第２アームノズル

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラス基盤の表面にフォトレジストを塗
   布し、このフォトレジストに光ビームを照射することに
   より潜像を形成し、その後現像を行うことにより光ディ
   スク原盤を作製する光ディスク原盤製造装置において、
   前記光ディスク原盤の回転中心部に対応した位置に現像
   液垂直吐出用の第１ノズル孔が形成された第１アームノ
   ズルを配設し、前記光ディスク原盤の情報記録領域の全
   面に対応した位置に現像液垂直吐出用の多数の第２ノズ
   ル孔が形成された第２アームノズルを配設したことを特
   徴とする光ディスク原盤製造装置。
2. 【請求項２】 第２ノズル孔を光ディスク原盤の情報記
   録領域の内外周よりも広い範囲に渡って形成したことを
   特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤製造装置。
3. 【請求項３】 第２ノズル孔の孔径をφd とし、そのノ
   ズルの径方向のピッチをＰとした時、 Ｐ＜φd の条件を満たすように前記第２ノズル孔を径方向に配列
   したことを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤製
   造装置。