JP2545677B2 - フォトレジストの塗布方法 - Google Patents
フォトレジストの塗布方法Info
- Publication number
- JP2545677B2 JP2545677B2 JP4261686A JP26168692A JP2545677B2 JP 2545677 B2 JP2545677 B2 JP 2545677B2 JP 4261686 A JP4261686 A JP 4261686A JP 26168692 A JP26168692 A JP 26168692A JP 2545677 B2 JP2545677 B2 JP 2545677B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoresist
- rpm
- glass substrate
- predetermined time
- speed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フォトレジストの塗布
方法に係り、詳しくは光学式記録ディスクの製作過程に
おいて、ガラス基盤面にフォトレジスト膜を形成するた
めのフォトレジストの塗布方法に関する。
方法に係り、詳しくは光学式記録ディスクの製作過程に
おいて、ガラス基盤面にフォトレジスト膜を形成するた
めのフォトレジストの塗布方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学式記録ディスクの製作は、先ず原盤
（マスタ）の製作から始まり、メタルマスタ、マザーを
経てスタンパを作り、このスタンパを用いてディスクの
製作がおこなわれている。原盤には、表面を精密に仕上
げたガラス基盤が用いられており、通常、その表面に塩
化第一錫のような定着材を塗布し、更に回転させながら
表面を水で洗い流して残った定着材を除去し乾燥させ
る。
（マスタ）の製作から始まり、メタルマスタ、マザーを
経てスタンパを作り、このスタンパを用いてディスクの
製作がおこなわれている。原盤には、表面を精密に仕上
げたガラス基盤が用いられており、通常、その表面に塩
化第一錫のような定着材を塗布し、更に回転させながら
表面を水で洗い流して残った定着材を除去し乾燥させ
る。
【０００３】次に、定着材によってフォトレジストが付
着し易くなった表面に光に感光物質であるフォトレジス
トを塗布してガラス基盤の表面に一定の厚さのフォトレ
ジスト膜を形成する。
着し易くなった表面に光に感光物質であるフォトレジス
トを塗布してガラス基盤の表面に一定の厚さのフォトレ
ジスト膜を形成する。
【０００４】フォトレジストを塗布する方法は、通常、
図４に示すように、モータ１の回転軸に取り付けられた
回転板１ａ上にガラス基盤２を載せて略４０ｒｐｍの低
速回転で回転させ、アーム３をガラス基盤２の端部から
中心部まで移動させながらアーム３の先端部からレジス
トを滴下して塗布する。そして、次にガラス基盤２を約
３００ｒｐｍの高速で３００ｓｅｃ程度回転させてフォ
トレジスト膜の厚みの均一化を図るとともに乾燥をおこ
なっている。なお、レジスト膜の厚さは 0.1μｍ程度で
ある。
図４に示すように、モータ１の回転軸に取り付けられた
回転板１ａ上にガラス基盤２を載せて略４０ｒｐｍの低
速回転で回転させ、アーム３をガラス基盤２の端部から
中心部まで移動させながらアーム３の先端部からレジス
トを滴下して塗布する。そして、次にガラス基盤２を約
３００ｒｐｍの高速で３００ｓｅｃ程度回転させてフォ
トレジスト膜の厚みの均一化を図るとともに乾燥をおこ
なっている。なお、レジスト膜の厚さは 0.1μｍ程度で
ある。
【０００５】次に、このフォトレジストを塗布したガラ
ス基盤２を回転させ、フォトレジスト層にアルゴンレー
ザやＨｅ−Ｃｄレーザ等によるレーザ光のスポットをＯ
Ｎ・ＯＦＦ照射して情報を記録する。このようにして情
報が記録された原盤（マスタ）を現像処理すると光の当
たったところが溶けだして（ポジ形レジストの場合）、
ピットが形成される。この原盤をもとにメッキをおこな
い、いわゆる電鋳プロセスを経てメタルマスタが完成
し、メタルマスタからマザーが作られ、マザーからスタ
ンパが製作される。
ス基盤２を回転させ、フォトレジスト層にアルゴンレー
ザやＨｅ−Ｃｄレーザ等によるレーザ光のスポットをＯ
Ｎ・ＯＦＦ照射して情報を記録する。このようにして情
報が記録された原盤（マスタ）を現像処理すると光の当
たったところが溶けだして（ポジ形レジストの場合）、
ピットが形成される。この原盤をもとにメッキをおこな
い、いわゆる電鋳プロセスを経てメタルマスタが完成
し、メタルマスタからマザーが作られ、マザーからスタ
ンパが製作される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
に低速回転でフォトレジストを塗布し、高速回転で振り
切り乾燥するようにすると、エリプソメータによる測定
によれば図２のＡに示すように、レジスト膜の厚さが半
径方向に向かって段々厚くなっていき、基盤の中心から
５０ｍｍのところと１５０ｍｍところでは厚さで４０〜
５０Å程の違いが出ている。また、半径１００ｍｍのと
ころの円周方向をレーザ光を照射して反射光をオシロス
コープで観測すると、図３（ａ）に示すように、かなり
の凹凸が観測される。このような原盤の段階での欠陥
は、これをマスタとして作る全てのディスクに影響がで
るため大きな問題となっている。
に低速回転でフォトレジストを塗布し、高速回転で振り
切り乾燥するようにすると、エリプソメータによる測定
によれば図２のＡに示すように、レジスト膜の厚さが半
径方向に向かって段々厚くなっていき、基盤の中心から
５０ｍｍのところと１５０ｍｍところでは厚さで４０〜
５０Å程の違いが出ている。また、半径１００ｍｍのと
ころの円周方向をレーザ光を照射して反射光をオシロス
コープで観測すると、図３（ａ）に示すように、かなり
の凹凸が観測される。このような原盤の段階での欠陥
は、これをマスタとして作る全てのディスクに影響がで
るため大きな問題となっている。
【０００７】本発明は、均一の厚さのレジスト膜をガラ
ス基盤面に形成するフォトレジストの塗布方法を提供す
ることを目的としている。
ス基盤面に形成するフォトレジストの塗布方法を提供す
ることを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に係わるフォトレ
ジストの塗布方法は、光学式記録ディスクの製作過程に
おけるガラス基盤面にフォトレジスト膜を形成するため
のフォトレジストの塗布方法であって、ガラス基盤面に
所定粘度のフォトレジストを塗布しながら、ガラス基盤
を低速度で所定時間回転させる塗布工程と、フォトレジ
ストの塗布を停止した後、ガラス基盤を中速度で所定時
間回転させて膜厚を均一にする膜厚均一化工程と、更
に、ガラス基盤を高速度で所定時間回転させて乾燥させ
る乾燥工程とを備えたことを特徴とする。
ジストの塗布方法は、光学式記録ディスクの製作過程に
おけるガラス基盤面にフォトレジスト膜を形成するため
のフォトレジストの塗布方法であって、ガラス基盤面に
所定粘度のフォトレジストを塗布しながら、ガラス基盤
を低速度で所定時間回転させる塗布工程と、フォトレジ
ストの塗布を停止した後、ガラス基盤を中速度で所定時
間回転させて膜厚を均一にする膜厚均一化工程と、更
に、ガラス基盤を高速度で所定時間回転させて乾燥させ
る乾燥工程とを備えたことを特徴とする。
【０００９】また、本発明に係わるフォトレジストの塗
布方法は、請求項１記載のフォトレジストの塗布方法に
おいて、前記フォトレジストは、粘度略２０センチポア
ズのフォトレジストとシンナーとを１体１１程の割合で
混合希釈したものであり、かつ前記塗布工程における低
速度は３５ｒｐｍ乃至４５ｒｐｍ、所定時間は略３０ｓ
ｅｃとし、また前記膜厚均一化工程における中速度は１
３５ｒｐｍ乃至１６５ｒｐｍ、所定時間は略３０ｓｅｃ
とし、更に前記乾燥工程における高速度は２００ｒｐｍ
乃至７００ｒｐｍ、所定時間は略２１０ｓｅｃとしたこ
とを特徴とする。
布方法は、請求項１記載のフォトレジストの塗布方法に
おいて、前記フォトレジストは、粘度略２０センチポア
ズのフォトレジストとシンナーとを１体１１程の割合で
混合希釈したものであり、かつ前記塗布工程における低
速度は３５ｒｐｍ乃至４５ｒｐｍ、所定時間は略３０ｓ
ｅｃとし、また前記膜厚均一化工程における中速度は１
３５ｒｐｍ乃至１６５ｒｐｍ、所定時間は略３０ｓｅｃ
とし、更に前記乾燥工程における高速度は２００ｒｐｍ
乃至７００ｒｐｍ、所定時間は略２１０ｓｅｃとしたこ
とを特徴とする。
【００１０】
【作用】上述のように構成されているので、低速回転中
にガラス基盤面に塗布されたフォトレジストを、中速回
転で厚さを均一にしつつ、更に高速回転で乾燥させてい
くと、ガラス基盤面に厚さの均一なフォトレジスト膜を
形成すことができる。
にガラス基盤面に塗布されたフォトレジストを、中速回
転で厚さを均一にしつつ、更に高速回転で乾燥させてい
くと、ガラス基盤面に厚さの均一なフォトレジスト膜を
形成すことができる。
【００１１】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。なお、従来の技術のところで説明したもの
と同一部分には同一符号を付す。
て説明する。なお、従来の技術のところで説明したもの
と同一部分には同一符号を付す。
【００１２】図１には、本発明実施例のフォトレジスト
の塗布方法の工程がタイムチャートとして示されてい
る。本発明の実施例に用いるフォトレジストの塗布装置
は、従来の技術のところで説明した図４に示す装置が用
いられており、先ず、モータ１の回転軸に取り付けられ
た回転板１ａ上に表面を精密に仕上げられたガラス基盤
（直径３６０ｍｍ）２を載せる。そして、図１に示すよ
うに、塗布工程である第１の工程としてガラス基盤２を
第１の速度である約４０ｒｐｍの低速回転で回転させ、
同時にアーム３をガラス基盤２の端部から中心部までア
ーム３の先端部からレジストを基盤面に滴下させながら
約３０ｓｅｃで移動させてレジストを塗布する。なお、
ここで用いたフォトレジストはシィプレー社製のＳ−１
４００−３１（粘度５〜２０センチポアズ）とシンナー
とを１：１１程度の割合で混合し希釈したものである。
の塗布方法の工程がタイムチャートとして示されてい
る。本発明の実施例に用いるフォトレジストの塗布装置
は、従来の技術のところで説明した図４に示す装置が用
いられており、先ず、モータ１の回転軸に取り付けられ
た回転板１ａ上に表面を精密に仕上げられたガラス基盤
（直径３６０ｍｍ）２を載せる。そして、図１に示すよ
うに、塗布工程である第１の工程としてガラス基盤２を
第１の速度である約４０ｒｐｍの低速回転で回転させ、
同時にアーム３をガラス基盤２の端部から中心部までア
ーム３の先端部からレジストを基盤面に滴下させながら
約３０ｓｅｃで移動させてレジストを塗布する。なお、
ここで用いたフォトレジストはシィプレー社製のＳ−１
４００−３１（粘度５〜２０センチポアズ）とシンナー
とを１：１１程度の割合で混合し希釈したものである。
【００１３】そして、フォトレジストの塗布を停止した
後、次に膜厚均一化工程である第２の工程として、ガラ
ス基盤２を第２の速度である約１５０ｒｐｍの中速回転
で約３０ｓｅｃ回転させて膜厚の均一化を図る。更に乾
燥工程である第３の工程として、ガラス基盤２を第３の
速度である約３００ｒｐｍの高速回転で約２１０ｓｅｃ
回転させて乾燥をさせて、ガラス基盤２面にフォトレジ
スト膜を形成する。
後、次に膜厚均一化工程である第２の工程として、ガラ
ス基盤２を第２の速度である約１５０ｒｐｍの中速回転
で約３０ｓｅｃ回転させて膜厚の均一化を図る。更に乾
燥工程である第３の工程として、ガラス基盤２を第３の
速度である約３００ｒｐｍの高速回転で約２１０ｓｅｃ
回転させて乾燥をさせて、ガラス基盤２面にフォトレジ
スト膜を形成する。
【００１４】このようにして塗布されたフォトレジスト
膜の厚さを、エリプソメータにより測定すると、図２の
Ｂに示すように、半径方向に向かって略0.１３５μｍの
均一の厚さとなっており、基盤の中心から５０ｍｍのと
ころと１５０ｍｍところで比較して従来と比べて５０Å
程の分布が改良できたことになる。また、半径１００ｍ
ｍのところの円周方向をレーザ光を照射して反射光をオ
シロスコープで観測すると、図３（ｂ）に示すように、
凹凸がかなり改良されており、膜厚として２０Å程度の
改良がなされている。
膜の厚さを、エリプソメータにより測定すると、図２の
Ｂに示すように、半径方向に向かって略0.１３５μｍの
均一の厚さとなっており、基盤の中心から５０ｍｍのと
ころと１５０ｍｍところで比較して従来と比べて５０Å
程の分布が改良できたことになる。また、半径１００ｍ
ｍのところの円周方向をレーザ光を照射して反射光をオ
シロスコープで観測すると、図３（ｂ）に示すように、
凹凸がかなり改良されており、膜厚として２０Å程度の
改良がなされている。
【００１５】なお、本実施例では、第１の工程中の第１
の速度を４０ｒｐｍ、第２の工程中の第２の速度を１５
０ｒｐｍ、第３の工程中の第３の速度を３００ｒｐｍと
したが、第１の速度を３５〜４５ｒｐｍの範囲、第２の
速度を１３５〜１６５ｒｐｍの範囲、第３の速度を２０
０〜７００ｒｐｍの範囲で実施しても同様な効果を得る
ことができる。
の速度を４０ｒｐｍ、第２の工程中の第２の速度を１５
０ｒｐｍ、第３の工程中の第３の速度を３００ｒｐｍと
したが、第１の速度を３５〜４５ｒｐｍの範囲、第２の
速度を１３５〜１６５ｒｐｍの範囲、第３の速度を２０
０〜７００ｒｐｍの範囲で実施しても同様な効果を得る
ことができる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるフォ
トレジストの塗布方法によると、ガラス基盤面のフォト
レジスト膜の厚さが半径方向及び円周方向についても均
一となり膜厚ムラ（ヌトリエイションを含む）が減少
し、ディスクの原盤としての精度の向上が図れた。
トレジストの塗布方法によると、ガラス基盤面のフォト
レジスト膜の厚さが半径方向及び円周方向についても均
一となり膜厚ムラ（ヌトリエイションを含む）が減少
し、ディスクの原盤としての精度の向上が図れた。
【図１】本発明実施例の工程を表すタイムチャートであ
る。
る。
【図２】従来の塗布方法と本実施例による塗布方法とに
より形成されたフォトレジストの膜厚を示す図である。
より形成されたフォトレジストの膜厚を示す図である。
【図３】（Ａ）は従来の塗布方法によって形成されたフ
ォトレジストの膜厚を基盤の円周方向に対して測定した
図、（Ｂ）は本実施例による図である。
ォトレジストの膜厚を基盤の円周方向に対して測定した
図、（Ｂ）は本実施例による図である。
【図４】フォトレジストをガラス基盤面に塗布する装置
である。
である。
１ モータ ２ ガラス基盤 ３ アーム
Claims (2)
- 【請求項１】 光学式記録ディスクの製作過程における
ガラス基盤面にフォトレジスト膜を形成するためのフォ
トレジストの塗布方法であって、 ガラス基盤面に所定粘度のフォトレジストを塗布しなが
ら、ガラス基盤を低速度で所定時間回転させる塗布工程
と、フォトレジストの徐布を停止した後、ガラス基盤を中速
度で所定時間回転させて膜厚を均一にする膜厚均一化工
程と、 更に、ガラス基盤を高速度で所定時間回転させて乾燥さ
せる乾燥工程と、 を備えたことを特徴とするフォトレジストの塗布方法。 - 【請求項２】 前記フォトレジストは、粘度略２０セン
チポアズのフォトレジストとシンナーとを１体１１程の
割合で混合希釈したものであり、かつ前記塗布工程にお
ける低速度は３５ｒｐｍ乃至４５ｒｐｍ、所定時間は略
３０ｓｅｃとし、また前記膜厚均一化工程における中速
度は１３５ｒｐｍ乃至１６５ｒｐｍ、所定時間は略３０
ｓｅｃとし、更に前記乾燥工程における高速度は２００
ｒｐｍ乃至７００ｒｐｍ、所定時間は略２１０ｓｅｃと
したことを特徴とする請求項１記載のフォトレジストの
塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4261686A JP2545677B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | フォトレジストの塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4261686A JP2545677B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | フォトレジストの塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06111382A JPH06111382A (ja) | 1994-04-22 |
| JP2545677B2 true JP2545677B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=17365318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4261686A Expired - Lifetime JP2545677B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | フォトレジストの塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2545677B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0246366B2 (ja) * | 1980-08-11 | 1990-10-15 | Discovision Ass |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP4261686A patent/JP2545677B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06111382A (ja) | 1994-04-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960430 |