JP2003021917A - 光記録媒体用スタンパの製造方法 - Google Patents
光記録媒体用スタンパの製造方法Info
- Publication number
- JP2003021917A JP2003021917A JP2001208094A JP2001208094A JP2003021917A JP 2003021917 A JP2003021917 A JP 2003021917A JP 2001208094 A JP2001208094 A JP 2001208094A JP 2001208094 A JP2001208094 A JP 2001208094A JP 2003021917 A JP2003021917 A JP 2003021917A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- hmds
- coating
- stamper
- optical recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レジストとガラス原盤の密着性を向上するこ
とで歩留り良く光記録媒体用スタンパを製造することが
可能な光記録媒体用スタンパの製造方法を提供する。 【解決手段】 ガラス原盤上に塗布されたフォトレジス
ト膜に、変調されたレーザ光により露光後現像して所定
の凹凸パターンを形成した後、電鋳によりスタンパを製
造する光記録媒体用スタンパの製造方法において、レジ
スト塗布前にガラス原盤表面のシリル化を行うHMDS
塗布を複数回行う。
とで歩留り良く光記録媒体用スタンパを製造することが
可能な光記録媒体用スタンパの製造方法を提供する。 【解決手段】 ガラス原盤上に塗布されたフォトレジス
ト膜に、変調されたレーザ光により露光後現像して所定
の凹凸パターンを形成した後、電鋳によりスタンパを製
造する光記録媒体用スタンパの製造方法において、レジ
スト塗布前にガラス原盤表面のシリル化を行うHMDS
塗布を複数回行う。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体用スタ
ンパの製造方法に関する。
ンパの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、CD、LD、MO、MD、DVD
等に代表される高密度記録媒体としての光記録媒体は、
情報量の増大に伴いフロッピー(登録商標)ディスク、
磁気テープ等からの代替が進みその市場は拡大し続けて
いる。光記録媒体市場が拡大している原因は、記録情報
の保存安定性、記録の高容量化に加え光記録媒体の低価
格化があり、これらは恒久的に光記録媒体に要求され
る。光記録媒体には、記録層の特性により再生専用形、
追記形、書換形の種類があるが、その製造方法はいずれ
もスタンパから大量に光記録媒体を複製することで共通
している。よって、スタンパを歩留まりよく安価に製造
する製造方法の改善は、広範囲な光記録媒体に適用で
き、光記録媒体の低価格化に極めて大きな効果がある。
等に代表される高密度記録媒体としての光記録媒体は、
情報量の増大に伴いフロッピー(登録商標)ディスク、
磁気テープ等からの代替が進みその市場は拡大し続けて
いる。光記録媒体市場が拡大している原因は、記録情報
の保存安定性、記録の高容量化に加え光記録媒体の低価
格化があり、これらは恒久的に光記録媒体に要求され
る。光記録媒体には、記録層の特性により再生専用形、
追記形、書換形の種類があるが、その製造方法はいずれ
もスタンパから大量に光記録媒体を複製することで共通
している。よって、スタンパを歩留まりよく安価に製造
する製造方法の改善は、広範囲な光記録媒体に適用で
き、光記録媒体の低価格化に極めて大きな効果がある。
【0003】図1に一般的な光記録媒体用スタンパの製
造方法を示す。図1(a)〜(b)に示すようにガラス
母材を精密研磨、精密洗浄したガラス原盤1にレジスト
を塗布してフォトレジスト膜2を形成し、レジスト原盤
を作製する。次に図1(c)〜(e)に示すように、原
盤露光装置を使って所定の変調された露光ビーム4を対
物レンズ3で集光してフォトレジスト膜2を露光した
後、これを現像することで、ピットやグルーブの微細凹
凸パターンを形成する。その後、前記凹凸パターンを無
電解メッキや電鋳等により形成される金属層5に転写
し、得られた金属層をレジスト原盤からを剥離すること
で光記録媒体用スタンパを得る。
造方法を示す。図1(a)〜(b)に示すようにガラス
母材を精密研磨、精密洗浄したガラス原盤1にレジスト
を塗布してフォトレジスト膜2を形成し、レジスト原盤
を作製する。次に図1(c)〜(e)に示すように、原
盤露光装置を使って所定の変調された露光ビーム4を対
物レンズ3で集光してフォトレジスト膜2を露光した
後、これを現像することで、ピットやグルーブの微細凹
凸パターンを形成する。その後、前記凹凸パターンを無
電解メッキや電鋳等により形成される金属層5に転写
し、得られた金属層をレジスト原盤からを剥離すること
で光記録媒体用スタンパを得る。
【0004】次に、前記スタンパ製造工程のレジスト塗
布工程について図2を用いて詳細に述べる。レジスト塗
布工程では図2(a)〜(c)に示すように、ガラス原
盤1とフォトレジスト膜2との密着性を向上させるた
め、レジスト塗布前にガラス原盤1の表面にHMDS
(ヘキサメチルジシラザン)を塗布する。HMDSは、
光記録媒体用だけではなく半導体製造工程のレジストの
密着強化剤として一般的に使用されている。ガラス原盤
1に塗布されたHMDSは、ガラス表面の水酸基をシリ
ル化するため、余分なHMDSを振り切った後は分子レ
ベルでガラス表面を改質することになる。その後、図2
(d)〜(e)に示すように、レジストをスピンコート
により均一な膜厚に塗布してフォトレジスト膜2を形成
し、ベークによりレジスト溶剤を蒸発しレジスト付きガ
ラス原盤(レジスト原盤)としてレーザ露光に使用され
る。
布工程について図2を用いて詳細に述べる。レジスト塗
布工程では図2(a)〜(c)に示すように、ガラス原
盤1とフォトレジスト膜2との密着性を向上させるた
め、レジスト塗布前にガラス原盤1の表面にHMDS
(ヘキサメチルジシラザン)を塗布する。HMDSは、
光記録媒体用だけではなく半導体製造工程のレジストの
密着強化剤として一般的に使用されている。ガラス原盤
1に塗布されたHMDSは、ガラス表面の水酸基をシリ
ル化するため、余分なHMDSを振り切った後は分子レ
ベルでガラス表面を改質することになる。その後、図2
(d)〜(e)に示すように、レジストをスピンコート
により均一な膜厚に塗布してフォトレジスト膜2を形成
し、ベークによりレジスト溶剤を蒸発しレジスト付きガ
ラス原盤(レジスト原盤)としてレーザ露光に使用され
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、HMD
Sは水により分解するため、保管方法、塗布方法、ガラ
ス表面状態等によって影響を受け易いため取り扱いが難
しい。そのため、前記従来方法で行ったHMDS塗布に
は不具合が生じ易く、その後の現像工程でレジストが剥
離したり、電鋳工程、スタンパ裏面研磨工程等でスタン
パが剥離してスタンパ製造工程の歩留まりが悪化すると
いう問題があった。
Sは水により分解するため、保管方法、塗布方法、ガラ
ス表面状態等によって影響を受け易いため取り扱いが難
しい。そのため、前記従来方法で行ったHMDS塗布に
は不具合が生じ易く、その後の現像工程でレジストが剥
離したり、電鋳工程、スタンパ裏面研磨工程等でスタン
パが剥離してスタンパ製造工程の歩留まりが悪化すると
いう問題があった。
【0006】レジストの密着性を向上する方法として
は、HMDS塗布の処理条件を厳密に管理する以外に、
HMDSをスプレーコートする方法も一般的に知られて
いる。また、特開平5−89534号公報に開示したよ
うに、記録領域以外のガラス原盤表面をエッチングして
その表面を粗くすることで密着性を向上する方法もあ
る。しかし、スプレーコートは装置のコスト増や密閉化
処理等の問題があり、エッチング処理では工程が増える
ことやエッチング時の異物付着の問題があった。
は、HMDS塗布の処理条件を厳密に管理する以外に、
HMDSをスプレーコートする方法も一般的に知られて
いる。また、特開平5−89534号公報に開示したよ
うに、記録領域以外のガラス原盤表面をエッチングして
その表面を粗くすることで密着性を向上する方法もあ
る。しかし、スプレーコートは装置のコスト増や密閉化
処理等の問題があり、エッチング処理では工程が増える
ことやエッチング時の異物付着の問題があった。
【0007】本発明は、前記従来技術に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、特別な装置を必要とせず、レ
ジストとガラス原盤との密着性を改善し、スタンパ製造
歩留まりを向上する光記録媒体用スタンパの製造方法を
提供することである。
ものであり、その目的は、特別な装置を必要とせず、レ
ジストとガラス原盤との密着性を改善し、スタンパ製造
歩留まりを向上する光記録媒体用スタンパの製造方法を
提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の光記録媒体用ス
タンパの製造方法は、前記課題を解決するためになされ
たものであり、レジスト塗布前のガラス原盤表面に施す
HMDS塗布を2回以上行うことでレジストとガラス原
盤との密着性を向上させるものである。
タンパの製造方法は、前記課題を解決するためになされ
たものであり、レジスト塗布前のガラス原盤表面に施す
HMDS塗布を2回以上行うことでレジストとガラス原
盤との密着性を向上させるものである。
【0009】すなわち、本発明は、ガラス原盤上に塗布
されたフォトレジスト膜に、変調されたレーザ光により
露光後現像して所定の凹凸パターンを形成した後、電鋳
により前記凹凸パターン上に金属層を形成する光記録媒
体用スタンパの製造方法において、レジスト塗布前のガ
ラス原盤表面にHMDS塗布を2回以上行うことを特徴
とする光記録媒体用スタンパの製造方法である。
されたフォトレジスト膜に、変調されたレーザ光により
露光後現像して所定の凹凸パターンを形成した後、電鋳
により前記凹凸パターン上に金属層を形成する光記録媒
体用スタンパの製造方法において、レジスト塗布前のガ
ラス原盤表面にHMDS塗布を2回以上行うことを特徴
とする光記録媒体用スタンパの製造方法である。
【0010】なお、HMDS塗布の塗布方法としてスピ
ンコートを用いる場合は、本発明の光記録媒体用スタン
パの製造方法は、図1に示した従来の工程と比較して、
特別な装置や製造条件を導入する必要がない点で非常に
有用である。
ンコートを用いる場合は、本発明の光記録媒体用スタン
パの製造方法は、図1に示した従来の工程と比較して、
特別な装置や製造条件を導入する必要がない点で非常に
有用である。
【0011】以下、本発明をさらに詳細に説明する。
【0012】図3に本発明の製造工程の一例を示す。こ
の図3に示す工程は、従来の図2に示した(b)〜
(c)の工程を2回繰り返したものである。図3の
(b)〜(c)に示したように清浄なガラス原盤1上
に、ガラス原盤の中心に配置されたHMDS吐出ノズル
6からHMDS溶液7を垂らし、スピンコートにより余
分なHMDS溶液7を振り切る。この時にHMDSがガ
ラス表面の水酸基をシリル化し、分子レベルで表面改質
した1回コート後のHMDS層8を形成する。次に図3
の(d)〜(e)に示したように再度HMDS溶液7を
スピンコートし、2回コート後のHMDS層10を形成
する。その後、図3の(f)〜(g)に示したように、
レジストを塗布してフォトレジスト膜2を形成し、レジ
ストの密着性を向上させたレジスト原盤が作製される。
の図3に示す工程は、従来の図2に示した(b)〜
(c)の工程を2回繰り返したものである。図3の
(b)〜(c)に示したように清浄なガラス原盤1上
に、ガラス原盤の中心に配置されたHMDS吐出ノズル
6からHMDS溶液7を垂らし、スピンコートにより余
分なHMDS溶液7を振り切る。この時にHMDSがガ
ラス表面の水酸基をシリル化し、分子レベルで表面改質
した1回コート後のHMDS層8を形成する。次に図3
の(d)〜(e)に示したように再度HMDS溶液7を
スピンコートし、2回コート後のHMDS層10を形成
する。その後、図3の(f)〜(g)に示したように、
レジストを塗布してフォトレジスト膜2を形成し、レジ
ストの密着性を向上させたレジスト原盤が作製される。
【0013】なお、本発明のスピンコートによるHMD
S塗布では、ガラス原盤表面の中央付近に所定量のHM
DS溶液を供給した後、ガラス原盤の回転によりガラス
表面の水酸基と未反応な余剰のHMDS溶液を振り切る
操作を1回のHMDS塗布と称する。すなわち、本発明
では、所定量のHMDS溶液を2回以上、ガラス原盤表
面の中央付近に供給し、そのつど、ガラス原盤の回転に
よりガラス表面の水酸基と未反応な余剰のHMDS溶液
を振り切ることが必須である。特に、ガラス表面の水酸
基と未反応な余剰のHMDS溶液を振り切った後、次の
HMDS溶液の供給までの間、数秒から数十秒間放置す
ることが望ましい。
S塗布では、ガラス原盤表面の中央付近に所定量のHM
DS溶液を供給した後、ガラス原盤の回転によりガラス
表面の水酸基と未反応な余剰のHMDS溶液を振り切る
操作を1回のHMDS塗布と称する。すなわち、本発明
では、所定量のHMDS溶液を2回以上、ガラス原盤表
面の中央付近に供給し、そのつど、ガラス原盤の回転に
よりガラス表面の水酸基と未反応な余剰のHMDS溶液
を振り切ることが必須である。特に、ガラス表面の水酸
基と未反応な余剰のHMDS溶液を振り切った後、次の
HMDS溶液の供給までの間、数秒から数十秒間放置す
ることが望ましい。
【0014】ガラス原盤表面にHMDS塗布を2回以上
施すことにより、レジストとガラス原盤との密着性を向
上させることができるが、このレジストの密着性の向上
は、スタンパ製造工程におけるレジスト剥がれ発生率の
減少として確認することができる。後述する実施例及び
比較例に示されるように、HMDS塗布を1回しか行わ
ない従来の方法では20%程度であるレジスト剥がれ発
生率を、本発明の方法により0%に改善することができ
る。なお、比較例2に示されるように、単にHMDS塗
布量を増加してもレジスト剥がれに対する改善効果は特
には認められない。ここで、HMDSを2回以上塗布す
ることでレジストの密着性が向上する原因としては、1
回目のHMDS塗布ではガラス表面に付着した水分等の
不純物または、ガラス原盤表面水酸基とHMDSの反応
性により、ガラス原盤表面の水酸基が一部シリル化して
いない部分があり、2回目及びそれ以降のHMDS塗布
でシリル化された水酸基の割合が向上するためと予想さ
れる。また、スタンパ製造工程のレジスト剥がれ発生率
からも、1回コート後のHMDS層8と2回コート後の
HMDS層10とは異なった層であると見なすことがで
きる。
施すことにより、レジストとガラス原盤との密着性を向
上させることができるが、このレジストの密着性の向上
は、スタンパ製造工程におけるレジスト剥がれ発生率の
減少として確認することができる。後述する実施例及び
比較例に示されるように、HMDS塗布を1回しか行わ
ない従来の方法では20%程度であるレジスト剥がれ発
生率を、本発明の方法により0%に改善することができ
る。なお、比較例2に示されるように、単にHMDS塗
布量を増加してもレジスト剥がれに対する改善効果は特
には認められない。ここで、HMDSを2回以上塗布す
ることでレジストの密着性が向上する原因としては、1
回目のHMDS塗布ではガラス表面に付着した水分等の
不純物または、ガラス原盤表面水酸基とHMDSの反応
性により、ガラス原盤表面の水酸基が一部シリル化して
いない部分があり、2回目及びそれ以降のHMDS塗布
でシリル化された水酸基の割合が向上するためと予想さ
れる。また、スタンパ製造工程のレジスト剥がれ発生率
からも、1回コート後のHMDS層8と2回コート後の
HMDS層10とは異なった層であると見なすことがで
きる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の実施例を図3に基づいて説明
する。
する。
【0016】(実施例1)先ず、表面を精密研磨、精密
洗浄された直径200mm、厚さ6mmの円盤状の青板
ガラス原盤1を真空チャック付きターンテーブルに設置
する。次にHMDS吐出ノズル6の先端に付着している
異物が、ガラス原盤1上に滴下されないように別の容器
にHMDS溶液7(東京応化工業株式会社製、商品名O
AP)を2mlパージする。HMDS吐出ノズル6の先
端が乾かないうちに、図3(b)のようにHMDS吐出
ノズル6をガラス原盤1の中心位置に移動させ、ガラス
原盤上にHMDS溶液7を2ml滴下する。滴下後、図
3(c)のように回転数950rpmで40秒間回転さ
せHMDS溶液7を振り切る。振り切り後3秒放置した
後に、前記、図3(b)〜(c)のHMDS溶液7のパ
ージ処理と滴下処理の同じ作業を、図3(d)〜(e)
のように再度実施しガラス原盤表面に2回コート後のH
MDS層10を形成する。次に図3(f)〜(g)のよ
うにレジストの塗布を行う。レジストはノボラック樹脂
系のポジ型フォトレジスト(東京応化工業株式会社製、
商品名TSMR−8900D)を使用した。レジスト塗
布も、先ず3.2ml別容器にパージし、次に1.8m
l滴下し回転数1200rpmで80秒間レジストスピ
ンコートを行う。レジストコートの回転数は、レジスト
種類、粘度、設定膜厚等によって異なるが通常400r
pm〜2000rpmが好ましい。レジストコート後、
ホットプレートベーク装置により95℃、15分間ガラ
ス原盤下面からコンタクトベークを行いレジスト溶媒を
蒸発させ、図1に示すスタンパ製造工程用レジスト原盤
として完成する。
洗浄された直径200mm、厚さ6mmの円盤状の青板
ガラス原盤1を真空チャック付きターンテーブルに設置
する。次にHMDS吐出ノズル6の先端に付着している
異物が、ガラス原盤1上に滴下されないように別の容器
にHMDS溶液7(東京応化工業株式会社製、商品名O
AP)を2mlパージする。HMDS吐出ノズル6の先
端が乾かないうちに、図3(b)のようにHMDS吐出
ノズル6をガラス原盤1の中心位置に移動させ、ガラス
原盤上にHMDS溶液7を2ml滴下する。滴下後、図
3(c)のように回転数950rpmで40秒間回転さ
せHMDS溶液7を振り切る。振り切り後3秒放置した
後に、前記、図3(b)〜(c)のHMDS溶液7のパ
ージ処理と滴下処理の同じ作業を、図3(d)〜(e)
のように再度実施しガラス原盤表面に2回コート後のH
MDS層10を形成する。次に図3(f)〜(g)のよ
うにレジストの塗布を行う。レジストはノボラック樹脂
系のポジ型フォトレジスト(東京応化工業株式会社製、
商品名TSMR−8900D)を使用した。レジスト塗
布も、先ず3.2ml別容器にパージし、次に1.8m
l滴下し回転数1200rpmで80秒間レジストスピ
ンコートを行う。レジストコートの回転数は、レジスト
種類、粘度、設定膜厚等によって異なるが通常400r
pm〜2000rpmが好ましい。レジストコート後、
ホットプレートベーク装置により95℃、15分間ガラ
ス原盤下面からコンタクトベークを行いレジスト溶媒を
蒸発させ、図1に示すスタンパ製造工程用レジスト原盤
として完成する。
【0017】このレジスト原盤を波長458nmの露光
レーザで露光し、リン酸系アルカリ現像液(シプレイ・
ファーイースト社製、商品名マイクロポジットデベロッ
パー)で現像した。現像時のレジスト剥がれは全く発生
しなかった。
レーザで露光し、リン酸系アルカリ現像液(シプレイ・
ファーイースト社製、商品名マイクロポジットデベロッ
パー)で現像した。現像時のレジスト剥がれは全く発生
しなかった。
【0018】(実施例2)HMDS塗布を3回行ったこ
と以外は実施例1と同様にしてレジスト原盤を作製し、
実施例1と同様に露光、現像を行った。実施例1と同
様、現像時のレジスト剥がれは全く発生しなかった。
と以外は実施例1と同様にしてレジスト原盤を作製し、
実施例1と同様に露光、現像を行った。実施例1と同
様、現像時のレジスト剥がれは全く発生しなかった。
【0019】(実施例3)実施例1と同様に、先ず、表
面を精密研磨、精密洗浄された直径200mm、厚さ6
mmの円盤状の青板ガラス原盤1を真空チャック付きタ
ーンテーブルに設置する。次にHMDS吐出ノズル6の
先端に付着している異物が、ガラス原盤1上に滴下され
ないように別の容器にHMDS溶液7を2mlパージす
る。HMDS吐出ノズル6の先端が乾かないうちに、図
3(b)のようにHMDS吐出ノズル6をガラス原盤1
の中心位置に移動させ、ガラス原盤上にHMDS溶液7
を2ml滴下する。滴下後、図3(c)のように回転数
800rpmで40秒間回転させHMDS溶液7を振り
切る。振り切り後10秒放置した後に、前記、図3
(b)〜(c)のHMDS溶液7のパージ処理と滴下処
理の同じ作業を、図3(d)〜(e)のように再度実施
しガラス原盤表面に2回コート後のHMDS層10を形
成する。次に図3(f)〜(g)のようにレジストの塗
布を行う。レジストはノボラック樹脂系のポジ型フォト
レジスト(東京応化工業株式会社製、商品名TSMR−
V90)を使用した。レジスト塗布も、先ず3.2ml
別容器にパージし、次に1.8ml滴下し回転数120
0rpmで80秒間レジストスピンコートを行う。レジ
ストコート後、ホットプレートベーク装置により95
℃、15分間ガラス原盤下面からコンタクトベークを行
いレジスト溶媒を蒸発させ、図1に示すスタンパ製造工
程用レジスト原盤として完成する。
面を精密研磨、精密洗浄された直径200mm、厚さ6
mmの円盤状の青板ガラス原盤1を真空チャック付きタ
ーンテーブルに設置する。次にHMDS吐出ノズル6の
先端に付着している異物が、ガラス原盤1上に滴下され
ないように別の容器にHMDS溶液7を2mlパージす
る。HMDS吐出ノズル6の先端が乾かないうちに、図
3(b)のようにHMDS吐出ノズル6をガラス原盤1
の中心位置に移動させ、ガラス原盤上にHMDS溶液7
を2ml滴下する。滴下後、図3(c)のように回転数
800rpmで40秒間回転させHMDS溶液7を振り
切る。振り切り後10秒放置した後に、前記、図3
(b)〜(c)のHMDS溶液7のパージ処理と滴下処
理の同じ作業を、図3(d)〜(e)のように再度実施
しガラス原盤表面に2回コート後のHMDS層10を形
成する。次に図3(f)〜(g)のようにレジストの塗
布を行う。レジストはノボラック樹脂系のポジ型フォト
レジスト(東京応化工業株式会社製、商品名TSMR−
V90)を使用した。レジスト塗布も、先ず3.2ml
別容器にパージし、次に1.8ml滴下し回転数120
0rpmで80秒間レジストスピンコートを行う。レジ
ストコート後、ホットプレートベーク装置により95
℃、15分間ガラス原盤下面からコンタクトベークを行
いレジスト溶媒を蒸発させ、図1に示すスタンパ製造工
程用レジスト原盤として完成する。
【0020】このレジスト原盤を波長458nmの露光
レーザで露光し、有機アルカリ現像液(東京応化工業株
式会社製、商品名NMD−W)で現像した。現像時のレ
ジスト剥がれは全く発生しなかった。
レーザで露光し、有機アルカリ現像液(東京応化工業株
式会社製、商品名NMD−W)で現像した。現像時のレ
ジスト剥がれは全く発生しなかった。
【0021】(比較例1)実施例1と同様に、先ず、表
面を精密研磨、精密洗浄された直径200mm、厚さ6
mmの円盤状の青板ガラス原盤1を真空チャック付きタ
ーンテーブルに設置する。次にHMDS吐出ノズル6の
先端に付着している異物が、ガラス原盤1上に滴下され
ないように別の容器にHMDS溶液7を2mlパージす
る。HMDS吐出ノズル6の先端が乾かないうちに、図
2(b)のようにHMDS吐出ノズル6をガラス原盤1
の中心位置に移動させ、ガラス原盤上にHMDS溶液7
を2ml滴下する。滴下後、1〜3秒間程度放置後、図
2(c)のように回転数950rpmで40秒間回転さ
せHMDS溶液7を振り切る。このようにして図2
(b)〜(c)のHMDS溶液7によるHMDS塗布を
1回実施しガラス原盤表面に1回コート後のHMDS層
8を形成する。次に図2(d)〜(e)のようにレジス
トの塗布を行う。レジスト塗布も、先ず3.2ml別容
器にパージし、次に1.8ml滴下し回転数1200r
pmで80秒間レジストスピンコートを行う。レジスト
コート後、ホットプレートベーク装置により95℃、1
5分間ガラス原盤下面からコンタクトベークを行いレジ
スト溶媒を蒸発させ、図1に示すスタンパ製造工程用レ
ジスト原盤として完成する。
面を精密研磨、精密洗浄された直径200mm、厚さ6
mmの円盤状の青板ガラス原盤1を真空チャック付きタ
ーンテーブルに設置する。次にHMDS吐出ノズル6の
先端に付着している異物が、ガラス原盤1上に滴下され
ないように別の容器にHMDS溶液7を2mlパージす
る。HMDS吐出ノズル6の先端が乾かないうちに、図
2(b)のようにHMDS吐出ノズル6をガラス原盤1
の中心位置に移動させ、ガラス原盤上にHMDS溶液7
を2ml滴下する。滴下後、1〜3秒間程度放置後、図
2(c)のように回転数950rpmで40秒間回転さ
せHMDS溶液7を振り切る。このようにして図2
(b)〜(c)のHMDS溶液7によるHMDS塗布を
1回実施しガラス原盤表面に1回コート後のHMDS層
8を形成する。次に図2(d)〜(e)のようにレジス
トの塗布を行う。レジスト塗布も、先ず3.2ml別容
器にパージし、次に1.8ml滴下し回転数1200r
pmで80秒間レジストスピンコートを行う。レジスト
コート後、ホットプレートベーク装置により95℃、1
5分間ガラス原盤下面からコンタクトベークを行いレジ
スト溶媒を蒸発させ、図1に示すスタンパ製造工程用レ
ジスト原盤として完成する。
【0022】このレジスト原盤を波長458nmの露光
レーザで露光し、リン酸系アルカリ現像液(シプレイ・
ファーイースト社製、商品名マイクロポジットデベロッ
パー)で現像した。現像時に発生したレジスト剥がれ率
は20%であった。
レーザで露光し、リン酸系アルカリ現像液(シプレイ・
ファーイースト社製、商品名マイクロポジットデベロッ
パー)で現像した。現像時に発生したレジスト剥がれ率
は20%であった。
【0023】(比較例2)ガラス原盤上に滴下するHM
DS溶液7を20mlとしたこと以外は比較例1と同様
にしてレジスト原盤を作製し、比較例1と同様に露光、
現像を行った。現像時に発生したレジスト剥がれ率は比
較例1と同様20%であった。
DS溶液7を20mlとしたこと以外は比較例1と同様
にしてレジスト原盤を作製し、比較例1と同様に露光、
現像を行った。現像時に発生したレジスト剥がれ率は比
較例1と同様20%であった。
【0024】上記のように本発明のHMDS複数回塗布
によるガラス原盤表面の密着性向上対策は、レジストや
現像液の種類に関わりなく、レジスト剥がれ発生率を低
減することができる。一方、HMDS塗布に用いるHM
DS溶液の滴下量を増大してもレジスト剥がれ率の低減
効果は特には認められない。
によるガラス原盤表面の密着性向上対策は、レジストや
現像液の種類に関わりなく、レジスト剥がれ発生率を低
減することができる。一方、HMDS塗布に用いるHM
DS溶液の滴下量を増大してもレジスト剥がれ率の低減
効果は特には認められない。
【0025】なお、本発明は前述した実施例に限定され
るものではなく、ガラス基材表面に水酸基をもちHMD
S塗布により、ガラス基材とレジストとの密着性向上を
目的とした用途で、スピンコート法を用いる製造方法に
ついては広く適用できる。また、本発明は、従来のレジ
ストスピンコート装置を用い特別な条件を必要としない
点で、コストや簡易性の面から効果的である。
るものではなく、ガラス基材表面に水酸基をもちHMD
S塗布により、ガラス基材とレジストとの密着性向上を
目的とした用途で、スピンコート法を用いる製造方法に
ついては広く適用できる。また、本発明は、従来のレジ
ストスピンコート装置を用い特別な条件を必要としない
点で、コストや簡易性の面から効果的である。
【0026】
【発明の効果】本発明により、HMDSをガラス表面に
複数回塗布することで、レジストとガラス基材の密着性
を向上することで歩留り良く光記録媒体用スタンパを製
造することが可能となる。
複数回塗布することで、レジストとガラス基材の密着性
を向上することで歩留り良く光記録媒体用スタンパを製
造することが可能となる。
【図1】光記録媒体用スタンパの製造方法を示す図であ
る。
る。
【図2】従来のレジスト塗布工程を示す図である。
【図3】本発明のレジスト塗布工程の一例を示す図であ
る。
る。
1…ガラス原盤
2…フォトレジスト膜
3…対物レンズ
4…レーザ光
5…スタンパ
6…HMDS吐出ノズル
7…HMDS溶液
8…1回コート後のHMDS層
9…レジスト吐出ノズル
10…2回コート後のHMDS層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Fターム(参考) 2H096 AA28 AA30 BA05 BA06 CA02
EA04
2H097 AA03 AB07 CA17 LA20
5D121 BA05 BB01 BB31 BB40 EE22
GG11
Claims (2)
- 【請求項1】 ガラス原盤上に塗布されたフォトレジス
ト膜に、変調されたレーザ光により露光後現像して所定
の凹凸パターンを形成した後、電鋳により前記凹凸パタ
ーン上に金属層を形成する光記録媒体用スタンパの製造
方法において、レジスト塗布前のガラス原盤表面にHM
DS塗布を2回以上行うことを特徴とする光記録媒体用
スタンパの製造方法。 - 【請求項2】 HMDS塗布の塗布方法がスピンコート
であることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体用ス
タンパの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001208094A JP2003021917A (ja) | 2001-07-09 | 2001-07-09 | 光記録媒体用スタンパの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001208094A JP2003021917A (ja) | 2001-07-09 | 2001-07-09 | 光記録媒体用スタンパの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003021917A true JP2003021917A (ja) | 2003-01-24 |
Family
ID=19043975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001208094A Pending JP2003021917A (ja) | 2001-07-09 | 2001-07-09 | 光記録媒体用スタンパの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003021917A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006525540A (ja) * | 2003-04-23 | 2006-11-09 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | フォトリソグラフィプロセス方法、スタンパ、該スタンパの使用及び光データ記憶媒体 |
-
2001
- 2001-07-09 JP JP2001208094A patent/JP2003021917A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006525540A (ja) * | 2003-04-23 | 2006-11-09 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | フォトリソグラフィプロセス方法、スタンパ、該スタンパの使用及び光データ記憶媒体 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6126952A (ja) | 情報記録担体の製造法 | |
JP2000334744A (ja) | 細溝付き成形基板の製造方法 | |
JPH11296918A (ja) | 光情報記録媒体用スタンパの製造方法 | |
JP3448661B2 (ja) | 光ディスク用合成石英型及び光ディスク | |
JP2003021917A (ja) | 光記録媒体用スタンパの製造方法 | |
JP4366193B2 (ja) | スタンパ原盤の製造方法及びスタンパの製造方法 | |
JP2000113526A (ja) | 光情報記録媒体用スタンパの製造方法 | |
JPH10241213A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
JP2004062981A (ja) | 光ディスク製造用スタンパーの製造方法、光ディスク製造用スタンパー及び光ディスクの製造方法 | |
JPH11350181A (ja) | スタンパの製造方法 | |
JP2008282495A (ja) | 光記録媒体用未露光原盤に用いるガラス基板、その表面改質方法、その表面改質装置、及びその表面改質システム、並びに光記録媒体用未露光原盤、及び光記録媒体用原盤の製造方法 | |
JP2009080914A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法、光ディスク原盤、スタンパ、光ディスク基板、及び光ディスク | |
JP2545677B2 (ja) | フォトレジストの塗布方法 | |
JPH10241214A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
JPH01201842A (ja) | 案内溝スタンパー製造方法 | |
JPH04259936A (ja) | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 | |
JP2004152368A (ja) | 光ディスク用スタンパの製造方法 | |
JPH06226192A (ja) | 塗布装置 | |
JPH01235044A (ja) | 光ディスク基板およびその製造方法 | |
JPH04259938A (ja) | 情報記録媒体製作用スタンパの製作方法 | |
JPH06180867A (ja) | 光ディスク用スタンパ及びその製造方法 | |
JP2003217187A (ja) | 光ディスク用基盤、光ディスク用スタンパ、光ディスク、および光ディスク用原盤の製造方法 | |
JP2001005175A (ja) | 情報記録媒体用フォトレジスト | |
JP2001160242A (ja) | 光学的情報記録媒体の原盤製造方法及びその装置 | |
JPH10282677A (ja) | 光ディスク原盤の作製方法及び光ディスク基板 |