JP4366193B2 - スタンパ原盤の製造方法及びスタンパの製造方法 - Google Patents
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Description
図2A〜Dは、従来のスタンパの製造方法を模式的に示す工程図である。
図3は、光ディスクの一実施形態を示す断面図である。
<スタンパ原盤の製造>
まず、外径200mm、厚さ0.3mmであるNi基盤の一方の面を酸化セリウム(CeO2)を用いて機械研磨した。次に、Ni基盤の研磨された面に下記式(1)で表される化合物を含有するアルカリ可溶性ネガ型レジスト(NNR600S2、ナガセケムテックス株式会社製)を、スピンコーターによって200nmの厚さに塗布した。
<スタンパの製造>
得られたスタンパ原盤のプリベイクレジスト層にArレーザー(351nm)を所定のパターンで照射して一定の情報を記録した後、110℃に設定されたホットプレート内で4分間のベーキングを行った。次いで、1.57wt%のTMAH水溶液を用いて、常温(約24℃)で60秒間のスピン現像を行い、露光部を除去してレジストバンプを形成した。次いで、レジストバンプが形成されたスタンパ原盤に対し、175℃に設定されたホットプレート内で10分間処理した後に250℃に設定されたホットプレート内で10分間の処理を行う多段ベークを施した。さらに、ディープUV光を用いて半架橋レジスト層及びレジストバンプを完全架橋した。それから、そのスタンパ原盤を外径138mm、内径22mmのドーナツ状に打ち抜き、スタンパを製造した。
<光ディスクの製造>
光ディスク基盤の材料として、ポリカーボネート樹脂を用いた。上述の実施例2で得たスタンパを金型に取り付け、射出圧縮成形によって、そのスタンパに記録された情報パターンが転写された外径120mm、内径15mmの光ディスク基盤を得た。次に、その光ディスク基盤における情報パターン転写面にアルミニウムスパッタリングを施して反射膜を成膜した。さらに、その反射膜上に光ディスク基盤と同じ大きさのポリカーボネート製ダミー盤を接着剤を用いて貼り合わせ、光ディスクを製造した。
Claims (3)
- 前記プリベイクレジスト層を形成する工程を実施した後に該プリベイクレジスト層上に保護膜を形成する工程を備える請求項1に記載のスタンパ原盤の製造方法。
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