JPH10255337A

JPH10255337A - 光ディスク原盤の製造方法

Info

Publication number: JPH10255337A
Application number: JP5803597A
Authority: JP
Inventors: Minoru Takeda; 実武田; Motohiro Furuki; 基裕古木
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-03-12
Filing date: 1997-03-12
Publication date: 1998-09-25

Abstract

(57)【要約】【課題】微細化されたピット及びグルーブといったパ
ターンの形成を可能とし、高記録密度化及び高記録容量
化に対応可能な光ディスクの製造を可能とする光ディス
ク原盤の製造を可能とする。【解決手段】基板上に、露光により酸が生成されてこ
の酸が触媒として作用する感光性樹脂を塗布し、これを
波長が３００ｎｍ以下のレーザ光により露光して情報を
示すパターンの潜像を形成し、これを加熱処理し、現像
して情報を示すパターンを形成する。なお、基板として
無アルカリタイプのガラス或いは合成石英ガラスよりな
る基板を使用する、感光性樹脂を塗布した後、この上に
塩基性不純物を透過しない膜を積層形成し、この後に感
光性樹脂の露光を行うようにする、感光性樹脂の露光か
ら現像までの工程をアンモニア濃度が１ｐｐｂ以下の雰
囲気中において行うようにすることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光ディスク原盤の製
造方法に関する。詳しくは、使用する感光性樹脂の種類
及び露光する光を規定することにより、情報を示すパタ
ーンの微細化を可能とし、高記録密度化及び高記録容量
化された光ディスクの製造を可能とする光ディスク原盤
の製造方法に係わるものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報記録の分野においては光学情
報記録方式に関する研究が各所で進められている。この
光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えるこ
と、磁気記録方式に比べて一桁以上も高い記録密度が達
成できること、再生専用型，追記型，書換可能型のそれ
ぞれのメモリー形態に対応できる等の数々の利点を有
し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式とし
て産業用から民生用まで幅広い用途の考えられているも
のである。

【０００３】その中でも特に、再生専用型のメモリー形
態に対応した光ディスクであるデジタルオーディオディ
スクや光学式ビデオディスク等は広く普及している。

【０００４】上記デジタルオーディオディスク等の光デ
ィスクは、情報信号を示すピットやグルーブ等の凹凸パ
ターンが形成された透明基板である光ディスク基板上に
アルミニウム膜等の金属薄膜よりなる反射膜が形成さ
れ、さらにこの反射膜を大気中の水分，Ｏ₂から保護す
るための保護膜が上記反射膜上に形成された構成とされ
る。なお、このような光ディスクの情報を再生する際に
は光ディスク基板側より上記凹凸パターンにレーザ光等
の再生光を照射し、その入射光と戻り光の反射率の差に
よって情報を検出する。

【０００５】このような光ディスクにおいては、高記録
密度化及び高記録容量化が要求されており、これに対応
するべく、光学ピックアップの再生光を照射するための
対物レンズの開口数（以下、ＮＡと称する。）を大きく
して再生光のスポット径を小さくすることが提案されて
いる。そして、例えば、これまで使用されてきたデジタ
ルオーディオディスクの対物レンズのＮＡが０．４５で
あるのに対し、対物レンズのＮＡを０．６０程度とし、
デジタルオーディオディスクの６〜８倍の記録容量を有
する光学式ビデオディスク（例えば、デジタル・ビデオ
・ディスク）が提案され、近年注目を浴びている。な
お、このような光学式ビデオディスク（例えば、デジタ
ル・ビデオ・ディスク）においては、最短ピット長が
０．４μｍ、トラックピッチが０．７４μｍとされてピ
ット列がスパイラル状に形成されており、直径１２ｃｍ
の光ディスクの片面に４．７ＧＢの情報容量を持たせて
いる。

【０００６】これら光ディスクは、原盤工程（マスタリ
ングプロセス）とディスク化工程（レプリケーションプ
ロセス）により大きく２つに分けられる製造工程を経て
製造される。上記原盤工程は基板上に情報を示すパター
ンの複製を行うのに必要な金型（金型原盤、スタンパ
ー）を完成させるまでのプロセスであり、ディスク化工
程はその後光ディスクを完成させるまでのプロセスであ
る。

【０００７】このうち、原盤工程は、例えばガラス基板
に感光性樹脂であるフォトレジストを塗布し、このフォ
トレジストにレーザ光による露光を行って情報を示すパ
ターンの潜像を形成し、これを現像して情報を示すパタ
ーンを形成し、電鋳等の手法によって金属表面上に上記
パターンの転写を行い、これを原盤としてスタンパーを
形成するものである。

【０００８】具体的には、先ず、例えば厚さ数ｍｍのガ
ラス基板の一主面上に紫外線感光性フォトレジストをス
ピンコートにより塗布し、膜厚が０．１〜０．２μｍの
紫外線感光性フォトレジストよりなる膜を形成する。次
にこのガラス基板を回転させながら、紫外線感光性フォ
トレジストよりなる膜に対し、波長が３５０〜４６０ｎ
ｍ程度であり青色または近紫外域で発振するＡｒ，Ｋｒ
レーザ光等のガスレーザ光を情報を示す信号に合わせて
オン／オフさせて照射し、スポット的に露光を行い、情
報を示すパターンであるピットまたはグルーブ状の微細
パターンの潜像を形成する。続いて、上記紫外線感光性
フォトレジストを現像して上記微細パターンを完成す
る。そして、この微細パターンにニッケル等をめっきし
て金属表面に上記パターンの転写を行い、これを原盤と
してスタンパーを形成する。

【０００９】なお、上記紫外線感光性フォトレジストと
しては、フェノールノボラック樹脂をベースレジンと
し、ナフトキンジアジドを感光剤とするいわゆるノボラ
ック系レジストが一般的に使用される。

【００１０】また、前述のデジタルオーディオディスク
の６〜８倍の記録容量を有する光学式ビデオディスク
（例えば、デジタル・ビデオ・ディスク）を製造するた
めの原盤工程においては、紫外線感光性フォトレジスト
の露光に例えば波長４１３ｎｍのＫｒ（イオン）レーザ
光を使用している。この場合の形成可能な最短ピット長
Ｐは以下に示す式（１）により求められる。

【００１１】Ｐ＝Ｋ（ＮＡ／λ）・・・式（１）なお、式１中λはレーザ光の波長を示し、ＮＡは対物レ
ンズの開口数、Ｋはプロセスファクター値（レジスト特
性等に依存し、０．８〜０．９の値を採る。）を示す。
ここで式（１）中にλ＝４１３ｎｍ、ＮＡ＝０．９、Ｋ
＝０．８を代入すると、Ｐ＝０．３７μｍとなる。すな
わち、このようにすれば、上記のような光ディスクに対
応する原盤を製造することは十分に可能である。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、情報通信及
び画像処理技術の急激な発展に伴い、上述したような光
ディスクにおいては、今後、更なる高記録密度化及び高
記録容量化が要求されるものと思われ、例えば、前述し
た光学式ビデオディスク等と同様の信号処理方式により
直径１２ｃｍの光ディスクの片面に２０ＧＢの情報容量
を持たせるといったことが要求されるものと考えられ
る。そして、この要求に応えるためには最短ピット長を
０．２μｍ、トラックピッチを０．３５μｍにまで微細
化する必要がある。

【００１３】そしてこのためには、対物レンズの高ＮＡ
化及び露光に使用するレーザ光の短波長化が必要である
ことは上記式（１）からも明らかである。しかしなが
ら、対物レンズのＮＡはレンズの設計作製精度の面から
現状の０．９が上限であると考えられる。従って、レー
ザ光の短波長化が求められることとなる。そこで、例え
ば波長２５０ｎｍ前後の短波長紫外線レーザ光を使用し
て短波長化を図った場合、式（１）から最短ピット長は
０．２３μｍとなる。すなわち、これでは、上記のよう
な要求にかなり近づくものの、若干解像力が不足してお
り、上記要求に対応することが不可能である。

【００１４】また、従来より一般的に使用されてきた紫
外線感光性フォトレジストであるノボラック系レジスト
を上記のような３００ｎｍ以下の波長の光により露光し
て、上記のように微細化されたピット等のパターンを形
成するのは極めて困難である。すなわち、上記ノボラッ
ク系レジストにおいては、ベースレジンであるフェノー
ルノボラック樹脂及び感光剤であるナフトキンジアジド
の光吸収率が光の波長が３００ｎｍ以下となると急激に
増大する。このため、このノボラック系レジストを３０
０ｎｍ以下の波長の光により露光すると、内部吸収によ
り解像力を決定するコントラスト値が著しく劣化し、エ
ッジの切り立ちが悪いピットが形成されてしまう。さら
に、上記ノボラック系レジストを使用した場合、３００
ｎｍ以下の波長の光に対しては感度が低下し、生産性も
著しく低下してしまい、好ましくない。

【００１５】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、微細化されたピット及びグルーブと
いったパターンの形成を可能とし、高記録密度化及び高
記録容量化に対応可能な光ディスクの製造を可能とする
光ディスク原盤の製造方法を提供するものである。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明の光ディスク原盤の製造方法は、基板上に、
露光により酸が生成されてこの酸が触媒として作用する
感光性樹脂を塗布する工程と、上記感光性樹脂を波長が
３００ｎｍ以下のレーザ光により露光し、情報を示すパ
ターンの潜像を形成する工程と、上記感光性樹脂を加熱
処理する工程と、上記感光性樹脂を現像して情報を示す
パターンを形成する工程を有することを特徴とするもの
である。なお、上記３００ｎｍ以下のレーザ光のうちで
も、短波長紫外線レーザ光を使用することが好ましい。

【００１７】また、本発明の光ディスク原盤の製造方法
においては、感光性樹脂がアルカリ性現像液により現像
されることが好ましい。

【００１８】上記のように露光により酸が生成されてこ
の酸が触媒として作用する感光性樹脂においては、露光
により酸が発生して後工程の加熱処理時に触媒として機
能し、現像液に対して可溶な部分と不溶な部分を形成し
てパターンの潜像を形成する。従って、酸の発生時から
加熱処理工程の間における周辺環境は感光性樹脂の解像
度に大きく影響を及ぼす。具体的には雰囲気中、基板中
にアンモニア，ナトリウムといった塩基性成分が含まれ
ていると、これが微量であっても、感光性樹脂中に取り
込まれ、酸と反応して酸を失活させてしまい、その機能
を損なわせてしまう。

【００１９】このことは、感光性樹脂中の空気や基板と
接触している部分において起こり易く、例えばアルカリ
性現像液により現像した場合に、感光性樹脂表面に難溶
層が庇状に残ってしまったり、基板との接触部に難溶層
が裾引き状に残ってしまい、パターンを正確に形成する
ことが不可能となる場合もある。さらには、庇状に形成
された難溶層によりそれよりも基板側となる感光性樹脂
の現像が阻止されてしまうこともある。従って、雰囲気
中及び基板中に塩基成分が含有されないことが好まし
い。

【００２０】そこで、本発明の光ディスク原盤の製造方
法においては、基板として無アルカリタイプのガラス或
いは合成石英ガラスよりなる基板を使用することが好ま
しい。

【００２１】また、本発明の光ディスク原盤の製造方法
においては、感光性樹脂を塗布した後、この上に塩基性
不純物を透過しない膜を積層形成し、この後に感光性樹
脂の露光を行うようにしても良い。

【００２２】さらに、本発明の光ディスク原盤の製造方
法においては、感光性樹脂の露光から現像までの工程を
アンモニア濃度が１ｐｐｂ以下の雰囲気中において行う
ことが好ましい。

【００２３】本発明の光ディスク原盤の製造方法におい
ては、基板上に、露光により酸が生成されてこの酸が触
媒として作用する感光性樹脂を塗布し、上記感光性樹脂
を波長が３００ｎｍ以下のレーザ光により露光し、情報
を示すパターンの潜像を形成し、上記感光性樹脂を加熱
処理し、上記感光性樹脂を現像して情報を示すパターン
を形成する。上記感光性樹脂は、短波長紫外域における
内部吸収が従来より一般的に使用されているノボラック
系レジストと比較して格段に小さい。このため、ノボラ
ック系レジストでは対応が困難であった波長３００ｎｍ
以下の短波長光での露光による微細化されたパターンの
形成に十分対応する。また、この感光性樹脂において
は、露光時に発生する酸を加熱処理時に触媒として機能
させる光化学反応メカニズムを利用していることから、
感度も良好である。

【００２４】さらに、本発明の光ディスク原盤の製造方
法において、基板として無アルカリタイプのガラス或い
は合成石英ガラスよりなる基板を使用する、感光性樹脂
を塗布した後、この上に塩基性不純物を透過しない膜を
積層形成し、この後に感光性樹脂の露光を行うようにす
る、感光性樹脂の露光から現像までの工程をアンモニア
濃度が１ｐｐｂ以下の雰囲気中において行うようにすれ
ば、塩基性成分が感光性樹脂中の酸と反応して酸を失活
させ、その機能を損なわせてしまうことがなく、パター
ンの形成が正確に行われる。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態について図面を参照しながら詳細に説明する。

【００２６】先ず、例えば外径が２２０ｍｍで厚さが６
ｍｍの基板を用意する。この基板としては、Ｎａ及びＫ
等のアルカリ性塩基成分を全く含まない無アルカリガラ
スや合成石英ガラスよりなるものを使用することが好ま
しい。これらのガラスの成分は、従来、一般的に使用さ
れている青板ガラスの成分がＳｉＯ₂ ：７２．５％、Ｒ
₂ Ｏ₃ ：２％、ＲＯ：１２％、Ｒ₂ Ｏ：１３．５％（た
だし、Ｒは金属を表し、Ｒ₂ ＯのＲはＮａやＫのような
１価の金属原子を示す。以下も同様である。）であるの
に対し、無アルカリガラスにおいてはＳｉＯ₂ ：５６
％、Ｒ₂ Ｏ₃ ：１７％、ＲＯ：２７％であり、合成石英
ガラスにおいてはＳｉＯ₂ ：１００％である。

【００２７】次に、上記基板の一主面上に露光により酸
が生成されてこの酸が触媒として作用する感光性樹脂を
スピンコートにより塗布して厚さ０．１μｍで均一な厚
さを有する感光性樹脂膜を形成する。

【００２８】このような感光性樹脂としては、ポリビニ
ルフェノールの水酸基をｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
基（ｔ−ＢＯＣ）で保護したポリマー（ポリ（ｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルオキシスチレン），以下、Ｐ
ＢＯＣＳＴと称する。）とスルホニウム塩からなる系が
例示される。化１に示すスルホニウム塩の光分解により
生成したプロトン酸が、露光後の加熱処理において化２
に示すようにＰＢＯＣＳＴからポリ（ｐ−ビニルフェノ
ール）への熱分解の触媒となる。この熱分解反応におい
ては、二酸化炭素，イソブテンが生成し、さらにプロト
ンも再生される。そして、このプロトンが次の反応を引
き起こしていく。なお、このような感光性樹脂は、一般
に化学増幅系と称される。

【００２９】

【化１】

【００３０】

【化２】

【００３１】ポリビニルフェノールはアルカリ可溶で非
極性有機溶媒に不溶であり、ＰＢＯＣＳＴはこれとは逆
の溶解性を示す。従って、この系はアルカリ水溶液また
はアルコールで現像するとポジ型レジストとして機能す
る。さらには、シクロヘキサン等の非極性溶媒で現像す
ると、ネガ型レジストとして機能する。

【００３２】次に、図１に示すように、光源１より照射
される光を音響光学素子２等によりデジタル信号でパル
ス変調し、ＮＡ０．９前後の対物レンズ３を介してスポ
ット径が０．２５μｍ以下となるように図中矢印Ｌ₁ で
示すように集光して基板４の一主面４ａ上の図示しない
感光性樹脂膜に照射し、情報を示すピット或いはグルー
ブといったパターン５のスパイラル状の潜像を感光性樹
脂膜に形成する。上記感光性樹脂においては、前述した
ように露光により感光剤であるスルホニウム塩の光分解
によるプロトン酸が生成されるため、露光部分にのみプ
ロトン酸が生成されることとなる。

【００３３】このとき、光源１として波長２６６ｎｍの
ＹＡＧ４倍波レーザ等の短波長紫外線レーザ光源を使用
し、基板４を図中矢印Ｍで示すように面内方向に回転さ
せ、この回転は線速一定の等速度回転モード（ＣＬＶ；
ＣｏｎｓｔａｎｔＬｉｎｅｒＶｅｌｏｃｉｔｙ）で
行い、対物レンズ３を一定のトラックピッチを形成する
ことが可能なように内周側から外周側に向かって移動さ
せるようにする。

【００３４】そして、この光学系においては、光源１か
ら対物レンズ３の間に光源１から照射された光を音響光
学素子２に集光させるレンズ６とこれを再び平行光に戻
すレンズ７、対物レンズ３の入射瞳径と同程度またはそ
れ以上にビーム径を拡大するビームエキスパンダー８も
組み込まれており、光源１からの光は図中矢印Ｌ₂ で示
すようにレンズ６を介して音響光学素子２に入り、ここ
からレンズ７、ビームエキスパンダー８を介して対物レ
ンズ３に入ることとなる。なお、この光学系において
は、光源１からの光の光路を変更するためのミラー９
ａ，９ｂを光源１とレンズ６の間に配し、ビームエキス
パンダー８からの光の光路を変更するミラー１０をビー
ムエキスパンダー８と対物レンズ３の間に配している。

【００３５】本例においては、紫外線感光樹脂として上
述のような材料を使用しており、このような紫外線感光
樹脂においては、波長３００ｎｍ以下の短波長紫外域の
光に対する内部吸収が、従来より一般的に使用されてい
るノボラック系レジストと比較して格段に小さい。この
ため、上記のように波長３００ｎｍ以下の短波長光で露
光に十分対応可能であり、微細化されたパターンの潜像
の形成に十分対応可能である。

【００３６】続いて、上記のようにパターンの潜像が形
成された感光性樹脂膜が形成された基板４に加熱処理を
行う。この加熱処理により、感光性樹脂中の露光部に生
成したプロトン酸が活性化され、これがＰＢＯＣＳＴか
らポリ（ｐ−ビニルフェノール）への熱分解の触媒とな
る。この熱分解反応においては、二酸化炭素，イソブテ
ンが生成し、さらにプロトンも再生される。そして、こ
のプロトンが次の反応を引き起こしていき、反応が継続
して起こる。この結果、露光部分のみアルカリ性溶液に
可溶な化学構造に変化することとなる。このときの加熱
条件は、プロトン酸による反応を十分に促進させるべ
く、温度を９０℃以上とし、保持時間を２〜３分間とす
る必要がある。

【００３７】また、上記感光性樹脂においては、露光時
に発生する酸を加熱処理時に触媒として機能させる光化
学反応メカニズムを利用していることから、感度も良好
である。

【００３８】本例において、基板４として前述のように
Ｎａ及びＫ等のアルカリ性塩基成分を全く含まない無ア
ルカリガラスや合成石英ガラスよりなるものを使用する
ようにすれば、塩基性成分が感光性樹脂中の酸と反応し
て酸を失活させ、その機能を損なわせてしまうことがな
く、パターンの形成が正確に行われる。

【００３９】そして、基板４が十分に冷却された後に、
これをアルカリ性現像液に浸積させて露光部の感光性樹
脂を溶解させて、感光性樹脂膜にピット或いはグルーブ
といったパターンを形成して光ディスク原盤を完成す
る。

【００４０】さらに、上記感光性樹脂膜上に例えばスパ
ッタ装置で厚さ数十ｎｍのＮｉ薄膜を形成し、続いてめ
っき装置による電鋳を行い、厚さ３００μｍのＮｉより
なるスタンパーを形成し、このスタンパーを基板より剥
離し、パターンが転写されていない裏面の研磨や端面の
処理を行ってスタンパーを形成すれば良い。

【００４１】本例の光ディスク原盤の製造方法において
は、前述のように微細化されたパターンの潜像の形成に
十分対応可能であり、高記録密度化及び高記録容量化に
対応可能な光ディスクの製造を可能とする光ディスク原
盤の製造が可能である。また、パターン形成時の感度も
良好であることから生産性良好に光ディスク原盤の製造
が行われる。

【００４２】このような光ディスク原盤の製造方法にお
いては、感光性樹脂を塗布した後、この上に塩基性不純
物を透過しない膜を積層形成し、この後に感光性樹脂の
露光を行うようにしても良く、このようにすれば、塩基
性成分が感光性樹脂中の酸の機能を損なわせてしまうの
を更に抑えることが可能となり、パターンの形成が更に
正確に行われる。

【００４３】具体的には、感光性樹脂を塗布した後、例
えばポリビニルアルコール等の短波長紫外線領域の光に
対する透過性が高く、水溶性の材料よりなる薄膜をスピ
ンコートにより形成し、これを加熱処理する。なお、塩
基性不純物の透過を防ぐためには、上記薄膜の厚さは５
０ｎｍ程度とすることが好ましい。上記のように水溶性
の材料よりなる薄膜を形成するようにすれば、現像工程
においてこの薄膜は溶解除去される。

【００４４】また、このような光ディスク原盤の製造方
法においては、前述のように感光性樹脂の露光から現像
までの工程をアンモニア濃度が１ｐｐｂ以下の雰囲気中
において行うことが好ましく、このようにすれば、塩基
性成分が感光性樹脂中の酸の機能を損なわせてしまうの
を更に抑えることが可能となり、パターンの形成が更に
正確に行われる。

【００４５】雰囲気中のアンモニア濃度を１ｐｐｂ以下
に維持するために、光ディスク原盤の製造を図２に示す
ような装置内で行うようにしても良い。すなわち、外部
雰囲気から密閉されたクリーンブース１１の一部にフィ
ルター１２を設け、クリーンブース１１内に取り入れる
空気中のアンモニアの除去を可能とし、クリーンブース
１１内の空気中のアンモニア濃度を１ｐｐｂ以下に維持
できるようにする。なお、このクリーンブース１１内の
空気中のアンモニア濃度は常時監視可能となされてお
り、必要に応じて調整可能となされている。ここで、ア
ンモニア濃度を規定するようにしたのは、空気中の塩基
性不純物としては、アンモニアが代表的であるためであ
る。

【００４６】そして、このクリーンブース１１内に、基
板４上に塗布された図示しない感光性樹脂にパターンを
形成するべく光を照射するいわゆるカッティングマシー
ン１３、パターンの潜像が形成される感光性樹脂が形成
されている基板４を加熱処理する加熱板１４、感光性樹
脂を現像する現像装置１５を配するようにすれば良い。

【００４７】上記カッティングマシーン１３は本体１６
の一主面１６ａ上に、光源１６、ミラー１７，１９，２
１、音響光学素子１８、ビームエキスパンダー２０、対
物レンズ２２により構成される光学系２３が配され、前
述と同様にして光の照射が行われるものである。

【００４８】また、加熱板１４は、一主面１４ａ上に基
板４を載置してこれを均等に加熱するものである。

【００４９】さらに、現像装置１５は、本体２４と現像
液が充填される現像液タンク２５この現像液タンク２５
内の現像液を導出するパイプ２６、このパイプ２６の先
端に取り付けられ現像液を噴霧するノズル２７により構
成されるものであり、本体２４の一主面２４ａに現像液
を噴霧することが可能なようにノズル２７が配置されて
いる。従って、上記一主面２４ａ上にパターンの潜像が
形成された感光性樹脂が形成される基板４を載置し、こ
れに図中破線で示すように現像液を噴霧することで現像
を行うものである。

【００５０】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の光ディスク原盤の製造方法においては、基板上に、
露光により酸が生成されてこの酸が触媒として作用する
感光性樹脂を塗布し、上記感光性樹脂を波長が３００ｎ
ｍ以下のレーザ光により露光し、情報を示すパターンの
潜像を形成し、上記感光性樹脂を加熱処理し、上記感光
性樹脂を現像して情報を示すパターンを形成する。上記
感光性樹脂は、短波長紫外域における内部吸収が従来よ
り一般的に使用されているノボラック系レジストと比較
して格段に小さい。このため、ノボラック系レジストで
は対応が困難であった波長３００ｎｍ以下の短波長光で
の露光による微細化されたパターンの形成に十分対応す
る。従って、本発明の光ディスク原盤の製造方法によれ
ば、高記録密度化及び高記録容量化に対応可能な光ディ
スクの製造を可能とする光ディスク原盤の製造が可能と
なる。

【００５１】また、この感光性樹脂においては、露光時
に発生する酸を加熱処理時に触媒として機能させる光化
学反応メカニズムを利用していることから、感度も良好
であり、本発明の光ディスク原盤の製造方法によれば、
生産性良好に光ディスク原盤の製造が行われる。

【００５２】さらに、本発明の光ディスク原盤の製造方
法において、基板として無アルカリタイプのガラス或い
は合成石英ガラスよりなる基板を使用する、感光性樹脂
を塗布した後、この上に塩基性不純物を透過しない膜を
積層形成し、この後に感光性樹脂の露光を行うようにす
る、感光性樹脂の露光から現像までの工程をアンモニア
濃度が１ｐｐｂ以下の雰囲気中において行うようにすれ
ば、塩基性成分が感光性樹脂中の酸と反応して酸を失活
させ、その機能を損なわせてしまうことがなく、パター
ンの形成が正確に行われ、微細化されたパターンの形成
に更に好適となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】露光を行う光学系の一例を示す模式図である。

【図２】光ディスク原盤製造装置の一例を模式的に示す
要部概略斜視図である。

【符号の説明】

１光源、３対物レンズ、４基板、５パターン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、露光により酸が生成されてこ
の酸が触媒として作用する感光性樹脂を塗布する工程
と、上記感光性樹脂を波長が３００ｎｍ以下のレーザ光によ
り露光し、情報を示すパターンの潜像を形成する工程
と、上記感光性樹脂を加熱処理する工程と、上記感光性樹脂を現像して情報を示すパターンを形成す
る工程を有することを特徴とする光ディスク原盤の製造
方法。
【請求項２】感光性樹脂がアルカリ性現像液により現
像されることを特徴とする請求項１記載の光ディスク原
盤の製造方法。
【請求項３】基板として無アルカリタイプのガラス或
いは合成石英ガラスよりなる基板を使用することを特徴
とする請求項１記載の光ディスク原盤の製造方法。
【請求項４】感光性樹脂を塗布した後、この上に塩基
性不純物を透過しない膜を積層形成し、この後に感光性
樹脂の露光を行うことを特徴とする請求項１記載の光デ
ィスク原盤の製造方法。
【請求項５】感光性樹脂の露光から現像までの工程を
アンモニア濃度が１ｐｐｂ以下の雰囲気中において行う
ことを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤の製造
方法。