JP3301711B2 - 光記録検査ディスク及びその製造方法 - Google Patents
光記録検査ディスク及びその製造方法Info
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- JP3301711B2 JP3301711B2 JP04772897A JP4772897A JP3301711B2 JP 3301711 B2 JP3301711 B2 JP 3301711B2 JP 04772897 A JP04772897 A JP 04772897A JP 4772897 A JP4772897 A JP 4772897A JP 3301711 B2 JP3301711 B2 JP 3301711B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＷＯ−ＣＤ等の追記
型光ディスク装置及びＰＣＲ，ＤＶＤ等光相変化型光デ
ィスク装置等の書換え可能光ディスクドライブ装置にお
いて、その検査に用いられる光記録検査ディスクと光記
録検査ディスクの製造方法に関するものであり、特に書
込み再生時の互換性試験や光ピックアップの動作マージ
ン検査に用いられる擬似指紋パターンを有する光記録検
査ディスクとその製造方法に関するものである。
型光ディスク装置及びＰＣＲ，ＤＶＤ等光相変化型光デ
ィスク装置等の書換え可能光ディスクドライブ装置にお
いて、その検査に用いられる光記録検査ディスクと光記
録検査ディスクの製造方法に関するものであり、特に書
込み再生時の互換性試験や光ピックアップの動作マージ
ン検査に用いられる擬似指紋パターンを有する光記録検
査ディスクとその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスク、例えばＣＤ−ＲＯＭのドラ
イブ装置あるいはレーザディスクドライブ装置の信頼性
試験において、ディスク表面の欠陥のドライブへの影響
を検査する試験がある。この試験を行う場合は、記録層
に対向する光ディスク基板の表面にスクリーン印刷によ
り黒インクによる擬似指紋を形成した光検査ディスクを
用いて、光ディスクドライブの再生試験を行っている。
イブ装置あるいはレーザディスクドライブ装置の信頼性
試験において、ディスク表面の欠陥のドライブへの影響
を検査する試験がある。この試験を行う場合は、記録層
に対向する光ディスク基板の表面にスクリーン印刷によ
り黒インクによる擬似指紋を形成した光検査ディスクを
用いて、光ディスクドライブの再生試験を行っている。
【０００３】図５に従来の光検査ディスクの構造を示
す。図５（ａ）において、ＣＤ−ＲＯＭディスク５１は
データ領域５２と中心のセンター穴５３とを有してい
る。その一部の表面には擬似指紋となるパターン領域５
４が形成される。図５（ｂ）はパターン領域５４の一部
断面図である。ＣＤ−ＲＯＭディスクは例えばポリカー
ボネイト基板等の透明基板５７上にアルミ膜から成る反
射層５８，保護膜５９が形成されている。係る透明基板
５７は公知の技術により光学ピットが形成され、光学ピ
ットによりデータが記録されている。
す。図５（ａ）において、ＣＤ−ＲＯＭディスク５１は
データ領域５２と中心のセンター穴５３とを有してい
る。その一部の表面には擬似指紋となるパターン領域５
４が形成される。図５（ｂ）はパターン領域５４の一部
断面図である。ＣＤ−ＲＯＭディスクは例えばポリカー
ボネイト基板等の透明基板５７上にアルミ膜から成る反
射層５８，保護膜５９が形成されている。係る透明基板
５７は公知の技術により光学ピットが形成され、光学ピ
ットによりデータが記録されている。
【０００４】さて黒インクによる擬似指紋パターンは、
光学ピットと逆の面の透明基板５７上にスクリーン印刷
されていた。この擬似指紋パターンは遮光部５５と非遮
光部５６から構成され、該遮光部と非遮光部の面積比が
一定となるように形成される。具体的には、光ディスク
上に擬似指紋パターンに対応する部分に開口を有する版
を重ね、係る版に遮光性の黒色樹脂６０をスキージによ
り塗布し、遮光部と非遮光部の面積比が一定の擬似指紋
パターンを形成し、光検査ディスクを構成していた。
光学ピットと逆の面の透明基板５７上にスクリーン印刷
されていた。この擬似指紋パターンは遮光部５５と非遮
光部５６から構成され、該遮光部と非遮光部の面積比が
一定となるように形成される。具体的には、光ディスク
上に擬似指紋パターンに対応する部分に開口を有する版
を重ね、係る版に遮光性の黒色樹脂６０をスキージによ
り塗布し、遮光部と非遮光部の面積比が一定の擬似指紋
パターンを形成し、光検査ディスクを構成していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記の光
検査ディスクはＣＤ−ＲＯＭ等のリードオンリ型光ディ
スクに対する検査ディスクであり、ＷＯＲＭ等の追記型
光ディスクや相変化型光ディスク等の光記録検査ディス
クに擬似指紋パターンを形成したものではなかった。又
従来のスクリーン印刷法では、１００マイクロメートル
以下の高精度パターンができず、しかも擬似指紋パター
ンの形状にばらつきが生じ、又容易にパターンが剥離す
るという問題点があった。
検査ディスクはＣＤ−ＲＯＭ等のリードオンリ型光ディ
スクに対する検査ディスクであり、ＷＯＲＭ等の追記型
光ディスクや相変化型光ディスク等の光記録検査ディス
クに擬似指紋パターンを形成したものではなかった。又
従来のスクリーン印刷法では、１００マイクロメートル
以下の高精度パターンができず、しかも擬似指紋パター
ンの形状にばらつきが生じ、又容易にパターンが剥離す
るという問題点があった。
【０００６】そこで高精細擬似指紋パターンを形成する
手法として、半導体プロセスに採用されているフォトリ
ソグラフィ技術の採用が検討されてきた。この方法では
透明基板上に直接樹脂を塗布する際に、透明基板である
ポリカーボネイト基板の表面性を改善するために表面活
性剤をあらかじめ塗布する。しかる後に光感応基を有す
る樹脂、例えばフォトレジストを塗布し、ベーキングし
た後、擬似指紋パターンを有するガラスマスクを介して
紫外線を照射し擬似指紋パターンを作成する。
手法として、半導体プロセスに採用されているフォトリ
ソグラフィ技術の採用が検討されてきた。この方法では
透明基板上に直接樹脂を塗布する際に、透明基板である
ポリカーボネイト基板の表面性を改善するために表面活
性剤をあらかじめ塗布する。しかる後に光感応基を有す
る樹脂、例えばフォトレジストを塗布し、ベーキングし
た後、擬似指紋パターンを有するガラスマスクを介して
紫外線を照射し擬似指紋パターンを作成する。
【０００７】しかしながら紫外線を発生する超高圧水銀
燈は紫外線以外の長波長の輝線スペクトルを発生するた
めに、透明基板を通過した光により記録層が変質すると
いう問題があった。この問題を解消するには紫外線のみ
を透過させるように、波長バンドパスフィルタを最適化
することが必要であった。又擬似指紋パターン形成時の
現像過程において、現像液に含まれるアルカリ成分のた
めにポリカーボネイト基板等の透明基板の表面がエッチ
ングされ、光がディスク表面で散乱されるために反射率
が減少するという問題があり、現像条件の最適化が厳し
いという問題があった。
燈は紫外線以外の長波長の輝線スペクトルを発生するた
めに、透明基板を通過した光により記録層が変質すると
いう問題があった。この問題を解消するには紫外線のみ
を透過させるように、波長バンドパスフィルタを最適化
することが必要であった。又擬似指紋パターン形成時の
現像過程において、現像液に含まれるアルカリ成分のた
めにポリカーボネイト基板等の透明基板の表面がエッチ
ングされ、光がディスク表面で散乱されるために反射率
が減少するという問題があり、現像条件の最適化が厳し
いという問題があった。
【０００８】本発明はこのような従来の問題点に鑑みて
なされたものであって、所望の均一の高精細擬似指紋パ
ターンを有する光記録検査ディスクとその製造方法を提
供することを目的とする。
なされたものであって、所望の均一の高精細擬似指紋パ
ターンを有する光記録検査ディスクとその製造方法を提
供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本願の請求項１の発明
は、透明基板上に光で反応する記録層、反射層、保護膜
を積層して構成される光記録ディスクを用い、前記記録
層と対向する透明基板上に金属の遮光膜を形成し、前記
遮光膜上に光に感応するパターン形成可能な光感応樹脂
層を形成し、前記光感応樹脂面上に所定のパターンを有
するガラスマスクを重ねて前記光感応樹脂の感応基に作
用する光を照射することにより所望のパターンを形成
し、前記パターンをマスクとし、前記遮光膜をエッチン
グすることにより、光記録検査ディスクを製造すること
を特徴とするものである。
は、透明基板上に光で反応する記録層、反射層、保護膜
を積層して構成される光記録ディスクを用い、前記記録
層と対向する透明基板上に金属の遮光膜を形成し、前記
遮光膜上に光に感応するパターン形成可能な光感応樹脂
層を形成し、前記光感応樹脂面上に所定のパターンを有
するガラスマスクを重ねて前記光感応樹脂の感応基に作
用する光を照射することにより所望のパターンを形成
し、前記パターンをマスクとし、前記遮光膜をエッチン
グすることにより、光記録検査ディスクを製造すること
を特徴とするものである。
【００１０】本願の請求項２の発明は、透明基板の一方
の面上に形成され光で反応する記録層と、前記記録層上
に形成された反射層と、前記反射層上に形成された保護
膜と、前記透明基板の他方の面上に遮光膜及び該遮光膜
の上部の光感応樹脂層により形成された所定のパターン
の擬似指紋パターンと、を有することを特徴とするもの
である。
の面上に形成され光で反応する記録層と、前記記録層上
に形成された反射層と、前記反射層上に形成された保護
膜と、前記透明基板の他方の面上に遮光膜及び該遮光膜
の上部の光感応樹脂層により形成された所定のパターン
の擬似指紋パターンと、を有することを特徴とするもの
である。
【００１１】本願の請求項３の発明は、透明基板上に順
次第１の誘電体層、光で反応する記録層、第２の誘電体
層、反射層、保護膜を積層して構成される光記録ディス
クを用い、前記記録層と対向する透明基板上に金属の遮
光膜を形成し、前記遮光膜上に光に感応するパターン形
成可能な光感応樹脂層を形成し、前記光感応樹脂層上に
所定のパターンを有するガラスマスクを重ねて前記光感
応樹脂の感応基に作用する光を照射することにより所望
のパターンを形成し、前記パターンをマスクとし、前記
遮光膜をエッチングすることにより、光記録検査ディス
クを製造することを特徴とするものである。
次第１の誘電体層、光で反応する記録層、第２の誘電体
層、反射層、保護膜を積層して構成される光記録ディス
クを用い、前記記録層と対向する透明基板上に金属の遮
光膜を形成し、前記遮光膜上に光に感応するパターン形
成可能な光感応樹脂層を形成し、前記光感応樹脂層上に
所定のパターンを有するガラスマスクを重ねて前記光感
応樹脂の感応基に作用する光を照射することにより所望
のパターンを形成し、前記パターンをマスクとし、前記
遮光膜をエッチングすることにより、光記録検査ディス
クを製造することを特徴とするものである。
【００１２】本願の請求項４の発明は、透明基板の一方
の面上に形成される第１の誘電体層と、前記第１の誘電
体層上に形成され光で反応する記録層と、前記記録層上
に形成された第２の誘電体層と、前記第２の誘電体層に
形成された反射層と、前記反射層上に形成された保護膜
と、前記透明基板の他方の面上に遮光膜及び該遮光膜の
上部の光感応樹脂層により形成された所定のパターンの
擬似指紋パターンと、を有することを特徴とするもので
ある。
の面上に形成される第１の誘電体層と、前記第１の誘電
体層上に形成され光で反応する記録層と、前記記録層上
に形成された第２の誘電体層と、前記第２の誘電体層に
形成された反射層と、前記反射層上に形成された保護膜
と、前記透明基板の他方の面上に遮光膜及び該遮光膜の
上部の光感応樹脂層により形成された所定のパターンの
擬似指紋パターンと、を有することを特徴とするもので
ある。
【００１３】本願の請求項５の発明では、前記遮光膜
は、酸性エッチャントによりエッチングできる金属材料
により形成し、前記遮光膜を酸性エッチャントによりエ
ッチングすることにより擬似指紋パターンを形成したこ
とを特徴とするものである。
は、酸性エッチャントによりエッチングできる金属材料
により形成し、前記遮光膜を酸性エッチャントによりエ
ッチングすることにより擬似指紋パターンを形成したこ
とを特徴とするものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施の形態
による追記型光記録検査ディスクの製造方法を示す。図
１（ａ）は追記型の光ディスク（ＷＯ−ＣＤ）を示して
おり、溝の形成された光ディスクの透明基板１の一方の
面に光反応基を含む記録層２、反射層３、保護膜４が積
層して形成されている。そして図１（ｂ）に示すよう
に、まず透明基板１の他方の面上に酸性エッチャントで
エッチングできる金属から成る遮光膜５を形成する。こ
の遮光膜５は真空加熱蒸着あるいはスパッタ蒸着等公知
の蒸着方法により形成し、膜厚を記録再生の光源波長に
対して十分な遮光効果がある膜厚とする。例えばインジ
ウム（Ｉｎ）を用いた場合には２０ナノメートル以上と
する。しかる後に図１（ｃ）に示すように遮光膜５上
に、光に感応しパターン形成可能な光感応樹脂層、例え
ばフォトレジスト層６を１マイクロメートル以上コーテ
ィングする。フォトレジスト層６は露光部分が現像液に
溶けるポジ型レジスト、及び露光部でポリマーの架橋形
成が起こるネガ型レジストのどちらでも同様の効果が得
られる。レジストの種類により後述のパターンが決定さ
れる。その後９０℃で３０分間プリベーキングした後、
所望の擬似指紋パターンを有するフォトマスク７を光デ
ィスクに位置合わせする。フォトマスク７は図１（ｄ）
に示すように透明部分８，遮光部分９を有し、これによ
って擬似指紋パターンが形成されている。次いでフォト
レジスト層６が感応する波長、例えば紫外線で露光す
る。そして所望の現像液により現像後、１３０℃で３０
分ポストベーキングすると、図２（ｅ）に示すようにフ
ォトマスク７の遮光部分に樹脂パターン１１を形成する
ことができる。
による追記型光記録検査ディスクの製造方法を示す。図
１（ａ）は追記型の光ディスク（ＷＯ−ＣＤ）を示して
おり、溝の形成された光ディスクの透明基板１の一方の
面に光反応基を含む記録層２、反射層３、保護膜４が積
層して形成されている。そして図１（ｂ）に示すよう
に、まず透明基板１の他方の面上に酸性エッチャントで
エッチングできる金属から成る遮光膜５を形成する。こ
の遮光膜５は真空加熱蒸着あるいはスパッタ蒸着等公知
の蒸着方法により形成し、膜厚を記録再生の光源波長に
対して十分な遮光効果がある膜厚とする。例えばインジ
ウム（Ｉｎ）を用いた場合には２０ナノメートル以上と
する。しかる後に図１（ｃ）に示すように遮光膜５上
に、光に感応しパターン形成可能な光感応樹脂層、例え
ばフォトレジスト層６を１マイクロメートル以上コーテ
ィングする。フォトレジスト層６は露光部分が現像液に
溶けるポジ型レジスト、及び露光部でポリマーの架橋形
成が起こるネガ型レジストのどちらでも同様の効果が得
られる。レジストの種類により後述のパターンが決定さ
れる。その後９０℃で３０分間プリベーキングした後、
所望の擬似指紋パターンを有するフォトマスク７を光デ
ィスクに位置合わせする。フォトマスク７は図１（ｄ）
に示すように透明部分８，遮光部分９を有し、これによ
って擬似指紋パターンが形成されている。次いでフォト
レジスト層６が感応する波長、例えば紫外線で露光す
る。そして所望の現像液により現像後、１３０℃で３０
分ポストベーキングすると、図２（ｅ）に示すようにフ
ォトマスク７の遮光部分に樹脂パターン１１を形成する
ことができる。
【００１５】その後、金属の遮光膜のエッチャントに前
述の擬似指紋パターンの形成された光ディスク基板を浸
し、図２（ｆ）に示すようにレジストのない露出した遮
光膜５の金属をエッチングする。例えばインジウム（Ｉ
ｎ）を含む遮光膜５の場合には、塩化第２鉄を含む酸性
エッチャントを用いてエッチングできる。尚遮光膜５の
金属はインジウムに限定されるものではなく、遮光性が
あり、酸性エッチャントでエッチングできるものが望ま
しい。例えばインジウム以外に、アルミニウム（Ａ
ｌ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、
ニッケル（Ｎｉ）等を含む遮光膜であれば、同様の効果
を得ることができる。
述の擬似指紋パターンの形成された光ディスク基板を浸
し、図２（ｆ）に示すようにレジストのない露出した遮
光膜５の金属をエッチングする。例えばインジウム（Ｉ
ｎ）を含む遮光膜５の場合には、塩化第２鉄を含む酸性
エッチャントを用いてエッチングできる。尚遮光膜５の
金属はインジウムに限定されるものではなく、遮光性が
あり、酸性エッチャントでエッチングできるものが望ま
しい。例えばインジウム以外に、アルミニウム（Ａ
ｌ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、
ニッケル（Ｎｉ）等を含む遮光膜であれば、同様の効果
を得ることができる。
【００１６】以上述べた第１の実施の形態により、図３
に示すように数マイクロメートル以下の精度で擬似指紋
パターンを有する光記録検査ディスクを得ることができ
る。更に遮光膜５を２０ナノメートル以上と厚く形成す
ることにより、通常の書込み、再生用光源での波長に対
する透過率を１０％以下に低減できる。その結果、光に
反応する記録層２の光劣化を起こすことなく、擬似指紋
パターンを形成できる。
に示すように数マイクロメートル以下の精度で擬似指紋
パターンを有する光記録検査ディスクを得ることができ
る。更に遮光膜５を２０ナノメートル以上と厚く形成す
ることにより、通常の書込み、再生用光源での波長に対
する透過率を１０％以下に低減できる。その結果、光に
反応する記録層２の光劣化を起こすことなく、擬似指紋
パターンを形成できる。
【００１７】又金属の遮光膜５を透明ポリカーボネイト
等の透明基板上に形成することにより、基板に対するフ
ォトレジストのぬれ性が改善される。更に係る遮光膜５
の材料として酸性エッチャントでエッチングできる金属
を選択することにより、透明基板を腐食することなく、
フォトレジストと概同一形状の遮光膜５を含む擬似指紋
パターンを形成できる。係るフォトレジストは除去する
必要はなく、光吸収性をもつため、擬似指紋パターンと
して作用する。更に本製造方法を用いることにより、擬
似指紋パターンの遮光部と、非遮光部との面積比を高精
度に均一に制御でき、定量化された擬似指紋パターンを
具備する光記録検査ディスクを提供できる。
等の透明基板上に形成することにより、基板に対するフ
ォトレジストのぬれ性が改善される。更に係る遮光膜５
の材料として酸性エッチャントでエッチングできる金属
を選択することにより、透明基板を腐食することなく、
フォトレジストと概同一形状の遮光膜５を含む擬似指紋
パターンを形成できる。係るフォトレジストは除去する
必要はなく、光吸収性をもつため、擬似指紋パターンと
して作用する。更に本製造方法を用いることにより、擬
似指紋パターンの遮光部と、非遮光部との面積比を高精
度に均一に制御でき、定量化された擬似指紋パターンを
具備する光記録検査ディスクを提供できる。
【００１８】次に本発明の第２の実施の形態について説
明する。第２の実施の形態による光記録検査ディスクは
相変化型光ディスクについて本発明を適用したものであ
る。即ち図４は透明基板２１の一方の面上にあらかじめ
溝が形成され、その溝上に第１の誘電体層２２，記録層
２３，第２の誘電体層２４及びアルミニウム等の反射層
２５が形成され、更にその上部に保護膜２６が形成され
て相変化型光ディスクが構成される。この相変化型光デ
ィスクに対しても前述した第１の実施の形態と同様の過
程で透明基板２１の他方の面に遮光膜２７を形成し、そ
の上部にフォトレジスト層２８を積層して所定のパター
ンを有するフォトマスクを介して紫外線を照射し、ポス
トベーキングする。そして遮光部分に樹脂パターンを形
成し、遮光膜２７を酸性エッチャント等を用いてエッチ
ングすることにより、図４に示す光記録検査ディスクを
構成することができる。
明する。第２の実施の形態による光記録検査ディスクは
相変化型光ディスクについて本発明を適用したものであ
る。即ち図４は透明基板２１の一方の面上にあらかじめ
溝が形成され、その溝上に第１の誘電体層２２，記録層
２３，第２の誘電体層２４及びアルミニウム等の反射層
２５が形成され、更にその上部に保護膜２６が形成され
て相変化型光ディスクが構成される。この相変化型光デ
ィスクに対しても前述した第１の実施の形態と同様の過
程で透明基板２１の他方の面に遮光膜２７を形成し、そ
の上部にフォトレジスト層２８を積層して所定のパター
ンを有するフォトマスクを介して紫外線を照射し、ポス
トベーキングする。そして遮光部分に樹脂パターンを形
成し、遮光膜２７を酸性エッチャント等を用いてエッチ
ングすることにより、図４に示す光記録検査ディスクを
構成することができる。
【００１９】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本願の請求項
１，２の発明による光記録検査ディスクとその製造方法
により、記録層の光学的な劣化もなく、所望の高精度の
擬似指紋パターンを有する追記型光検査ディスクを実現
することができる。又本願の請求項３，４の発明によれ
ば、記録層の光学的な劣化もなく、所望の高精度な金属
から成るパターンを具備するＰＣＲ、又はＤＶＤ等光相
変化型の光記録検査ディスクを実現することができる。
又請求項５の発明によれば、酸性エッチャントを用いて
エッチングするため、光入射側のポリカーボネイト等の
透明基板の腐食がなく、従ってディスク表面反射率の低
下をなくすることができるという効果が得られる。
１，２の発明による光記録検査ディスクとその製造方法
により、記録層の光学的な劣化もなく、所望の高精度の
擬似指紋パターンを有する追記型光検査ディスクを実現
することができる。又本願の請求項３，４の発明によれ
ば、記録層の光学的な劣化もなく、所望の高精度な金属
から成るパターンを具備するＰＣＲ、又はＤＶＤ等光相
変化型の光記録検査ディスクを実現することができる。
又請求項５の発明によれば、酸性エッチャントを用いて
エッチングするため、光入射側のポリカーボネイト等の
透明基板の腐食がなく、従ってディスク表面反射率の低
下をなくすることができるという効果が得られる。
【図１】本発明の第１の実施の形態による光記録検査デ
ィスクの製造工程を示す図（その１）である。
ィスクの製造工程を示す図（その１）である。
【図２】本発明の第１の実施の形態による光記録検査デ
ィスクの製造工程を示す図（その２）である。
ィスクの製造工程を示す図（その２）である。
【図３】本発明の第１の実施の形態により製造された追
記型光記録検査ディスクの断面図である。
記型光記録検査ディスクの断面図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態により製造された光
相変化型検査ディスクの断面図である。
相変化型検査ディスクの断面図である。
【図５】従来のＣＤ−ＲＯＭ光検査ディスクの擬似指紋
パターンと、その一部の断面図である。
パターンと、その一部の断面図である。
１，２１，５７ 透明基板 ２，２３ 記録層 ３，２５，５８ 反射層 ４，２６，５９ 保護膜 ５，２７ 遮光膜 ６，２８ フォトレジスト層 ７ フォトマスク ８ フォトマスクの透明部分 ９ フォトマスクの遮光部分 １１ 樹脂パターン １２ 擬似指紋パターン ２２，２４ 誘電体層 ５１ ＣＤ−ＲＯＭディスク ５２ データ領域 ５３ 開口部 ５４ 擬似指紋パターン ５５ 遮光部 ５６ 非遮光部 ６０ 黒色樹脂
Claims (5)
- 【請求項１】 透明基板上に光で反応する記録層、反射
層、保護膜を積層して構成される光記録ディスクを用
い、前記記録層と対向する透明基板上に金属の遮光膜を
形成し、 前記遮光膜上に光に感応するパターン形成可能な光感応
樹脂層を形成し、 前記光感応樹脂面上に所定のパターンを有するガラスマ
スクを重ねて前記光感応樹脂の感応基に作用する光を照
射することにより所望のパターンを形成し、 前記パターンをマスクとし、前記遮光膜をエッチングす
ることにより、光記録検査ディスクを製造することを特
徴とする光記録検査ディスクの製造方法。 - 【請求項２】 透明基板の一方の面上に形成され光で反
応する記録層と、 前記記録層上に形成された反射層と、 前記反射層上に形成された保護膜と、 前記透明基板の他方の面上に遮光膜及び該遮光膜の上部
の光感応樹脂層により形成された所定のパターンの擬似
指紋パターンと、を有することを特徴とする光記録検査
ディスク。 - 【請求項３】 透明基板上に順次第１の誘電体層、光で
反応する記録層、第２の誘電体層、反射層、保護膜を積
層して構成される光記録ディスクを用い、前記記録層と
対向する透明基板上に金属の遮光膜を形成し、 前記遮光膜上に光に感応するパターン形成可能な光感応
樹脂層を形成し、 前記光感応樹脂層上に所定のパターンを有するガラスマ
スクを重ねて前記光感応樹脂の感応基に作用する光を照
射することにより所望のパターンを形成し、 前記パターンをマスクとし、前記遮光膜をエッチングす
ることにより、光記録検査ディスクを製造することを特
徴とする光記録検査ディスクの製造方法。 - 【請求項４】 透明基板の一方の面上に形成される第１
の誘電体層と、 前記第１の誘電体層上に形成され光で反応する記録層
と、 前記記録層上に形成された第２の誘電体層と、 前記第２の誘電体層に形成された反射層と、 前記反射層上に形成された保護膜と、 前記透明基板の他方の面上に遮光膜及び該遮光膜の上部
の光感応樹脂層により形成された所定のパターンの擬似
指紋パターンと、を有することを特徴とする光記録検査
ディスク。 - 【請求項５】 前記遮光膜は、酸性エッチャントにより
エッチングできる金属材料により形成し、 前記遮光膜を酸性エッチャントによりエッチングするこ
とにより擬似指紋パターンを形成したことを特徴とする
請求項１又は３記載の光記録検査ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04772897A JP3301711B2 (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 光記録検査ディスク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04772897A JP3301711B2 (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 光記録検査ディスク及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10241210A JPH10241210A (ja) | 1998-09-11 |
| JP3301711B2 true JP3301711B2 (ja) | 2002-07-15 |
Family
ID=12783408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04772897A Expired - Fee Related JP3301711B2 (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 光記録検査ディスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3301711B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5427413B2 (ja) * | 2006-11-24 | 2014-02-26 | 株式会社ソニー・コンピュータエンタテインメント | 擬似汚れ付着パターン生成方法および光検査用ディスク |
-
1997
- 1997-03-03 JP JP04772897A patent/JP3301711B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10241210A (ja) | 1998-09-11 |
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