JPH10241208A - 光記録検査ディスク - Google Patents
光記録検査ディスクInfo
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- JPH10241208A JPH10241208A JP9047729A JP4772997A JPH10241208A JP H10241208 A JPH10241208 A JP H10241208A JP 9047729 A JP9047729 A JP 9047729A JP 4772997 A JP4772997 A JP 4772997A JP H10241208 A JPH10241208 A JP H10241208A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 追記型、又は書換え可能光ディスクドライブ
装置において、光ディスクの記録，再生時の互換性や光
ピックの動作マージンを測定するための光記録検査ディ
スクを提供すること。 【解決手段】 光ディスク３１は、透明基板の一方の面
上に光で反応する記録層、反射層、保護膜を積層して構
成される。この透明基板の他方の面上に金属の遮光膜と
続いてフォトレジスト層を形成する。そしてフォトリソ
グラフにより樹脂の擬似指紋パターンを形成する。その
後にこのパターンをマスクとして金属の遮光膜をエッチ
ングする。そして擬似指紋パターン３４は遮光部と非遮
光部の面積比を異ならせた複数の領域３５，３６を形成
する。こうすれば光の入射する位置によって記録層に入
射するレーザ光を複数レベルに設定でき、互換性や動作
マージンを測定することができる。
装置において、光ディスクの記録，再生時の互換性や光
ピックの動作マージンを測定するための光記録検査ディ
スクを提供すること。 【解決手段】 光ディスク３１は、透明基板の一方の面
上に光で反応する記録層、反射層、保護膜を積層して構
成される。この透明基板の他方の面上に金属の遮光膜と
続いてフォトレジスト層を形成する。そしてフォトリソ
グラフにより樹脂の擬似指紋パターンを形成する。その
後にこのパターンをマスクとして金属の遮光膜をエッチ
ングする。そして擬似指紋パターン３４は遮光部と非遮
光部の面積比を異ならせた複数の領域３５，３６を形成
する。こうすれば光の入射する位置によって記録層に入
射するレーザ光を複数レベルに設定でき、互換性や動作
マージンを測定することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＷＯ−ＣＤ等の追記
型光ディスク装置及びＰＣＲ，ＤＶＤ等光相変化型光デ
ィスク装置等の書換え可能光ディスクドライブ装置にお
いて、その検査に用いられる光記録検査ディスクに関す
るものであり、特に書込み再生時の互換性試験や光ピッ
クマップの動作マージン検査に用いられる擬似指紋パタ
ーンを有する光記録検査ディスクに関するものである。
型光ディスク装置及びＰＣＲ，ＤＶＤ等光相変化型光デ
ィスク装置等の書換え可能光ディスクドライブ装置にお
いて、その検査に用いられる光記録検査ディスクに関す
るものであり、特に書込み再生時の互換性試験や光ピッ
クマップの動作マージン検査に用いられる擬似指紋パタ
ーンを有する光記録検査ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスク、例えばＣＤ−ＲＯＭのドラ
イブ装置あるいはレーザディスクドライブ装置の信頼性
試験において、ディスク表面の欠陥のドライブへの影響
を検査する試験がある。この試験を行う場合は、記録層
に対向する光ディスク基板の表面にスクリーン印刷によ
り黒インクによる擬似指紋を形成した光検査ディスクを
用いて、光ディスクドライブの再生試験を行っている。
イブ装置あるいはレーザディスクドライブ装置の信頼性
試験において、ディスク表面の欠陥のドライブへの影響
を検査する試験がある。この試験を行う場合は、記録層
に対向する光ディスク基板の表面にスクリーン印刷によ
り黒インクによる擬似指紋を形成した光検査ディスクを
用いて、光ディスクドライブの再生試験を行っている。
【０００３】図６に従来の光検査ディスクの構造を示
す。図６（ａ）において、ＣＤ−ＲＯＭディスク５１は
データ領域５２と中心のセンター穴５３とを有してい
る。その一部の表面には擬似指紋となるパターン領域５
４が形成される。図６（ｂ）はパターン領域５４の一部
断面図である。ＣＤ−ＲＯＭディスクは例えばポリカー
ボネイト基板等の透明基板５７上にアルミ膜から成る反
射層５８，保護膜５９が形成されている。係る透明基板
５７は公知の技術により光学ピットが形成され、光学ピ
ットによりデータが記録されている。
す。図６（ａ）において、ＣＤ−ＲＯＭディスク５１は
データ領域５２と中心のセンター穴５３とを有してい
る。その一部の表面には擬似指紋となるパターン領域５
４が形成される。図６（ｂ）はパターン領域５４の一部
断面図である。ＣＤ−ＲＯＭディスクは例えばポリカー
ボネイト基板等の透明基板５７上にアルミ膜から成る反
射層５８，保護膜５９が形成されている。係る透明基板
５７は公知の技術により光学ピットが形成され、光学ピ
ットによりデータが記録されている。
【０００４】さて黒インクによる擬似指紋パターンは、
光学ピットと逆の面の透明基板５７上にスクリーン印刷
されていた。この擬似指紋パターンは遮光部５５と非遮
光部５６から構成され、該遮光部と非遮光部の面積比が
一定となるように形成される。具体的には、光ディスク
上に擬似指紋パターンに対応する部分に開口を有する版
を重ね、係る版に遮光性の黒色樹脂６０をスキージによ
り塗布し、遮光部と非遮光部の面積比が一定の擬似指紋
パターンを形成し、光検査ディスクを構成していた。
光学ピットと逆の面の透明基板５７上にスクリーン印刷
されていた。この擬似指紋パターンは遮光部５５と非遮
光部５６から構成され、該遮光部と非遮光部の面積比が
一定となるように形成される。具体的には、光ディスク
上に擬似指紋パターンに対応する部分に開口を有する版
を重ね、係る版に遮光性の黒色樹脂６０をスキージによ
り塗布し、遮光部と非遮光部の面積比が一定の擬似指紋
パターンを形成し、光検査ディスクを構成していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記の光
検査ディスクはＣＤ−ＲＯＭ等のリードオンリ型光ディ
スクに対する検査ディスクであり、ＷＯＲＭ等の追記型
光ディスクや相変化型光ディスク等の光記録検査ディス
クに擬似指紋パターンを形成したものではなかった。又
従来のスクリーン印刷法では、１００マイクロメートル
以下の高精度パターンができず、しかも擬似指紋パター
ンの形状にばらつきが生じ、又容易にパターンが剥離す
るという問題点があった。
検査ディスクはＣＤ−ＲＯＭ等のリードオンリ型光ディ
スクに対する検査ディスクであり、ＷＯＲＭ等の追記型
光ディスクや相変化型光ディスク等の光記録検査ディス
クに擬似指紋パターンを形成したものではなかった。又
従来のスクリーン印刷法では、１００マイクロメートル
以下の高精度パターンができず、しかも擬似指紋パター
ンの形状にばらつきが生じ、又容易にパターンが剥離す
るという問題点があった。
【０００６】又従来の擬似指紋パターンにおいては、遮
光部と非遮光部の面積比は１種類した設定されていない
ので、光ディスクの書込み，再生時の互換性を評価した
り、光ディスクドライブの光ピックアップの動作マージ
ンを正確に測定することが難しいという欠点があった。
光部と非遮光部の面積比は１種類した設定されていない
ので、光ディスクの書込み，再生時の互換性を評価した
り、光ディスクドライブの光ピックアップの動作マージ
ンを正確に測定することが難しいという欠点があった。
【０００７】本発明はこのような従来の問題点に鑑みて
なされたものであって、高細密の擬似指紋パターンを有
し、しかも互換性や動作マージンの評価が容易な光記録
検査ディスクを提供することを目的とする。
なされたものであって、高細密の擬似指紋パターンを有
し、しかも互換性や動作マージンの評価が容易な光記録
検査ディスクを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本願の請求項１の発明
は、透明基板の一方の面上に形成され光で反応する記録
層と、前記記録層上に形成された反射層と、前記反射層
上に形成された保護膜と、前記透明基板の他方の面上に
遮光膜及び該遮光膜の上部の光感応樹脂層により形成さ
れた所定のパターンの擬似指紋パターンと、を有し、前
記擬似指紋パターンは遮光部と非遮光部の面積比を互い
に異ならせた複数の領域を有することを特徴とするもの
である。
は、透明基板の一方の面上に形成され光で反応する記録
層と、前記記録層上に形成された反射層と、前記反射層
上に形成された保護膜と、前記透明基板の他方の面上に
遮光膜及び該遮光膜の上部の光感応樹脂層により形成さ
れた所定のパターンの擬似指紋パターンと、を有し、前
記擬似指紋パターンは遮光部と非遮光部の面積比を互い
に異ならせた複数の領域を有することを特徴とするもの
である。
【０００９】本願の請求項２の発明は、透明基板の一方
の面上に形成される第１の誘電体層と、前記第１の誘電
体層上に形成され光で反応する記録層と、前記記録層上
に形成された第２の誘電体層と、前記第２の誘電体層に
形成された反射層と、前記反射層上に形成された保護膜
と、前記透明基板の他方の面上に遮光膜及び該遮光膜の
上部の光感応樹脂層により形成された所定のパターンの
擬似指紋パターンと、を有し、前記擬似指紋パターンは
遮光部と非遮光部の面積比を互いに異ならせた複数の領
域を有することを特徴とするものである。
の面上に形成される第１の誘電体層と、前記第１の誘電
体層上に形成され光で反応する記録層と、前記記録層上
に形成された第２の誘電体層と、前記第２の誘電体層に
形成された反射層と、前記反射層上に形成された保護膜
と、前記透明基板の他方の面上に遮光膜及び該遮光膜の
上部の光感応樹脂層により形成された所定のパターンの
擬似指紋パターンと、を有し、前記擬似指紋パターンは
遮光部と非遮光部の面積比を互いに異ならせた複数の領
域を有することを特徴とするものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施の形態
による追記型光記録検査ディスクの製造方法を示す。図
１（ａ）は追記型の光ディスク（ＷＯ−ＣＤ）を示して
いる。追記型光ディスクはあらかじめスタンパにより片
面に溝の形成されたポリカーボネイト基板等の透明基板
１に記録層２が塗布され、金等の光反射層３が形成さ
れ、保護膜４が塗布された後、紫外線硬化されて形成さ
れる。記録層としてはシアニン系色素やフタロシアニン
系色素，シアニンフリー系色素が用いられている。そし
て図１（ｂ）に示すように、まず透明基板１の他方の面
上に酸性エッチャントでエッチングできる金属から成る
遮光膜５を形成する。この遮光膜５は真空加熱蒸着ある
いはスパッタ蒸着等公知の蒸着方法により形成し、膜厚
を記録再生の光源波長に対して十分な遮光効果がある膜
厚とする。例えばインジウム（Ｉｎ）を用いた場合には
２０ナノメートル以上とする。しかる後に図１（ｃ）に
示すように遮光膜５上に、光に感応しパターン形成可能
な光感応樹脂層、例えばフォトレジスト層６を１マイク
ロメートル以上コーティングする。フォトレジスト層６
は露光部分が現像液に溶けるポジ型レジスト、及び露光
部でポリマーの架橋形成が起こるネガ型レジストのどち
らでも同様の効果が得られる。レジストの種類により後
述のパターンが決定される。その後９０℃で３０分間プ
リベーキングした後、所望の擬似指紋パターンを有する
フォトマスク７を光ディスクに位置合わせする。フォト
マスク７は図１（ｄ）に示すように透明部分８，遮光部
分９を有し、これによって擬似指紋パターンが形成され
ている。次いでフォトレジスト層６が感応する波長、例
えば紫外線で露光する。そして所望の現像液により現像
後、１３０℃で３０分ポストベーキングすると、図２
（ｅ）に示すようにフォトマスク７の遮光部分に樹脂パ
ターン１１を形成することができる。
による追記型光記録検査ディスクの製造方法を示す。図
１（ａ）は追記型の光ディスク（ＷＯ−ＣＤ）を示して
いる。追記型光ディスクはあらかじめスタンパにより片
面に溝の形成されたポリカーボネイト基板等の透明基板
１に記録層２が塗布され、金等の光反射層３が形成さ
れ、保護膜４が塗布された後、紫外線硬化されて形成さ
れる。記録層としてはシアニン系色素やフタロシアニン
系色素，シアニンフリー系色素が用いられている。そし
て図１（ｂ）に示すように、まず透明基板１の他方の面
上に酸性エッチャントでエッチングできる金属から成る
遮光膜５を形成する。この遮光膜５は真空加熱蒸着ある
いはスパッタ蒸着等公知の蒸着方法により形成し、膜厚
を記録再生の光源波長に対して十分な遮光効果がある膜
厚とする。例えばインジウム（Ｉｎ）を用いた場合には
２０ナノメートル以上とする。しかる後に図１（ｃ）に
示すように遮光膜５上に、光に感応しパターン形成可能
な光感応樹脂層、例えばフォトレジスト層６を１マイク
ロメートル以上コーティングする。フォトレジスト層６
は露光部分が現像液に溶けるポジ型レジスト、及び露光
部でポリマーの架橋形成が起こるネガ型レジストのどち
らでも同様の効果が得られる。レジストの種類により後
述のパターンが決定される。その後９０℃で３０分間プ
リベーキングした後、所望の擬似指紋パターンを有する
フォトマスク７を光ディスクに位置合わせする。フォト
マスク７は図１（ｄ）に示すように透明部分８，遮光部
分９を有し、これによって擬似指紋パターンが形成され
ている。次いでフォトレジスト層６が感応する波長、例
えば紫外線で露光する。そして所望の現像液により現像
後、１３０℃で３０分ポストベーキングすると、図２
（ｅ）に示すようにフォトマスク７の遮光部分に樹脂パ
ターン１１を形成することができる。
【００１１】その後、金属の遮光膜のエッチャントに前
述の擬似指紋パターンの形成された光ディスク基板を浸
し、図２（ｆ）に示すようにレジストのない露出した遮
光膜５の金属をエッチングして検査ディスクを構成す
る。例えばインジウム（Ｉｎ）を含む遮光膜５の場合に
は、塩化第２鉄を含む酸性エッチャントを用いてエッチ
ングできる。尚遮光膜５の金属はインジウムに限定され
るものではなく、遮光性があり、酸性エッチャントでエ
ッチングできるものが望ましい。例えばインジウム以外
に、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、クロム
（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）等を含む遮光
膜であれば、同様の効果を得ることができる。
述の擬似指紋パターンの形成された光ディスク基板を浸
し、図２（ｆ）に示すようにレジストのない露出した遮
光膜５の金属をエッチングして検査ディスクを構成す
る。例えばインジウム（Ｉｎ）を含む遮光膜５の場合に
は、塩化第２鉄を含む酸性エッチャントを用いてエッチ
ングできる。尚遮光膜５の金属はインジウムに限定され
るものではなく、遮光性があり、酸性エッチャントでエ
ッチングできるものが望ましい。例えばインジウム以外
に、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、クロム
（Ｃｒ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）等を含む遮光
膜であれば、同様の効果を得ることができる。
【００１２】図３は光記録検査ディスク３１の平面図で
あり、データ領域３２と中心のセンター穴３３を有して
いる。データ領域３２の表面の一部には擬似指紋パター
ン３４が形成される。従ってこの擬似指紋パターン３４
は遮光部分と非遮光部分面積比を異ならせた複数の領域
を設ける。例えば第１の領域３５では遮光部分の面積が
非遮光部分の面積より小さく、第２の領域３６では第１
の領域３５より遮光部分の面積を大きくなるようにパタ
ーンを形成している。このように擬似指紋パターン３４
を複数の領域に分け夫々の領域内では面積比を一定とす
ると共に、各領域毎に遮光／非遮光部の面積比を異なら
せる。こうすれば夫々の領域にレーザ光を入射したとき
に記録層２に入射するレーザ光の強度を変えることがで
き、その結果光検出器の反射光を所望の値にすることが
できる。
あり、データ領域３２と中心のセンター穴３３を有して
いる。データ領域３２の表面の一部には擬似指紋パター
ン３４が形成される。従ってこの擬似指紋パターン３４
は遮光部分と非遮光部分面積比を異ならせた複数の領域
を設ける。例えば第１の領域３５では遮光部分の面積が
非遮光部分の面積より小さく、第２の領域３６では第１
の領域３５より遮光部分の面積を大きくなるようにパタ
ーンを形成している。このように擬似指紋パターン３４
を複数の領域に分け夫々の領域内では面積比を一定とす
ると共に、各領域毎に遮光／非遮光部の面積比を異なら
せる。こうすれば夫々の領域にレーザ光を入射したとき
に記録層２に入射するレーザ光の強度を変えることがで
き、その結果光検出器の反射光を所望の値にすることが
できる。
【００１３】この擬似指紋パターン３４の大きさはディ
スク表面に入射される光ビームスポット系に基づいて決
定する。例えば記録層２に約１μｍとなるように絞られ
た光ビームスポットは光入射側の透明基板１では直径約
１ｍｍ以上となる。従って擬似指紋パターン３４の各領
域３５，３６は、光ディスク表面の光ビームの直径より
十分大きくなるように、例えば数ｃｍの大きさとする。
スク表面に入射される光ビームスポット系に基づいて決
定する。例えば記録層２に約１μｍとなるように絞られ
た光ビームスポットは光入射側の透明基板１では直径約
１ｍｍ以上となる。従って擬似指紋パターン３４の各領
域３５，３６は、光ディスク表面の光ビームの直径より
十分大きくなるように、例えば数ｃｍの大きさとする。
【００１４】図４は遮光部分と非遮光部分との面積比Ｒ
を異ならせた複数の領域の擬似指紋パターン３４での反
射率と面積比との関係を示す。図４において遮光部分の
ない本来の光ディスクでは、面積比Ｒ１＝０であり、そ
の反射率を４１ａとする。又図３の第１の領域３５の遮
光部分と非遮光部分の面積比をＲ２とし、その反射率を
４２ａとする。更に第２の領域３６では遮光部分と非遮
光部分の面積比をＲ３とし、その反射率を４３ａとす
る。このように面積比の関係Ｒ１＜Ｒ２＜Ｒ３となるよ
うに遮光部分と非遮光部分との面積比を設計すると、反
射率４１ａ＞反射率４２ａ＞反射率４３ａを実現するこ
とができる。このようにして遮光／非遮光部分の面積比
によって記録層に入射する光強度を規定することがで
き、追記型光ディスクドライブ装置の書込み再生の互換
性や光ディスクドライブ装置の光学的な動作マージンを
評価することができる。更に領域数を増加させ、各領域
において面積比を細かく変化させることにより、より精
密にこれらを評価できることはいうまでもない。
を異ならせた複数の領域の擬似指紋パターン３４での反
射率と面積比との関係を示す。図４において遮光部分の
ない本来の光ディスクでは、面積比Ｒ１＝０であり、そ
の反射率を４１ａとする。又図３の第１の領域３５の遮
光部分と非遮光部分の面積比をＲ２とし、その反射率を
４２ａとする。更に第２の領域３６では遮光部分と非遮
光部分の面積比をＲ３とし、その反射率を４３ａとす
る。このように面積比の関係Ｒ１＜Ｒ２＜Ｒ３となるよ
うに遮光部分と非遮光部分との面積比を設計すると、反
射率４１ａ＞反射率４２ａ＞反射率４３ａを実現するこ
とができる。このようにして遮光／非遮光部分の面積比
によって記録層に入射する光強度を規定することがで
き、追記型光ディスクドライブ装置の書込み再生の互換
性や光ディスクドライブ装置の光学的な動作マージンを
評価することができる。更に領域数を増加させ、各領域
において面積比を細かく変化させることにより、より精
密にこれらを評価できることはいうまでもない。
【００１５】次に本発明の第２の実施の形態について説
明する。第２の実施の形態による光記録検査ディスクは
相変化型光ディスクについて本発明を適用したものであ
る。即ち図５は透明基板２１の一方の面上にあらかじめ
溝が形成され、その溝上に第１の誘電体層２２，記録層
２３，第２の誘電体層２４及びアルミニウム等の反射層
２５が形成され、更にその上部に保護膜２６が形成され
て相変化型光ディスクが構成される。相変化型光ディス
クの場合は第１，第２の誘電体層２２，２４としてシリ
コン（Ｓｉ）を含む誘電体層や硫化アエン（ＺｎＳ）、
酸化アエン（ＺｎＯ）等、亜鉛（Ｚｎ）を含む誘電体層
又はこれらの積層膜で構成することができる。又記録層
２３はゲルマニウム（Ｇｅ）、テルル（Ｔｅ）、アンチ
モン（Ｓｂ）の合金、又はインジウム（Ｉｎ）、テルル
（Ｔｅ）、アンチモン（Ｓｂ）の合金、又はこれらを含
む合金を使用して構成される。この相変化型光ディスク
に対しても前述した第１の実施の形態と同様の過程で透
明基板２１の他方の面に遮光膜２７を形成し、その上部
にフォトレジスト層２８を積層する。そして図３と同様
に、遮光／非遮光部分の面積比の異なる複数の領域から
成る擬似指紋パターンを有するフォトマスクを介して紫
外線を照射し、ポストベーキングする。そして遮光部分
に擬似指紋パターンを形成し、遮光膜２７を酸性エッチ
ャント等を用いてエッチングすることにより、図５に示
す光記録検査ディスクを構成することができる。この場
合も第１の実施の形態と同様に、記録層２３に入射する
光強度が領域毎に異なるため、相変化型ディスクドライ
ブ装置の書込み再生の互換性や光ディスクドライブ装置
の光学的な動作マージンを評価することができる。
明する。第２の実施の形態による光記録検査ディスクは
相変化型光ディスクについて本発明を適用したものであ
る。即ち図５は透明基板２１の一方の面上にあらかじめ
溝が形成され、その溝上に第１の誘電体層２２，記録層
２３，第２の誘電体層２４及びアルミニウム等の反射層
２５が形成され、更にその上部に保護膜２６が形成され
て相変化型光ディスクが構成される。相変化型光ディス
クの場合は第１，第２の誘電体層２２，２４としてシリ
コン（Ｓｉ）を含む誘電体層や硫化アエン（ＺｎＳ）、
酸化アエン（ＺｎＯ）等、亜鉛（Ｚｎ）を含む誘電体層
又はこれらの積層膜で構成することができる。又記録層
２３はゲルマニウム（Ｇｅ）、テルル（Ｔｅ）、アンチ
モン（Ｓｂ）の合金、又はインジウム（Ｉｎ）、テルル
（Ｔｅ）、アンチモン（Ｓｂ）の合金、又はこれらを含
む合金を使用して構成される。この相変化型光ディスク
に対しても前述した第１の実施の形態と同様の過程で透
明基板２１の他方の面に遮光膜２７を形成し、その上部
にフォトレジスト層２８を積層する。そして図３と同様
に、遮光／非遮光部分の面積比の異なる複数の領域から
成る擬似指紋パターンを有するフォトマスクを介して紫
外線を照射し、ポストベーキングする。そして遮光部分
に擬似指紋パターンを形成し、遮光膜２７を酸性エッチ
ャント等を用いてエッチングすることにより、図５に示
す光記録検査ディスクを構成することができる。この場
合も第１の実施の形態と同様に、記録層２３に入射する
光強度が領域毎に異なるため、相変化型ディスクドライ
ブ装置の書込み再生の互換性や光ディスクドライブ装置
の光学的な動作マージンを評価することができる。
【００１６】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本願の請求項
１，２の発明による光記録検査ディスクを用いることに
より、記録層に入射するレーザ光を複数レベルに設定す
ることができる。従って光ディスクドライブの書込みや
再生試験においてディスクの互換性を評価したり、光ピ
ックアップの動作パワーのマージンを測定することがで
きるという効果が得られる。
１，２の発明による光記録検査ディスクを用いることに
より、記録層に入射するレーザ光を複数レベルに設定す
ることができる。従って光ディスクドライブの書込みや
再生試験においてディスクの互換性を評価したり、光ピ
ックアップの動作パワーのマージンを測定することがで
きるという効果が得られる。
【図１】本発明の第１の実施の形態による光記録検査デ
ィスクの製造工程を示す図（その１）である。
ィスクの製造工程を示す図（その１）である。
【図２】本発明の第１の実施の形態による光記録検査デ
ィスクの製造工程を示す図（その２）である。
ィスクの製造工程を示す図（その２）である。
【図３】本発明の第１の実施の形態により製造された追
記型光記録検査ディスクの正面図及び擬似指紋パターン
の拡大図である。
記型光記録検査ディスクの正面図及び擬似指紋パターン
の拡大図である。
【図４】第１の実施の形態において遮光／非遮光部の面
積比Ｒと反射率の関係を示すグラフである。
積比Ｒと反射率の関係を示すグラフである。
【図５】本発明の第２の実施の形態により製造された光
相変化型検査ディスクの断面図である。
相変化型検査ディスクの断面図である。
【図６】従来のＣＤ−ＲＯＭ光検査ディスクの擬似指紋
パターンと、その一部の断面図である。
パターンと、その一部の断面図である。
１，２１，５７ 透明基板 ２，２３ 記録層 ３，２５，５８ 反射層 ４，２６，５９ 保護膜 ５，２７ 遮光膜 ６，２８ フォトレジスト層 ７ フォトマスク ８ フォトマスクの透明部分 ９ フォトマスクの遮光部分 １１ 樹脂パターン １２ 遮光部分 ２２，２４ 誘電体層 ３１ 光ディスク ３２，５２ データ領域 ３３，５３ センター穴 ３４，５４ 擬似指紋パターン ３５ 第１の領域 ３６ 第２の領域 ５１ ＣＤ−ＲＯＭディスク ５５ 遮光部 ５６ 非遮光部 ６０ 黒色樹脂
Claims (2)
- 【請求項１】 透明基板の一方の面上に形成され光で反
応する記録層と、 前記記録層上に形成された反射層と、 前記反射層上に形成された保護膜と、 前記透明基板の他方の面上に遮光膜及び該遮光膜の上部
の光感応樹脂層により形成された所定のパターンの擬似
指紋パターンと、を有し、 前記擬似指紋パターンは遮光部と非遮光部の面積比を互
いに異ならせた複数の領域を有するものであることを特
徴とする光記録検査ディスク。 - 【請求項２】 透明基板の一方の面上に形成される第１
の誘電体層と、 前記第１の誘電体層上に形成され光で反応する記録層
と、 前記記録層上に形成された第２の誘電体層と、 前記第２の誘電体層に形成された反射層と、 前記反射層上に形成された保護膜と、 前記透明基板の他方の面上に遮光膜及び該遮光膜の上部
の光感応樹脂層により形成された所定のパターンの擬似
指紋パターンと、を有し、 前記擬似指紋パターンは遮光部と非遮光部の面積比を互
いに異ならせた複数の領域を有するものであることを特
徴とする光記録検査ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9047729A JPH10241208A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 光記録検査ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9047729A JPH10241208A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 光記録検査ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10241208A true JPH10241208A (ja) | 1998-09-11 |
Family
ID=12783439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9047729A Pending JPH10241208A (ja) | 1997-03-03 | 1997-03-03 | 光記録検査ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10241208A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008062628A1 (fr) * | 2006-11-24 | 2008-05-29 | Sony Computer Entertainment Inc. | Procédé pour générer un modèle avec une pseudo-tâche et disque de test optique |
| US7813075B2 (en) | 2007-10-22 | 2010-10-12 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | System, method and apparatus for performing metrology on patterned media disks with test pattern areas |
-
1997
- 1997-03-03 JP JP9047729A patent/JPH10241208A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008062628A1 (fr) * | 2006-11-24 | 2008-05-29 | Sony Computer Entertainment Inc. | Procédé pour générer un modèle avec une pseudo-tâche et disque de test optique |
| US7813075B2 (en) | 2007-10-22 | 2010-10-12 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | System, method and apparatus for performing metrology on patterned media disks with test pattern areas |
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