JPH0770094B2 - ディスク状光記録媒体の製造方法および製造用フォトマスク - Google Patents
ディスク状光記録媒体の製造方法および製造用フォトマスクInfo
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- JPH0770094B2 JPH0770094B2 JP62307127A JP30712787A JPH0770094B2 JP H0770094 B2 JPH0770094 B2 JP H0770094B2 JP 62307127 A JP62307127 A JP 62307127A JP 30712787 A JP30712787 A JP 30712787A JP H0770094 B2 JPH0770094 B2 JP H0770094B2
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- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、情報の記録、再生または消去のうちの少なく
とも一つを行うことのできるディスク状光記録媒体の製
造方法および製造用フォトマスクに関する。
とも一つを行うことのできるディスク状光記録媒体の製
造方法および製造用フォトマスクに関する。
近年、レーザー光を用いて情報の再生などを行う、ディ
スク状光記録媒体である、いわゆる光ディスクの開発が
盛んに行われている。光ディスクは、例えば、ポリカー
ボネートやアクリル樹脂などのプラスチック基板上に記
録媒体の薄膜が蒸着され、この上に保護材が密着形成さ
れてなるものであり、プレーヤー上で回転しながら直径
１μｍ程度に収束されたレーザー光のスポットが照射さ
れることにより、情報の記録、再生、消去が行われるよ
うになっている。
スク状光記録媒体である、いわゆる光ディスクの開発が
盛んに行われている。光ディスクは、例えば、ポリカー
ボネートやアクリル樹脂などのプラスチック基板上に記
録媒体の薄膜が蒸着され、この上に保護材が密着形成さ
れてなるものであり、プレーヤー上で回転しながら直径
１μｍ程度に収束されたレーザー光のスポットが照射さ
れることにより、情報の記録、再生、消去が行われるよ
うになっている。
ところで、光ディスクの回転時には、この光ディスクの
“反り”や、回転モーターの“芯振れ”に起因して光デ
ィスク上のトラックは回転モーターの軸方向および半径
方向に振動しがちとなり、このままでは、上記スポット
がトラックに正確に追従できなくなる。これは、光ディ
スク上のトラックピッチが1.6μｍ程度というように、
極めて狭いということにも起因している。
“反り”や、回転モーターの“芯振れ”に起因して光デ
ィスク上のトラックは回転モーターの軸方向および半径
方向に振動しがちとなり、このままでは、上記スポット
がトラックに正確に追従できなくなる。これは、光ディ
スク上のトラックピッチが1.6μｍ程度というように、
極めて狭いということにも起因している。
このため、光ディスク装置には、光ディスクの振動を検
知し、上記トラックに沿って記録された信号ピットに対
し上記レーザー光のスポットを自動的に追従させるため
のシステム、いわゆるサーボシステムを備えるのが通例
になっている。サーボシステムとしては、連続サーボ方
式やサンプルドサーボ方式が知られている。
知し、上記トラックに沿って記録された信号ピットに対
し上記レーザー光のスポットを自動的に追従させるため
のシステム、いわゆるサーボシステムを備えるのが通例
になっている。サーボシステムとしては、連続サーボ方
式やサンプルドサーボ方式が知られている。
連続サーボ方式は、光ディスク上に螺旋状または同心円
状にグルーブ（溝）を形成し、このグルーブに沿ってス
ポットを追従させる方式である。一方、サンプルドサー
ボ方式は、光ディスクの表面に不連続状にピットを設
け、このピットによってスポットを追従させる方式であ
る。
状にグルーブ（溝）を形成し、このグルーブに沿ってス
ポットを追従させる方式である。一方、サンプルドサー
ボ方式は、光ディスクの表面に不連続状にピットを設
け、このピットによってスポットを追従させる方式であ
る。
サンプルドサーボ方式にかかる光ディスク上には、第５
図に示すように、トラック中心線１に対して左右に交互
に配された千鳥状のピット（ウォブルピット）２・３
と、トラック中心線１上に配されたクロックピット４と
が設けられている。上記スポットがトラック中心線１に
沿って移動している場合には、第６図に示すように、左
側のピット２を通過した際の信号強度と、右側のピット
３を通過した際の信号強度とが一致することになる。一
方、スポットがトラック中心線１からずれて移動した場
合には、上記両信号強度に偏りが生じることになる。従
って、第７図に示すように、信号処理回路12にて両信号
の強度差を検出すれば、スポットがトラック中心線１か
らどの方向にどれだけ離れているかを示す信号（ラジア
ル誤差信号）を得ることができ、この信号によってラジ
アル方向のサーボを行うことが可能となる。なお、サン
プリングのタイミングは上記のクロックピット３により
生成されるようになっている。また、フォーカス方向の
サーボについては、第５図におけるＡ矢示部にスポット
が位置したときの信号をサンプリングすることによって
行われる。なお、この場合も、サンプリングのタイミン
グは上記のクロツクピット３により生成される。
図に示すように、トラック中心線１に対して左右に交互
に配された千鳥状のピット（ウォブルピット）２・３
と、トラック中心線１上に配されたクロックピット４と
が設けられている。上記スポットがトラック中心線１に
沿って移動している場合には、第６図に示すように、左
側のピット２を通過した際の信号強度と、右側のピット
３を通過した際の信号強度とが一致することになる。一
方、スポットがトラック中心線１からずれて移動した場
合には、上記両信号強度に偏りが生じることになる。従
って、第７図に示すように、信号処理回路12にて両信号
の強度差を検出すれば、スポットがトラック中心線１か
らどの方向にどれだけ離れているかを示す信号（ラジア
ル誤差信号）を得ることができ、この信号によってラジ
アル方向のサーボを行うことが可能となる。なお、サン
プリングのタイミングは上記のクロックピット３により
生成されるようになっている。また、フォーカス方向の
サーボについては、第５図におけるＡ矢示部にスポット
が位置したときの信号をサンプリングすることによって
行われる。なお、この場合も、サンプリングのタイミン
グは上記のクロツクピット３により生成される。
さて、このような光ディスクにおいて、その製造方法と
しては、ポリカーボネートやアクリル樹脂などのプラス
チックを射出成型によって製造する方法、若しくは、い
わゆる連続サーボ方式光ディスクの製造に用いられてい
る方法であって、ガラス基板にピットまたはグルーブを
直接加工する方法が提案されている。
しては、ポリカーボネートやアクリル樹脂などのプラス
チックを射出成型によって製造する方法、若しくは、い
わゆる連続サーボ方式光ディスクの製造に用いられてい
る方法であって、ガラス基板にピットまたはグルーブを
直接加工する方法が提案されている。
後者の方法は、例えば、第８図（ａ）（ｂ）に示すよう
に、ガラス基板５上にフォトレジスト６を塗布する。次
に、同図（ｃ）に示すように、所望のパターンを形成し
ておいたフォトマスク７をフォトレジスト６上に密着さ
せ、上記フォトマスク７上から露光を行いフォトレジス
ト６に上記パターンを焼き付けた後、同図（ｄ）に示す
ように、現像して転写し、フォトレジストパターン６′
を得る。次いで、同図（ｅ）に示すように、エッチング
を施した後、同図（ｆ）に示すように、フォトレジスト
パターン６′を除去し、所望のパターンを表面上の凹凸
として有するガラス基板５を得る。従って、例えば、こ
のようにして形成されたグルーブ11はガラス基板５の表
面上において他の部分に対し凹状に形成される。
に、ガラス基板５上にフォトレジスト６を塗布する。次
に、同図（ｃ）に示すように、所望のパターンを形成し
ておいたフォトマスク７をフォトレジスト６上に密着さ
せ、上記フォトマスク７上から露光を行いフォトレジス
ト６に上記パターンを焼き付けた後、同図（ｄ）に示す
ように、現像して転写し、フォトレジストパターン６′
を得る。次いで、同図（ｅ）に示すように、エッチング
を施した後、同図（ｆ）に示すように、フォトレジスト
パターン６′を除去し、所望のパターンを表面上の凹凸
として有するガラス基板５を得る。従って、例えば、こ
のようにして形成されたグルーブ11はガラス基板５の表
面上において他の部分に対し凹状に形成される。
このような方法において、上記のフォトマスク７には高
光透過率部と低光透過率部とが形成されているが、この
うち高光透過率部はピットやグルーブの形成箇所に対応
し、低光透過率部はピットやグルーブの非形成箇所に対
応している。これは、光ディスクに要求される高解像度
（およそサブミクロン単位）を保有するレジストが、ポ
ジタイプに限定されるからである。すなわち、ピットを
形成する部分には現像後にレジストが残存してはならな
いからであり、かかるポジタイプのレジスタでピット形
成を行おうとすると、この形成箇所に対応する部位は、
フォトマスク７においては高光透過率部としなくてはな
らないからである。もう一つの理由は、上記フォトマス
ク７の製造方法に関連している。フォトマスク７を製造
するには、第９図（ａ）に示すように、透明基板８上に
金属膜９を形成した後、同図（ｂ）に示すように、この
金属膜９上にフォトレジスト10を塗布する。次に、同図
（ｃ）に示すように、レーザー光を照射して所望のパタ
ーンを記録する。その後、同図（ｄ）に示すように、現
像を行ってフォトレジストパターン10′を形成したうえ
で上記金属膜９のエッチングを施し、同図（ｅ）に示す
ように、所望の金属膜パターン９′を得る。そして、同
図（ｆ）に示すように、フォトレジストパターン10′を
除去して前記のフォトマスク７を得る。かかるフォトマ
スク７の製造工程においては、上記フォトレジスト10も
当然に高解像度のものでなくてはならず、従って、ポジ
タイプのものが適用される。このため、ピットやグルー
ブ11の形成箇所に対応する部位は、フォトマスク７にお
いては、必然的に高光透過率部となっている。
光透過率部と低光透過率部とが形成されているが、この
うち高光透過率部はピットやグルーブの形成箇所に対応
し、低光透過率部はピットやグルーブの非形成箇所に対
応している。これは、光ディスクに要求される高解像度
（およそサブミクロン単位）を保有するレジストが、ポ
ジタイプに限定されるからである。すなわち、ピットを
形成する部分には現像後にレジストが残存してはならな
いからであり、かかるポジタイプのレジスタでピット形
成を行おうとすると、この形成箇所に対応する部位は、
フォトマスク７においては高光透過率部としなくてはな
らないからである。もう一つの理由は、上記フォトマス
ク７の製造方法に関連している。フォトマスク７を製造
するには、第９図（ａ）に示すように、透明基板８上に
金属膜９を形成した後、同図（ｂ）に示すように、この
金属膜９上にフォトレジスト10を塗布する。次に、同図
（ｃ）に示すように、レーザー光を照射して所望のパタ
ーンを記録する。その後、同図（ｄ）に示すように、現
像を行ってフォトレジストパターン10′を形成したうえ
で上記金属膜９のエッチングを施し、同図（ｅ）に示す
ように、所望の金属膜パターン９′を得る。そして、同
図（ｆ）に示すように、フォトレジストパターン10′を
除去して前記のフォトマスク７を得る。かかるフォトマ
スク７の製造工程においては、上記フォトレジスト10も
当然に高解像度のものでなくてはならず、従って、ポジ
タイプのものが適用される。このため、ピットやグルー
ブ11の形成箇所に対応する部位は、フォトマスク７にお
いては、必然的に高光透過率部となっている。
なお、以上のようにして得られた前記ガラス基板５上
に、情報の記録、再生、および消去などを行うことので
きる記録媒体、例えば、結晶とアモルファスの相転移を
利用した材料や、垂直磁化を利用した光磁気材料からな
る光メモリ素子を形成することによってディスク状光記
録媒体が得られる。また、この光記録媒体において、上
記ガラス基板５が用いられると、ガラス自体が吸湿性や
気体の透過率が低いことに起因して、上記光メモリ素子
に生じる経時的劣化が抑制され、信頼性の高いディスク
状光記録媒体を得ることができる。
に、情報の記録、再生、および消去などを行うことので
きる記録媒体、例えば、結晶とアモルファスの相転移を
利用した材料や、垂直磁化を利用した光磁気材料からな
る光メモリ素子を形成することによってディスク状光記
録媒体が得られる。また、この光記録媒体において、上
記ガラス基板５が用いられると、ガラス自体が吸湿性や
気体の透過率が低いことに起因して、上記光メモリ素子
に生じる経時的劣化が抑制され、信頼性の高いディスク
状光記録媒体を得ることができる。
ところで、上記のフォトマスク７を、前記ガラス基板５
上に塗布されたフォトレジスト６に密着させる際には、
かかる密着が適正に行われているか否かをフォトマスク
７の上から肉眼で見て判断する必要がある。もし、塵や
埃がフォトマスク７とフォトレジスト６との間に挟まっ
ていると、密着させたときに、光の干渉によってフリン
ジが生じるのが観察できる。フリンジが生じた基板をそ
のまま露光すると、上記フリンジが生じている部分のピ
ットやグルーブの形成に不具合を生じ、光ディスクの各
種サーボや再生信号に悪影響を与えることになる。
上に塗布されたフォトレジスト６に密着させる際には、
かかる密着が適正に行われているか否かをフォトマスク
７の上から肉眼で見て判断する必要がある。もし、塵や
埃がフォトマスク７とフォトレジスト６との間に挟まっ
ていると、密着させたときに、光の干渉によってフリン
ジが生じるのが観察できる。フリンジが生じた基板をそ
のまま露光すると、上記フリンジが生じている部分のピ
ットやグルーブの形成に不具合を生じ、光ディスクの各
種サーボや再生信号に悪影響を与えることになる。
すなわち、上記密着適正検査が確実に行えるか否かが、
光ディスク製造の重要ポイントになっているのである
が、連続サーボ方式の光ディスクの製造においては、フ
ォトマスク７における高光透過率部が比較的多いことに
より上記の検査が比較的容易であるのに対し、サンプル
ドサーボ方式の光ディスクでは、フォトマスク７におけ
る高光透過率部が前記千鳥状のピット２・３…やクロツ
クピット４…に対応する箇所のみであるからフォトマス
ク全体としての光透過度合が低く、上記検査が困難であ
る。このため、塵などがあってもこれを発見できず、ま
た、密着が完全に行われているか否かの確認が不十分と
なり、不良の光ディスクを製造しがちになるという問題
を招来していた。
光ディスク製造の重要ポイントになっているのである
が、連続サーボ方式の光ディスクの製造においては、フ
ォトマスク７における高光透過率部が比較的多いことに
より上記の検査が比較的容易であるのに対し、サンプル
ドサーボ方式の光ディスクでは、フォトマスク７におけ
る高光透過率部が前記千鳥状のピット２・３…やクロツ
クピット４…に対応する箇所のみであるからフォトマス
ク全体としての光透過度合が低く、上記検査が困難であ
る。このため、塵などがあってもこれを発見できず、ま
た、密着が完全に行われているか否かの確認が不十分と
なり、不良の光ディスクを製造しがちになるという問題
を招来していた。
請求項１の発明に係るディスク状光記録媒体の製造方法
は、ディスク状のガラス基板に、ピットが周方向に不連
続に形成され、そのピットからの反射光を検出してサー
ボが行われ、前記ガラス基板上に形成された光メモリ素
子に情報の記録、再生または消去の少なくともいずれか
一つが行われるようしたディスク状光記録媒体の製造方
法において、前記ピットの形成を、前記ガラス基板上に
ポジタイプのフォトレジストを塗布し、ピットに対応し
た部分が低光透過率部であり、残余の部分が高光透過率
部であるフォトマスクを密着して露光し、前記フォトレ
ジストを現像し、エッチング処理を施すことによって行
うことを特徴とする。
は、ディスク状のガラス基板に、ピットが周方向に不連
続に形成され、そのピットからの反射光を検出してサー
ボが行われ、前記ガラス基板上に形成された光メモリ素
子に情報の記録、再生または消去の少なくともいずれか
一つが行われるようしたディスク状光記録媒体の製造方
法において、前記ピットの形成を、前記ガラス基板上に
ポジタイプのフォトレジストを塗布し、ピットに対応し
た部分が低光透過率部であり、残余の部分が高光透過率
部であるフォトマスクを密着して露光し、前記フォトレ
ジストを現像し、エッチング処理を施すことによって行
うことを特徴とする。
請求項２の発明に係る発明に係るディスク状光記録媒体
の製造用フォトマスクは、ディスク状のガラス基板に、
ピットが周方向に不連続に形成され、そのピットからの
反射光を検出してサーボが行われ、前記ガラス基板上に
形成された光メモリ素子に情報の記録、再生または消去
の少なくともいずれか一つが行われるようしたディスク
状光記録媒体における前記ピットの製造用フォトマスク
において、ピットに対応した部分が低光透過率部に形成
され、残余の部分が高光透過率部に形成され、前記高光
透過率部は透明基板から成り、前記低光透過率部は前記
透明基板に少なくとも一部分が埋め込まれた金属膜から
成ることを特徴とする。
の製造用フォトマスクは、ディスク状のガラス基板に、
ピットが周方向に不連続に形成され、そのピットからの
反射光を検出してサーボが行われ、前記ガラス基板上に
形成された光メモリ素子に情報の記録、再生または消去
の少なくともいずれか一つが行われるようしたディスク
状光記録媒体における前記ピットの製造用フォトマスク
において、ピットに対応した部分が低光透過率部に形成
され、残余の部分が高光透過率部に形成され、前記高光
透過率部は透明基板から成り、前記低光透過率部は前記
透明基板に少なくとも一部分が埋め込まれた金属膜から
成ることを特徴とする。
請求項１の発明に従えば、ディスク状のガラス基板上に
形成された光メモリ素子に情報の記録、再生または消去
の少なくともいずれか一つを行うために、前記ガラス基
板には、トラッキングおよびフォーカシングのサーボに
用いられるピットが周方向に不連続に形成され、そのピ
ットからの反射光を検出することによって前記サーボを
行う、いわゆるサンプルドサーボを行うようにしたディ
スク状光記録媒体の製造方法において、前記ピットを形
成するにあたって、解像度の高いポジタイプのフォトレ
ジストを使用可能とするために、ピットに対応した部分
が低光透過率部、たとえば金属薄膜から形成され、残余
の部分が高光透過率部、たとえば透明基板から成るフォ
トマスクを使用する。すなわち、前記ガラス基板上に前
記フォトレジストを塗布した後、前記フォトマスクを密
着して露光する。これによって、現像を行うとピット部
分のフォトレジストは残存し、残余の部分のフォトレジ
ストは除去される。その後、エッチング処理を施した
後、フォトレジストを除去すると、前記ピット部分が基
板から凸に形成されて前記ガラス基板が完成する。
形成された光メモリ素子に情報の記録、再生または消去
の少なくともいずれか一つを行うために、前記ガラス基
板には、トラッキングおよびフォーカシングのサーボに
用いられるピットが周方向に不連続に形成され、そのピ
ットからの反射光を検出することによって前記サーボを
行う、いわゆるサンプルドサーボを行うようにしたディ
スク状光記録媒体の製造方法において、前記ピットを形
成するにあたって、解像度の高いポジタイプのフォトレ
ジストを使用可能とするために、ピットに対応した部分
が低光透過率部、たとえば金属薄膜から形成され、残余
の部分が高光透過率部、たとえば透明基板から成るフォ
トマスクを使用する。すなわち、前記ガラス基板上に前
記フォトレジストを塗布した後、前記フォトマスクを密
着して露光する。これによって、現像を行うとピット部
分のフォトレジストは残存し、残余の部分のフォトレジ
ストは除去される。その後、エッチング処理を施した
後、フォトレジストを除去すると、前記ピット部分が基
板から凸に形成されて前記ガラス基板が完成する。
したがって、ピットに対応した部分が低光透過率部であ
り、残余の大部分が高光透過率部であるフォトマスクを
使用することによって、このフォトマスクをフォトレジ
ストに密着させたときの密着適性検査を確実に行うこと
ができ、高品質なディスク状光記録媒体を作成すること
ができる。また、ピット部分が凸状に形成されるので、
前記トラッキングおよびフォーカシングのサーボを確実
に行うことができる。
り、残余の大部分が高光透過率部であるフォトマスクを
使用することによって、このフォトマスクをフォトレジ
ストに密着させたときの密着適性検査を確実に行うこと
ができ、高品質なディスク状光記録媒体を作成すること
ができる。また、ピット部分が凸状に形成されるので、
前記トラッキングおよびフォーカシングのサーボを確実
に行うことができる。
また、請求項２の発明に従えば、ディスク状のガラス基
板上に形成された光メモリ素子に情報の記録、再生また
は消去の少なくともいずれか一つを行うために、前記ガ
ラス基板には、トラッキングおよびフォーカシングのサ
ーボに用いられるピットが周方向に不連続に形成され、
そのピットからの反射光を検出することによって前記サ
ーボを行う、いわゆるサンプルドサーボを行うようにし
たディスク状光記録媒体における前記ピットの製造用フ
ォトマスクにおいて、前記ピットに対応した部分が金属
膜から成る低光透過率部に形成され、残余の大部分が透
明基板から成る高光透過率部に形成される。
板上に形成された光メモリ素子に情報の記録、再生また
は消去の少なくともいずれか一つを行うために、前記ガ
ラス基板には、トラッキングおよびフォーカシングのサ
ーボに用いられるピットが周方向に不連続に形成され、
そのピットからの反射光を検出することによって前記サ
ーボを行う、いわゆるサンプルドサーボを行うようにし
たディスク状光記録媒体における前記ピットの製造用フ
ォトマスクにおいて、前記ピットに対応した部分が金属
膜から成る低光透過率部に形成され、残余の大部分が透
明基板から成る高光透過率部に形成される。
したがって、フォトマスク全体としての光透過度は、従
来に比べて格段に向上する。このため、かかるフォトマ
スクをガラス基板上のフォトレジストに密着させたとき
に、これらの間に挟まった塵等によるフリジンを明瞭に
観察することができ、不良品の発生を未然に防止するこ
とが可能となる。さらにまた、低光透過率部が透明基板
内にその少なくとも一部分が埋め込まれているので、該
低光透過率部が透明基板の表面上に形成されたものに比
べると、この低光透過率部への疵付きや破損が低減さ
れ、取扱が容易になるとともに、信頼性を格段に向上す
ることができる。
来に比べて格段に向上する。このため、かかるフォトマ
スクをガラス基板上のフォトレジストに密着させたとき
に、これらの間に挟まった塵等によるフリジンを明瞭に
観察することができ、不良品の発生を未然に防止するこ
とが可能となる。さらにまた、低光透過率部が透明基板
内にその少なくとも一部分が埋め込まれているので、該
低光透過率部が透明基板の表面上に形成されたものに比
べると、この低光透過率部への疵付きや破損が低減さ
れ、取扱が容易になるとともに、信頼性を格段に向上す
ることができる。
本発明の一実施例を第１図ないし第４図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
すれば、以下の通りである。
ディスク状光記録媒体製造用フォトマスク15は、第１図
に示すように、露光用の光に対して光透過率の高い高光
透過率部としての透明基板16と、露光用の光に対して光
透過率の低い低光透過率部としての金属膜パターン17′
とで構成されいる。金属膜パターン17′は、ピットを形
成するための部分、すなわち、後述のガラス基板19上に
形成されるピット21…のパターンに対応した部分であ
り、上記の透明基板16内に全てが埋め込まれた状態で設
けられている。勿論、この金属膜パターン17′は、透明
基板１内に一部が埋め込まれた状態で設けられたもので
あってもよい。
に示すように、露光用の光に対して光透過率の高い高光
透過率部としての透明基板16と、露光用の光に対して光
透過率の低い低光透過率部としての金属膜パターン17′
とで構成されいる。金属膜パターン17′は、ピットを形
成するための部分、すなわち、後述のガラス基板19上に
形成されるピット21…のパターンに対応した部分であ
り、上記の透明基板16内に全てが埋め込まれた状態で設
けられている。勿論、この金属膜パターン17′は、透明
基板１内に一部が埋め込まれた状態で設けられたもので
あってもよい。
このような構成をなすフォトマスク15においては、光透
過率の低い部分は、上記ピット21…を形成するための部
分だけであり、その他の部分は光透過率の高い部分であ
る。従って、フォトマスク15全体としての光透過度合は
格段に増大されることになる。さらに、かかるフォトマ
スク15は、低光透過率部である金属膜パターン17′が透
明基板16内に一部、若しくは全てが埋め込まれた状態で
設けられているから、金属膜パターン17′が透明基板16
の表面上から単に突出して形成されたものに比べると、
この金属膜パターン17′の疵付きや破損が低減されるか
ら取り扱いが容易になるとともに、信頼性が格段に向上
されることになる。
過率の低い部分は、上記ピット21…を形成するための部
分だけであり、その他の部分は光透過率の高い部分であ
る。従って、フォトマスク15全体としての光透過度合は
格段に増大されることになる。さらに、かかるフォトマ
スク15は、低光透過率部である金属膜パターン17′が透
明基板16内に一部、若しくは全てが埋め込まれた状態で
設けられているから、金属膜パターン17′が透明基板16
の表面上から単に突出して形成されたものに比べると、
この金属膜パターン17′の疵付きや破損が低減されるか
ら取り扱いが容易になるとともに、信頼性が格段に向上
されることになる。
上記のディスク状光記録媒体製造用フォトマスク15を製
造するには、第２図（ａ）に示すように、ガラスや石英
などの上記透明基板16上にポジタイプのフォトレジスト
18を塗布した後、同図（ｂ）に示すように、このフォト
レジスト18にレーザー光を照射して所望のパターン、例
えば、サンプルドフォーマットのパターンにカッティン
グする。次いで、同図（ｃ）に示すように、これを現像
してフォトレジストパターン18′を形成した後、同図
（ｄ）に示すように、エッチングを施して透明基板16上
に凹凸を形成する。かかるエッチングは、フッ酸溶液や
その緩衝溶液などを用いた、いわゆるウエットエッチン
グによってもよく、また、CF4やCHF3などのガスを放電
によってプラズマ化し、このプラズマによってエッチン
グを行う、いわゆるドライエッチングによってもよく、
何れによるかは問わないものである。次に、同図（ｅ）
に示すように、適当な金属膜（例えば、Ta,Ti,Crなど）
17…を蒸着またはスパッタリングによって形成する。金
属膜17…は、上記フォトレジストパターン18′上におい
てはこのフォトレジストパターン18′を覆うように形成
される一方、上記エッチングによって形成された凹部に
おいては、この凹部中に埋め込まれるようにして形成さ
れる。次に、同図（ｆ）に示すように、適当な溶剤、若
しくは剥離剤にて上記フォトレジストパターン18′を除
去してフォトマスク15を得る。なお、上記のフォトレジ
ストパターン18′を除去した際には、このフォトレジス
トパターン18′上の金属膜17…も同時に除去されるか
ら、この除去された部分が高光透過率部となり、一方、
上記凹部に埋設された金属膜17…はそのまま残るので、
この金属膜17…で金属膜パターン17′が形成され、これ
により低光透過率部が形成される。
造するには、第２図（ａ）に示すように、ガラスや石英
などの上記透明基板16上にポジタイプのフォトレジスト
18を塗布した後、同図（ｂ）に示すように、このフォト
レジスト18にレーザー光を照射して所望のパターン、例
えば、サンプルドフォーマットのパターンにカッティン
グする。次いで、同図（ｃ）に示すように、これを現像
してフォトレジストパターン18′を形成した後、同図
（ｄ）に示すように、エッチングを施して透明基板16上
に凹凸を形成する。かかるエッチングは、フッ酸溶液や
その緩衝溶液などを用いた、いわゆるウエットエッチン
グによってもよく、また、CF4やCHF3などのガスを放電
によってプラズマ化し、このプラズマによってエッチン
グを行う、いわゆるドライエッチングによってもよく、
何れによるかは問わないものである。次に、同図（ｅ）
に示すように、適当な金属膜（例えば、Ta,Ti,Crなど）
17…を蒸着またはスパッタリングによって形成する。金
属膜17…は、上記フォトレジストパターン18′上におい
てはこのフォトレジストパターン18′を覆うように形成
される一方、上記エッチングによって形成された凹部に
おいては、この凹部中に埋め込まれるようにして形成さ
れる。次に、同図（ｆ）に示すように、適当な溶剤、若
しくは剥離剤にて上記フォトレジストパターン18′を除
去してフォトマスク15を得る。なお、上記のフォトレジ
ストパターン18′を除去した際には、このフォトレジス
トパターン18′上の金属膜17…も同時に除去されるか
ら、この除去された部分が高光透過率部となり、一方、
上記凹部に埋設された金属膜17…はそのまま残るので、
この金属膜17…で金属膜パターン17′が形成され、これ
により低光透過率部が形成される。
このようなフォトマスク15を用いてディスク状光記録媒
体を製造するには、第３図（ａ）に示すように、ガラス
基板19上にフォトレジスト20を塗布した後、同図（ｂ）
に示すように、このフォトレジスト20に前記のフォトマ
スク15を密着させ、このフォトマスク15の上から光を照
射して露光する。従って、ピット21…形成部分を除く部
分にのみ光が照射され、この部分のフォトレジスト20が
現像液に対して可溶化する。また、フォトマスク15は、
前述のように、全体としての光透過度合は格段に増加さ
れているから、このフォトマスク15をガラス基板19上の
フォトレジスト20に密着させたとき、こりらの間に狭ま
った塵などによるフリジンが明瞭に観察され、不良品と
良品との区別を容易に行うことが可能となる。次に、同
図（ｃ）に示すように、現像を行って上記可溶化したフ
ォトレジストを除去してフォトレジストパターン20′を
得る。その後、同図（ｄ）に示すように、エッチングを
施して上記ガラス基板19の表面にガラスの凹凸として直
接にピット21…を形成する。なお、上記のエッチングと
しては、前述のフォトマスク15の製造におけるエッチン
グと同様、ウエットエッチング、若しくはドライエッチ
ングなどが適用される。次に、同図（ｅ）に示すよう
に、例えば、酸素プラズマを用いたアッシングや剥離剤
などによってフォトレジストパターン20′を除去する。
これにより、上記ガラス基板の表面上には、第４図に示
すように、ピット21…が非ピット部に対し凸状に形成さ
れることになる。この後、ガラス基板19の表面上に記録
媒体膜、例えば、GdTbFe系アモルファスを用いた光磁気
媒体膜などを形成することにより、情報の記録、再生、
および消去などが可能な光メモリ素子が形成され、こう
して上記凸状のピット21…にてトラックサーボやフォー
カスサーボが確実に行えるディスク状光記録媒体を得る
ことができる。
体を製造するには、第３図（ａ）に示すように、ガラス
基板19上にフォトレジスト20を塗布した後、同図（ｂ）
に示すように、このフォトレジスト20に前記のフォトマ
スク15を密着させ、このフォトマスク15の上から光を照
射して露光する。従って、ピット21…形成部分を除く部
分にのみ光が照射され、この部分のフォトレジスト20が
現像液に対して可溶化する。また、フォトマスク15は、
前述のように、全体としての光透過度合は格段に増加さ
れているから、このフォトマスク15をガラス基板19上の
フォトレジスト20に密着させたとき、こりらの間に狭ま
った塵などによるフリジンが明瞭に観察され、不良品と
良品との区別を容易に行うことが可能となる。次に、同
図（ｃ）に示すように、現像を行って上記可溶化したフ
ォトレジストを除去してフォトレジストパターン20′を
得る。その後、同図（ｄ）に示すように、エッチングを
施して上記ガラス基板19の表面にガラスの凹凸として直
接にピット21…を形成する。なお、上記のエッチングと
しては、前述のフォトマスク15の製造におけるエッチン
グと同様、ウエットエッチング、若しくはドライエッチ
ングなどが適用される。次に、同図（ｅ）に示すよう
に、例えば、酸素プラズマを用いたアッシングや剥離剤
などによってフォトレジストパターン20′を除去する。
これにより、上記ガラス基板の表面上には、第４図に示
すように、ピット21…が非ピット部に対し凸状に形成さ
れることになる。この後、ガラス基板19の表面上に記録
媒体膜、例えば、GdTbFe系アモルファスを用いた光磁気
媒体膜などを形成することにより、情報の記録、再生、
および消去などが可能な光メモリ素子が形成され、こう
して上記凸状のピット21…にてトラックサーボやフォー
カスサーボが確実に行えるディスク状光記録媒体を得る
ことができる。
請求項１の発明に係るディスク状光記録媒体の製造方法
は、以上のように、サンプルドサーボのためのピットを
形成するにあたって、解像度の高いポジタイプのフォト
レジストを使用するとともに、ピットに対応した部分が
低光透過率部であり、残余の部分が高光透過率部である
フォトマスクを使用する。
は、以上のように、サンプルドサーボのためのピットを
形成するにあたって、解像度の高いポジタイプのフォト
レジストを使用するとともに、ピットに対応した部分が
低光透過率部であり、残余の部分が高光透過率部である
フォトマスクを使用する。
それゆえ、フォトマスクは大部分が光透過率部であり、
該フォトマスクをフォトレジストに密着させたときの密
着検査を容易に行うことができ、高品質なディスク状光
記録媒体を作成することができる。また、前記ピットは
凸状に形成されることになり、トラックサーボやフォー
カスサーボを確実に行うことができる。
該フォトマスクをフォトレジストに密着させたときの密
着検査を容易に行うことができ、高品質なディスク状光
記録媒体を作成することができる。また、前記ピットは
凸状に形成されることになり、トラックサーボやフォー
カスサーボを確実に行うことができる。
また、請求項２の発明に係るディスク状光記録媒体の製
造用フォトマスクは、以上のように、ピットに対応した
部分が低光透過率部に形成され、残余の部分が高光透過
率部に形成される。
造用フォトマスクは、以上のように、ピットに対応した
部分が低光透過率部に形成され、残余の部分が高光透過
率部に形成される。
それゆえ、フォトマスク全体としての光透過度合いは従
来技術に比べて格段に増大されることになり、係るフォ
トマスクをガラス基板上のフォトレジストに密着させた
ときには、これらの間に狭まった塵等によるフリジンを
明瞭に観察することができ、不良品の発生を未然に防止
することができる。さらに低光透過率部を形成する金属
膜は、高光透過率部を形成する透明基板に少なくとも一
部分が埋め込まれるので、平板状の透明基板に前記金属
膜が形成された構成に比べると、低光透過率部の疵付き
や破損を低減することができ、取扱いが容易になるとと
もに、信頼性を格段に向上することができる。
来技術に比べて格段に増大されることになり、係るフォ
トマスクをガラス基板上のフォトレジストに密着させた
ときには、これらの間に狭まった塵等によるフリジンを
明瞭に観察することができ、不良品の発生を未然に防止
することができる。さらに低光透過率部を形成する金属
膜は、高光透過率部を形成する透明基板に少なくとも一
部分が埋め込まれるので、平板状の透明基板に前記金属
膜が形成された構成に比べると、低光透過率部の疵付き
や破損を低減することができ、取扱いが容易になるとと
もに、信頼性を格段に向上することができる。
第１図ないし第４図は本発明の一実施例を示すものであ
って、第１図はディスク状光記録媒体製造用フォトマス
クの断面図、第２図（ａ）ないし（ｆ）はフォトマスク
の製造工程を示す断面図、第３図（ａ）ないし（ｅ）は
ディスク状光記録媒体の製造工程においてガラス基板上
にピットを形成する工程を示す断面図、第４図はガラス
基板上に形成されたピットの斜視図、第５図はサンプル
ドサーボ型ディスク状光記録媒体のピット配列を示す説
明図、第６図はサンプルドサーボ型ディスク状光記録媒
体のピットから得られる光信号強度を示す説明図、第７
図はサンプルドサーボの信号処理回路を示す回路図、第
８図および第９図は従来例を示すものであって、第８図
（ａ）ないし（ｆ）はディスク状光記録媒体の製造工程
においてガラス基板上にピットを形成する工程を示す断
面図、第９図（ａ）ないし（ｆ）はフォトマスクの製造
工程を示す断面図である。 15はフォトマスク、16は透明基板（高光透過率部）、1
7′は金属膜パターン（低光透過率部）、18・20はフォ
トレジスト、19はガラス基板、21はピットである。
って、第１図はディスク状光記録媒体製造用フォトマス
クの断面図、第２図（ａ）ないし（ｆ）はフォトマスク
の製造工程を示す断面図、第３図（ａ）ないし（ｅ）は
ディスク状光記録媒体の製造工程においてガラス基板上
にピットを形成する工程を示す断面図、第４図はガラス
基板上に形成されたピットの斜視図、第５図はサンプル
ドサーボ型ディスク状光記録媒体のピット配列を示す説
明図、第６図はサンプルドサーボ型ディスク状光記録媒
体のピットから得られる光信号強度を示す説明図、第７
図はサンプルドサーボの信号処理回路を示す回路図、第
８図および第９図は従来例を示すものであって、第８図
（ａ）ないし（ｆ）はディスク状光記録媒体の製造工程
においてガラス基板上にピットを形成する工程を示す断
面図、第９図（ａ）ないし（ｆ）はフォトマスクの製造
工程を示す断面図である。 15はフォトマスク、16は透明基板（高光透過率部）、1
7′は金属膜パターン（低光透過率部）、18・20はフォ
トレジスト、19はガラス基板、21はピットである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 永原 美行 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 太田 賢司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−271637（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−78726（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−123464（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】ディスク状のガラス基板に、ピットが周方
向に不連続に形成され、そのピットからの反射光を検出
してサーボが行われ、前記ガラス基板上に形成された光
メモリ素子に情報の記録、再生または消去の少なくとも
いずれか一つが行われるようしたディスク状光記録媒体
の製造方法において、 前記ピットの形成を、 前記ガラス基板上にポジタイプのフォトレジストを塗布
し、 ピットに対応した部分が低光透過率部であり、残余の部
分が高光透過率部であるフォトマスクを密着して露光
し、 前記フォトレジストを現像し、 エッチング処理を施すことによって行うことを特徴とす
るディスク状光記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】ディスク状のガラス基板に、ピットが周方
向に不連続に形成され、そのピットからの反射光を検出
してサーボが行われ、前記ガラス基板上に形成された光
メモリ素子に情報の記録、再生または消去の少なくとも
いずれか一つが行われるようにしたディスク状光記録媒
体における前記ピットの製造用フォトマスクにおいて、 ピットに対応した部分が低光透過率部に形成され、残余
の部分が高光透過率部に形成され、前記高光透過率部は
透明基板から成り、前記低光透過率部は前記透明基板に
少なくとも一部分が埋め込まれた金属膜から成ることを
特徴とするディスク状光記録媒体の製造用フォトマス
ク。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62307127A JPH0770094B2 (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | ディスク状光記録媒体の製造方法および製造用フォトマスク |
| US07/278,378 US4946730A (en) | 1987-12-04 | 1988-12-01 | Method of and photomask for manufacturing optical memory element |
| CA000584885A CA1334138C (en) | 1987-12-04 | 1988-12-02 | Method of and photomask for manufacturing optical memory element |
| EP88311517A EP0319350B1 (en) | 1987-12-04 | 1988-12-05 | Method of and photomask for manufacturing optical memory element |
| DE88311517T DE3882345T2 (de) | 1987-12-04 | 1988-12-05 | Verfahren und Photomaske zur Herstellung eines optischen Speicherelementes. |
| US07/527,265 US5112727A (en) | 1987-12-04 | 1990-05-23 | Method of and photomask for manufacturing optical memory element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62307127A JPH0770094B2 (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | ディスク状光記録媒体の製造方法および製造用フォトマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01149243A JPH01149243A (ja) | 1989-06-12 |
| JPH0770094B2 true JPH0770094B2 (ja) | 1995-07-31 |
Family
ID=17965355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62307127A Expired - Fee Related JPH0770094B2 (ja) | 1987-12-04 | 1987-12-04 | ディスク状光記録媒体の製造方法および製造用フォトマスク |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4946730A (ja) |
| EP (1) | EP0319350B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0770094B2 (ja) |
| CA (1) | CA1334138C (ja) |
| DE (1) | DE3882345T2 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0770094B2 (ja) * | 1987-12-04 | 1995-07-31 | シャープ株式会社 | ディスク状光記録媒体の製造方法および製造用フォトマスク |
| JP2693289B2 (ja) * | 1991-08-09 | 1997-12-24 | シャープ株式会社 | 光メモリ |
| JP3006199B2 (ja) * | 1991-09-03 | 2000-02-07 | 株式会社日立製作所 | 光ディスクの製造方法 |
| WO1993021629A1 (en) * | 1992-04-15 | 1993-10-28 | Tulip Memory Systems, Inc. | Precision-etched textured stop/start zone for magnetic-recording disks |
| EP0579399A2 (en) * | 1992-07-09 | 1994-01-19 | Pilkington Plc | Glass substrate for a magnetic disc and manufacture thereof |
| GB9400259D0 (en) * | 1994-01-07 | 1994-03-02 | Pilkington Plc | Substrate for a magnetic disc and manufacture thereof |
| DE69500268T2 (de) * | 1994-02-14 | 1997-10-30 | Ibm | Dämpfende Phasenverschiebungsmaske und Herstellungsverfahren |
| US5503963A (en) * | 1994-07-29 | 1996-04-02 | The Trustees Of Boston University | Process for manufacturing optical data storage disk stamper |
| US5783371A (en) * | 1994-07-29 | 1998-07-21 | Trustees Of Boston University | Process for manufacturing optical data storage disk stamper |
| JP3424077B2 (ja) * | 2000-10-25 | 2003-07-07 | 松下電器産業株式会社 | マスター情報担体およびマスター情報担体を用いた情報記録媒体の製造方法 |
| ATE528117T1 (de) | 2001-08-30 | 2011-10-15 | Bayer Technology Services Gmbh | Verfahren zur herstellung von abformkörpern, insbesondere optischen strukturen, und deren verwendung |
| JP2004145996A (ja) * | 2002-10-25 | 2004-05-20 | Tdk Corp | フォトレジスト原盤のカッティング方法、カッティングマシン及び光記録媒体の製造方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7314267A (nl) * | 1973-10-17 | 1975-04-21 | Philips Nv | Registratiedrager waarop informatie is aangebracht in een optisch uitleesbare struktuur. |
| DE3583754D1 (de) * | 1984-03-16 | 1991-09-19 | Sharp Kk | Verfahren zur herstellung eines optischen speicherelements. |
| JPH0770091B2 (ja) * | 1984-09-28 | 1995-07-31 | 共同印刷株式会社 | 光読み取りカ−ド及びその製造法 |
| US4619804A (en) * | 1985-04-15 | 1986-10-28 | Eastman Kodak Company | Fabricating optical record media |
| JPS61271637A (ja) * | 1985-05-25 | 1986-12-01 | Fujitsu Ltd | パタ−ン形成方法 |
| US4959823A (en) * | 1985-07-30 | 1990-09-25 | Laser Magnetic Storage International Company | Tracking and seeking system for use with an optical record carrier having a wobbled track format |
| JP2888484B2 (ja) * | 1985-07-30 | 1999-05-10 | オプテイカル ストレツジ インターナシヨナル−ユーエス | 記録キャリア及び光データ読み書き装置 |
| DE3689593T2 (de) * | 1985-08-30 | 1994-06-16 | Sharp Kk | Element für optische Speicherung und Verfahren zu dessen Herstellung. |
| JPS6278726A (ja) * | 1985-10-02 | 1987-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 平板状情報記録担体の記録・再生方法および平板状情報記録担体 |
| JPS62123464A (ja) * | 1985-11-22 | 1987-06-04 | Sharp Corp | 光メモリ素子基板製造用フオトマスク |
| JPS62241149A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-21 | Sharp Corp | 光メモリ素子用フォトマスク及びその製造方法 |
| LU86722A1 (fr) * | 1986-12-23 | 1988-07-14 | Glaverbel | Feuille en matiere vitreuse portant un dessin grave et procede pour graver un dessin sur un substrat en matiere vitreuse |
| CA1315023C (en) * | 1987-09-30 | 1993-03-23 | Kenji Ohta | Photo-mask |
| JPH0770094B2 (ja) * | 1987-12-04 | 1995-07-31 | シャープ株式会社 | ディスク状光記録媒体の製造方法および製造用フォトマスク |
-
1987
- 1987-12-04 JP JP62307127A patent/JPH0770094B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-12-01 US US07/278,378 patent/US4946730A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-02 CA CA000584885A patent/CA1334138C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-05 DE DE88311517T patent/DE3882345T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-05 EP EP88311517A patent/EP0319350B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-05-23 US US07/527,265 patent/US5112727A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3882345D1 (de) | 1993-08-19 |
| US4946730A (en) | 1990-08-07 |
| EP0319350A2 (en) | 1989-06-07 |
| US5112727A (en) | 1992-05-12 |
| CA1334138C (en) | 1995-01-31 |
| EP0319350A3 (en) | 1990-08-16 |
| EP0319350B1 (en) | 1993-07-14 |
| JPH01149243A (ja) | 1989-06-12 |
| DE3882345T2 (de) | 1994-02-17 |
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|---|---|---|---|
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