JPS6278726A - 平板状情報記録担体の記録・再生方法および平板状情報記録担体 - Google Patents
平板状情報記録担体の記録・再生方法および平板状情報記録担体Info
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- JPS6278726A JPS6278726A JP21989885A JP21989885A JPS6278726A JP S6278726 A JPS6278726 A JP S6278726A JP 21989885 A JP21989885 A JP 21989885A JP 21989885 A JP21989885 A JP 21989885A JP S6278726 A JPS6278726 A JP S6278726A
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- Japan
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- recording
- substrate
- information recording
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、映像信号、デジタルオーディオ信号、コンピ
ューター用デジタル信号等を記録・再生あるいは消去可
能な平板状情報記録担体の記録・再生方法に関するもの
である。
ューター用デジタル信号等を記録・再生あるいは消去可
能な平板状情報記録担体の記録・再生方法に関するもの
である。
従来の技術
平板状情報記録担体（以下「光ディスク」と記す）の製
作工程では、ガイドトラックやアドレスビット等を形成
するための感光材料として、フォトレジストが用いられ
てぎた。すなわち第３図に示すように、原盤用基板１上
にフォトレジスト２をスピンコードしく第３図（ａ））
、プリベーク後、レーザー記録４１３にて所定の信号を
記録しく第３図（ｂ））、その後、湿式現像工程を経て
レリーフパターン４を形成しく第３図（Ｃ）＞、これに
更にニッケルメッキを施して金型５を製作しく第３図（
ｄ））、この金型５により複製ディスクを作っていた。
作工程では、ガイドトラックやアドレスビット等を形成
するための感光材料として、フォトレジストが用いられ
てぎた。すなわち第３図に示すように、原盤用基板１上
にフォトレジスト２をスピンコードしく第３図（ａ））
、プリベーク後、レーザー記録４１３にて所定の信号を
記録しく第３図（ｂ））、その後、湿式現像工程を経て
レリーフパターン４を形成しく第３図（Ｃ）＞、これに
更にニッケルメッキを施して金型５を製作しく第３図（
ｄ））、この金型５により複製ディスクを作っていた。
さらに具体的に説明すると、感光材料であるフォトレジ
スト２を原盤用基板１にスピンコードし、１００℃程度
でベーキング後、レーザー記録の工程に入る。フォトレ
ジスト２は、塗布乾燥後の厚さが約１０００人程度と、
極めて薄い層を形成する必要がある。従って、溶剤に希
釈して低粘土の状態で原盤用基板１上に塗布され、る。
スト２を原盤用基板１にスピンコードし、１００℃程度
でベーキング後、レーザー記録の工程に入る。フォトレ
ジスト２は、塗布乾燥後の厚さが約１０００人程度と、
極めて薄い層を形成する必要がある。従って、溶剤に希
釈して低粘土の状態で原盤用基板１上に塗布され、る。
従って、塗布時には、溶剤中の固形分は全体の１０％程
度の状態である。乾燥させると、この溶剤が蒸発して固
形分だけが原盤用基板１表面に残留する。このため塗布
乾燥後の７オトレジスト２は、第４図に示すように微視
的には多孔質の状態になっており、現像優の７オトレジ
スト２の表１ｆｆｉ２ａは、電子顕微鏡等でみれば明ら
かであるが、微小な凹凸があり、光ディスクを作製した
場合、表面性が信号の記録・再生の信号品質に影響を及
ぼすという状態になっている。原盤用基板１表面は、フ
ォトレジスト２表面に比べると、極めて平滑で、而荒れ
は少ない。
度の状態である。乾燥させると、この溶剤が蒸発して固
形分だけが原盤用基板１表面に残留する。このため塗布
乾燥後の７オトレジスト２は、第４図に示すように微視
的には多孔質の状態になっており、現像優の７オトレジ
スト２の表１ｆｆｉ２ａは、電子顕微鏡等でみれば明ら
かであるが、微小な凹凸があり、光ディスクを作製した
場合、表面性が信号の記録・再生の信号品質に影響を及
ぼすという状態になっている。原盤用基板１表面は、フ
ォトレジスト２表面に比べると、極めて平滑で、而荒れ
は少ない。
このような原盤用基板１により作製された光ディスクの
記録・再生方法として、従来、ガイドトラック上に信号
を記録する方法と、隣接ガイドトラック間に信号を記Ｇ
する方法とがある。
記録・再生方法として、従来、ガイドトラック上に信号
を記録する方法と、隣接ガイドトラック間に信号を記Ｇ
する方法とがある。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、ガイドトラック上に信号を記録する方法
では、追記録等を行なう光スポットに比べて、ガイドト
ラック幅をあまり大きくすることは困難な状態にあり、
０．５〜０．８μｍ程度の幅を有するガイドトラック上
に、スポットナイズ１．３μｌ（１／ｅ２強度の直径）
程度の光スポットで記録・再生が行なわれており、その
際、ガイドトラックのエツジ部は直線にはなっておらず
、微小な凹凸、不整を有しており、信号再生詩のノイズ
の要因になっていた。また、隣接ガイドトラック間に記
録する方法では、複製ディスクに転写された原盤用基板
１の７オトレジスト２表面の荒れが、Ｃ／Ｎｔｒ悪化さ
せる要因となっていた。
では、追記録等を行なう光スポットに比べて、ガイドト
ラック幅をあまり大きくすることは困難な状態にあり、
０．５〜０．８μｍ程度の幅を有するガイドトラック上
に、スポットナイズ１．３μｌ（１／ｅ２強度の直径）
程度の光スポットで記録・再生が行なわれており、その
際、ガイドトラックのエツジ部は直線にはなっておらず
、微小な凹凸、不整を有しており、信号再生詩のノイズ
の要因になっていた。また、隣接ガイドトラック間に記
録する方法では、複製ディスクに転写された原盤用基板
１の７オトレジスト２表面の荒れが、Ｃ／Ｎｔｒ悪化さ
せる要因となっていた。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するため、本発明の平板状情報記録担
体の記録・再生方法は、表面に直接ガイドトラックが形
成された原盤用基板を有する平板状情報記録担体あるい
は前記原盤用基板を用いて複製された平板状情報記録担
体の記録・再生に際して、隣接する前記ガイドトラック
間の領域を用いて記録・再生を行なうものである。
体の記録・再生方法は、表面に直接ガイドトラックが形
成された原盤用基板を有する平板状情報記録担体あるい
は前記原盤用基板を用いて複製された平板状情報記録担
体の記録・再生に際して、隣接する前記ガイドトラック
間の領域を用いて記録・再生を行なうものである。
作用
上記方法によれば、原盤用基板として表面に直接ガイド
トラックが形成されたものを用いるので、従来のように
７オトレジストによる表面の而荒れがなく、しかも隣接
ガイドトラック間の領域を用いて記録・再生を行なうの
で、ガイドトラックのエツジ部の凹凸による問題も無い
ことから、信０再生時のノイズを大幅に低減できる。
トラックが形成されたものを用いるので、従来のように
７オトレジストによる表面の而荒れがなく、しかも隣接
ガイドトラック間の領域を用いて記録・再生を行なうの
で、ガイドトラックのエツジ部の凹凸による問題も無い
ことから、信０再生時のノイズを大幅に低減できる。
実施例
以下、本発明の一実施例を第１図〜第２図に基づいて説
明する。
明する。
第１図は金型の製作方法の説明図で、１１はガラスから
なるＩｊ！盤用基板、１２はフォトレジスト、１３はレ
ーザー記＠ｎ、１４はレリーフパターン、１５はガイド
トラック、１６は金型である。
なるＩｊ！盤用基板、１２はフォトレジスト、１３はレ
ーザー記＠ｎ、１４はレリーフパターン、１５はガイド
トラック、１６は金型である。
製作に際しては、先ず原盤用基板１１上にフォトレジス
ト１２を塗布しく第１図（ａ））、次にレーサー記録機
１３によりガイドトラック等の潜像を形成する（第１図
（ｂ））。フォトレジスト１２としては、シラプレーＡ
Ｚ −１３５０を用いた。膜厚は１０００人〜２００
０Ａ程度とした。レーザー記録侵、湿式現像を行なって
レリーフパターン１４を形成する（第１図（Ｃ））。こ
のｙＡ像は湿式現像に限ることなく、フォトレジスト１
２としてドライ現像可能なドライレジストを用い、ドラ
イ現像を行なってもよい。次にガスプラズマを用いてド
ライエツチングを行ない、フォトレジスト１２のレリー
フパターン１４をマスクとして、原盤用基板１１の表面
に直接ガイドトラック１５を形成する（第１図（ｄ））
。このドライエツチングの工程では、エツチングガスと
して種々のものを用いることができ、Ａｒ、ＣＨＦ３゜
ＣＦ４．Ｃ３Ｆａ 、ＣＧ １４等のガスが好適である
。ガス種により、マスクに対してアンダーカット量が変
化し、いわゆるアンダーカット量の少ない異方性エツチ
ングとなる場合と、アンダーカット量の多い等方性エツ
チングとなる場合とがある。
ト１２を塗布しく第１図（ａ））、次にレーサー記録機
１３によりガイドトラック等の潜像を形成する（第１図
（ｂ））。フォトレジスト１２としては、シラプレーＡ
Ｚ −１３５０を用いた。膜厚は１０００人〜２００
０Ａ程度とした。レーザー記録侵、湿式現像を行なって
レリーフパターン１４を形成する（第１図（Ｃ））。こ
のｙＡ像は湿式現像に限ることなく、フォトレジスト１
２としてドライ現像可能なドライレジストを用い、ドラ
イ現像を行なってもよい。次にガスプラズマを用いてド
ライエツチングを行ない、フォトレジスト１２のレリー
フパターン１４をマスクとして、原盤用基板１１の表面
に直接ガイドトラック１５を形成する（第１図（ｄ））
。このドライエツチングの工程では、エツチングガスと
して種々のものを用いることができ、Ａｒ、ＣＨＦ３゜
ＣＦ４．Ｃ３Ｆａ 、ＣＧ １４等のガスが好適である
。ガス種により、マスクに対してアンダーカット量が変
化し、いわゆるアンダーカット量の少ない異方性エツチ
ングとなる場合と、アンダーカット量の多い等方性エツ
チングとなる場合とがある。
本実施例のような微細なガイドトラック１５の形成には
、異方性エツチングの方が好ましい。ガイドトラック１
５は、同心円状あるいは螺旋状に、連続的あるいは不連
続に形成する。ドライエツチング修了後、原盤用基板１
１上に残留したフォトレジスト１２を、アッシング（灰
化）工程で除去する（第１図（ｅ））。アッシングには
、酸素プラズマが用いられる。ドライエツチングからア
ッシングへの工程は、真空を破ることなく、同一のバッ
チで行なうことができる。その後、ニッケルメッキを施
し、ニッケルからなる金型１６を形成する（第１図（ｆ
））。
、異方性エツチングの方が好ましい。ガイドトラック１
５は、同心円状あるいは螺旋状に、連続的あるいは不連
続に形成する。ドライエツチング修了後、原盤用基板１
１上に残留したフォトレジスト１２を、アッシング（灰
化）工程で除去する（第１図（ｅ））。アッシングには
、酸素プラズマが用いられる。ドライエツチングからア
ッシングへの工程は、真空を破ることなく、同一のバッ
チで行なうことができる。その後、ニッケルメッキを施
し、ニッケルからなる金型１６を形成する（第１図（ｆ
））。
アッシング工程では、原盤用基板１１の表面は、フォト
レジスト１２が完全に除去されており、表面性が非常に
良くて、フォトレジスト１２表面にみられるような微視
的な表面の荒れは見られない。エツチングが施されたガ
イドトラック１５部分の表面は、エツチング条件によっ
ては、荒れが発生し、なめらかでなくなる可能性がある
為、ガス種、ガス圧、ガス８ｉ量、基板材質等は慎重に
設定、選択する必要がある。ニッケルメッキは、原盤用
基板１１より直接とれる為、従来のようにフォトレジス
トからメッキをとっていた場合には１原盤から１枚しか
金型１６が作れなかったが、本実施例では多数枚の金型
を製作することができる。原盤用基板１１として厚みが
１．２１１１１程度のものを使用すれば、高品質ハイエ
ンドな用途でのディスク基板を得ることができる。特に
光磁気ディスク用としては、好適なディスク基板となる
。
レジスト１２が完全に除去されており、表面性が非常に
良くて、フォトレジスト１２表面にみられるような微視
的な表面の荒れは見られない。エツチングが施されたガ
イドトラック１５部分の表面は、エツチング条件によっ
ては、荒れが発生し、なめらかでなくなる可能性がある
為、ガス種、ガス圧、ガス８ｉ量、基板材質等は慎重に
設定、選択する必要がある。ニッケルメッキは、原盤用
基板１１より直接とれる為、従来のようにフォトレジス
トからメッキをとっていた場合には１原盤から１枚しか
金型１６が作れなかったが、本実施例では多数枚の金型
を製作することができる。原盤用基板１１として厚みが
１．２１１１１程度のものを使用すれば、高品質ハイエ
ンドな用途でのディスク基板を得ることができる。特に
光磁気ディスク用としては、好適なディスク基板となる
。
第２図は前記金型１６により作ったレプリカディスクへ
の記録状態を示しており、１７はディスク基板、１８は
記録層、１９は記録再生レンズ、２０はガイドトラック
である。情報の記録領域は、原盤用基板１１の非ドライ
エツチング領域に対応する部分、すなわち隣接ガイドト
ラック２０．２０間を用いる。
の記録状態を示しており、１７はディスク基板、１８は
記録層、１９は記録再生レンズ、２０はガイドトラック
である。情報の記録領域は、原盤用基板１１の非ドライ
エツチング領域に対応する部分、すなわち隣接ガイドト
ラック２０．２０間を用いる。
この領域の表面性は極めて良く、従来のレジスト領域に
対応する領域に比べると楊めて平滑である。
対応する領域に比べると楊めて平滑である。
このように、ＩｊｉＷ用基板１１からレプリカディスク
を製作する場合でも、あるいは原盤用基板１１そのもの
をディスク基板として用いる場合でも、原盤用基板１１
の非レジスト部分、すなわち隣接ガイドトラック２０．
２０間、あるいは１５．１５間を、追記形情報記録領域
あるいは閤き換え可能形情報記録領域として用いること
により、衷面荒れに基因する再生時のノイズ成分を大幅
に低減でき、Ｃ／Ｎを改善できる。
を製作する場合でも、あるいは原盤用基板１１そのもの
をディスク基板として用いる場合でも、原盤用基板１１
の非レジスト部分、すなわち隣接ガイドトラック２０．
２０間、あるいは１５．１５間を、追記形情報記録領域
あるいは閤き換え可能形情報記録領域として用いること
により、衷面荒れに基因する再生時のノイズ成分を大幅
に低減でき、Ｃ／Ｎを改善できる。
なお、原盤用基板１１の材質としては、５１０２を主成
分としたガラスが好適である。ガラスの種類としては、
石英ガラス、ソーダガラス、ホウ硅酸ガラス等を用いる
ことができる。またガラス以外にも、金属、たとえばＡ
Ｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ。
分としたガラスが好適である。ガラスの種類としては、
石英ガラス、ソーダガラス、ホウ硅酸ガラス等を用いる
ことができる。またガラス以外にも、金属、たとえばＡ
Ｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ。
Ｆｅ 、Ｍ（１，２ｎ等の材料を用いることにより、メ
ッキ時点で、表面に導体化のプロセスが不要で直接電気
メッキできる。
ッキ時点で、表面に導体化のプロセスが不要で直接電気
メッキできる。
発明の効果
以上述べたごとく本発明によれば、原盤用基板として表
面に直接ガイドトラックが形成されたものを用いるので
、従来のようにフォトレジストによる表面の而荒れがな
く、しかも隣接ガイドトラック間の領域を用いて記録・
再生を行なうので、ガイドトラックのエツジ部の凹凸に
よる問題も無いことから、信号再生時のノイズ成分を大
幅に低減でき、Ｃ／Ｎの改善を図ることができる。
面に直接ガイドトラックが形成されたものを用いるので
、従来のようにフォトレジストによる表面の而荒れがな
く、しかも隣接ガイドトラック間の領域を用いて記録・
再生を行なうので、ガイドトラックのエツジ部の凹凸に
よる問題も無いことから、信号再生時のノイズ成分を大
幅に低減でき、Ｃ／Ｎの改善を図ることができる。
第１図は本発明の一実施例における平板状情報記録担体
の記録・再生方法に用いる平板状情報記＠担体の製作過
程の要部を示す断面図、第２図は同記録・再生方法の説
明図、第３図は従来の平板状情報記録担体の記録・再生
方法に用いる平板状情報記録担体の製作過程の要部を示
す断面図、第４図は第３図におけるレジスト原盤の要部
拡大断面図である。 １１・・・原盤用基板、１５．２０・・・ガイドトラッ
ク代理人 森 本 義 弘 第１図 第２図 ／／−一徹路用基板 ｌダー力゛任トラック 第３゛図 第４図
の記録・再生方法に用いる平板状情報記＠担体の製作過
程の要部を示す断面図、第２図は同記録・再生方法の説
明図、第３図は従来の平板状情報記録担体の記録・再生
方法に用いる平板状情報記録担体の製作過程の要部を示
す断面図、第４図は第３図におけるレジスト原盤の要部
拡大断面図である。 １１・・・原盤用基板、１５．２０・・・ガイドトラッ
ク代理人 森 本 義 弘 第１図 第２図 ／／−一徹路用基板 ｌダー力゛任トラック 第３゛図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、表面に直接ガイドトラックが形成された原盤用基板
を有する平板状情報記録担体あるいは前記原盤用基板を
用いて複製された平板状情報記録担体の記録・再生に際
して、隣接する前記ガイドトラック間の領域を用いて記
録・再生を行なう平板状情報記録担体の記録・再生方法
。 ２、原盤用基板として、ＳｉＯ＿２を主成分とするガラ
スを用いる特許請求の範囲第１項記載の平板状情報記録
担体の記録・再生方法。 ３、原盤用基板として、金属を主成分とする材料を用い
る特許請求の範囲第１項記載の平板状情報記録担体の記
録・再生方法。 ４、原盤用基板として、Ａｒ、ＣＨＦ＿３、ＣＦ＿４、
Ｃ＿３Ｆ＿８、ＣＣｌ＿４のうち少なくとも１つを含む
プラズマ状気体をエッチング媒体としてガイドトラック
をエッチングにより形成したものを用いる特許請求の範
囲第１項記載の平板状情報記録担体の記録・再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21989885A JPS6278726A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 平板状情報記録担体の記録・再生方法および平板状情報記録担体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21989885A JPS6278726A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 平板状情報記録担体の記録・再生方法および平板状情報記録担体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6278726A true JPS6278726A (ja) | 1987-04-11 |
Family
ID=16742764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21989885A Pending JPS6278726A (ja) | 1985-10-02 | 1985-10-02 | 平板状情報記録担体の記録・再生方法および平板状情報記録担体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6278726A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01149243A (ja) * | 1987-12-04 | 1989-06-12 | Sharp Corp | ディスク状光記録媒体の製造方法および製造用フォトマスク |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5477105A (en) * | 1977-12-01 | 1979-06-20 | Pioneer Electronic Corp | Method of producing optical signal recording carrier |
| JPS56107335A (en) * | 1980-01-29 | 1981-08-26 | Fujitsu Ltd | Tracking system for optical recorder |
| JPS56158873A (en) * | 1980-05-14 | 1981-12-07 | Hitachi Ltd | Dry etching method |
| JPS5885936A (ja) * | 1981-11-16 | 1983-05-23 | Toshiba Corp | 光学的情報記録再生装置 |
| JPS5945946A (ja) * | 1982-09-06 | 1984-03-15 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 中空糸状多孔質ガラスの製造法 |
-
1985
- 1985-10-02 JP JP21989885A patent/JPS6278726A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5477105A (en) * | 1977-12-01 | 1979-06-20 | Pioneer Electronic Corp | Method of producing optical signal recording carrier |
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| JPS5885936A (ja) * | 1981-11-16 | 1983-05-23 | Toshiba Corp | 光学的情報記録再生装置 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01149243A (ja) * | 1987-12-04 | 1989-06-12 | Sharp Corp | ディスク状光記録媒体の製造方法および製造用フォトマスク |
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