JPS62245509A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS62245509A JPS62245509A JP8799786A JP8799786A JPS62245509A JP S62245509 A JPS62245509 A JP S62245509A JP 8799786 A JP8799786 A JP 8799786A JP 8799786 A JP8799786 A JP 8799786A JP S62245509 A JPS62245509 A JP S62245509A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気記録装置用薄膜磁気ヘッドの製造方法に
係９、％罠高精度な磁気コア形状を形成するための方法
に関する。
係９、％罠高精度な磁気コア形状を形成するための方法
に関する。
第２図は、従来の薄膜磁気ヘッドの磁気コア部の断面の
一例を示したものである。基板２１の上には下部磁性膜
となるパーマロイ膜２２が形成されており、後から形成
される上部磁性膜としてのパーマロイ膜２３と共に磁気
回路を構成している。
一例を示したものである。基板２１の上には下部磁性膜
となるパーマロイ膜２２が形成されており、後から形成
される上部磁性膜としてのパーマロイ膜２３と共に磁気
回路を構成している。
先端部２４においてはアルミナ膜を用いたギヤツブ材２
５を２枚のパーマロイ膜２２．２３間に介在して磁気ギ
ャップを形成し、このギャップを用いて記録媒体である
例えば磁気ディスクに書き込み、また磁気ディスクから
の読み出しを行なう。
５を２枚のパーマロイ膜２２．２３間に介在して磁気ギ
ャップを形成し、このギャップを用いて記録媒体である
例えば磁気ディスクに書き込み、また磁気ディスクから
の読み出しを行なう。
媒体が磁気テープになっても原理は同様である。
パーマロイ膜２２．２３の間には導体コイル２６が磁気
回路と交差するように設けてあり、この導体コイルはパ
ーマロイ膜２２及び２３と有機樹脂膜２７により絶縁さ
れている。この有機樹脂膜２７はパーマロイ膜２２．２
３間の漏れ磁束を小さくするため、約１０μｍ以上の厚
さを必要とする。
回路と交差するように設けてあり、この導体コイルはパ
ーマロイ膜２２及び２３と有機樹脂膜２７により絶縁さ
れている。この有機樹脂膜２７はパーマロイ膜２２．２
３間の漏れ磁束を小さくするため、約１０μｍ以上の厚
さを必要とする。
サテ、パーマロイ膜２３のパターニング方法には、感光
性樹脂膜をマスクにしてエツチングする方法、選択めっ
き法により感光性樹脂膜の無い部分にパーマロイを堆積
する方法などが考えられるが、これらいずれの方法を選
択しても、約１０μｍ以上の段差が存在する所で感光性
樹脂膜をパターニングする必要がある。一方、薄膜磁気
ヘッドでは、このパーマロイ膜２３の先端部２４に対し
、１μｍ以下のパターン精度が要求される。
性樹脂膜をマスクにしてエツチングする方法、選択めっ
き法により感光性樹脂膜の無い部分にパーマロイを堆積
する方法などが考えられるが、これらいずれの方法を選
択しても、約１０μｍ以上の段差が存在する所で感光性
樹脂膜をパターニングする必要がある。一方、薄膜磁気
ヘッドでは、このパーマロイ膜２３の先端部２４に対し
、１μｍ以下のパターン精度が要求される。
第３図は、例えば、特開昭６０−３７１３０号公報に述
べられているように上述のような段差全盲する面上にお
いて、感光性樹脂膜をパターニングするプロセスを模式
的に表わしたものである。第３図（ａ）は基板３１の上
に有機樹脂膜３７のパターンを形成し、その上にパーマ
ロイ膜３３を堆積したものの断面図である。この上に感
光性樹脂膜３８を塗布し乾燥すると第３図（ｂ）に示す
断面形状となる。次に密着型マスクアライナを用いて露
光する場合、有機樹脂膜パターン３７の中央では感光性
樹脂膜３８はホトマスク３９と密着するが、他の部分で
は感光性樹脂膜３８はホトマスク３９から離れた状態で
露光される。露光に用いる光は平行光に近づけであるが
密着できない時はピントが合わ々い状態と同じになり、
光の分布がブロードに々る。投影型マスクアライナを用
いた場合においても、ホトレジスト膜表面に凹凸がある
ので全面にピントが合わない状態になる。このため、第
３図（ｃ）に示すように、露光・現像後書られる感光性
樹脂膜パターン３８においては、有機樹脂膜３７の段差
下部３４０部分で、樹脂膜寸法がホトマスク寸法に対し
て変化１〜で１−まい、かつばらつきが大きくなる。し
たがって、第３図（ｄ）に示すように、パーマロイ膜３
３をパターニングした後も、その先端部３４０寸法ばら
つきが大きくなってしまい、高精度な磁性膜先端部形状
が得られなかった。
べられているように上述のような段差全盲する面上にお
いて、感光性樹脂膜をパターニングするプロセスを模式
的に表わしたものである。第３図（ａ）は基板３１の上
に有機樹脂膜３７のパターンを形成し、その上にパーマ
ロイ膜３３を堆積したものの断面図である。この上に感
光性樹脂膜３８を塗布し乾燥すると第３図（ｂ）に示す
断面形状となる。次に密着型マスクアライナを用いて露
光する場合、有機樹脂膜パターン３７の中央では感光性
樹脂膜３８はホトマスク３９と密着するが、他の部分で
は感光性樹脂膜３８はホトマスク３９から離れた状態で
露光される。露光に用いる光は平行光に近づけであるが
密着できない時はピントが合わ々い状態と同じになり、
光の分布がブロードに々る。投影型マスクアライナを用
いた場合においても、ホトレジスト膜表面に凹凸がある
ので全面にピントが合わない状態になる。このため、第
３図（ｃ）に示すように、露光・現像後書られる感光性
樹脂膜パターン３８においては、有機樹脂膜３７の段差
下部３４０部分で、樹脂膜寸法がホトマスク寸法に対し
て変化１〜で１−まい、かつばらつきが大きくなる。し
たがって、第３図（ｄ）に示すように、パーマロイ膜３
３をパターニングした後も、その先端部３４０寸法ばら
つきが大きくなってしまい、高精度な磁性膜先端部形状
が得られなかった。
このため、感光性樹脂膜３８′ｆ：厚く塗布して表面を
平坦化した後、全面腹光して所定膜厚まで感光性樹脂を
エツチングし、ホトマスクとの密着を良くする方法が考
案されたが、露光によるエツチング膜厚の制御が困難で
あり、かつパターニング時の感光性樹脂膜厚が厚く寸法
精度が悪くなりゃすいため、実際にはほとんど適用され
なかった。
平坦化した後、全面腹光して所定膜厚まで感光性樹脂を
エツチングし、ホトマスクとの密着を良くする方法が考
案されたが、露光によるエツチング膜厚の制御が困難で
あり、かつパターニング時の感光性樹脂膜厚が厚く寸法
精度が悪くなりゃすいため、実際にはほとんど適用され
なかった。
〔発明が解決しようとする問題点１
上記従来技術では、段差下部において感光性樹脂をパタ
ーニングしているため、感光性樹脂膜厚が厚くなってし
まい、パターン寸法精度が悪くなりやすいという問題、
があった。
ーニングしているため、感光性樹脂膜厚が厚くなってし
まい、パターン寸法精度が悪くなりやすいという問題、
があった。
本発明の目的は、薄膜磁気ヘッドの磁性膜先端部を、高
精度にパターニングするための製造方法を提供すること
にある。
精度にパターニングするための製造方法を提供すること
にある。
本発明は、感光性樹脂膜を最も高精度にパターニングす
るための方法の一つは、密着型マスクアライナを用いて
、ホトマスクと薄い感光性樹脂膜が良く密着している状
態で露光を行なう方法であることに着目してなされたも
のである。
るための方法の一つは、密着型マスクアライナを用いて
、ホトマスクと薄い感光性樹脂膜が良く密着している状
態で露光を行なう方法であることに着目してなされたも
のである。
・一本発明の特徴は、上部磁性膜の形成工程を二つに′
分割し、有機絶縁膜の段差を形成する工程の前後に位置
させた点にある。すなわち、まず最も寸法精度が要求さ
れる上部磁性膜先端部を形成し、しかる後に有機絶縁膜
段差を形成し、そして該段差上に先端部を除いた上部磁
性膜を形成することを特徴とする。
分割し、有機絶縁膜の段差を形成する工程の前後に位置
させた点にある。すなわち、まず最も寸法精度が要求さ
れる上部磁性膜先端部を形成し、しかる後に有機絶縁膜
段差を形成し、そして該段差上に先端部を除いた上部磁
性膜を形成することを特徴とする。
上記のような工程を用いれば、上部磁性膜先端部をパタ
ーニングするための感光性樹脂膜は、表面がほぼ平坦な
状態で薄く塗布できるため、寸法精度良くパターン形成
できる３、また、先端部全除いた上部磁性膜は、段差上
部及び斜面部に形成されるが、この部分の寸法精度は比
較的ゆるやかであり、問題は無い。
ーニングするための感光性樹脂膜は、表面がほぼ平坦な
状態で薄く塗布できるため、寸法精度良くパターン形成
できる３、また、先端部全除いた上部磁性膜は、段差上
部及び斜面部に形成されるが、この部分の寸法精度は比
較的ゆるやかであり、問題は無い。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。セラ
ミック基板１１上に、第１図（ａ）に示すように下部磁
性膜としてのパーマロイ膜１２及びギャップ材１５′ｆ
：形成した。次いで、上部磁性膜先端部１４としてのパ
ーマロイ膜’を成１［Ｌ、、エツチングして第１図Ｔｂ
）に示す断面構造を得た。この時、エツチングマスクと
なる感光性樹脂膜パターンを形成する工程では、下地段
差が小さいため、感光性樹脂膜を薄く形成でき、かつ露
光時にはホトマスクと感光性樹脂膜表面が良く密着して
、高 。
ミック基板１１上に、第１図（ａ）に示すように下部磁
性膜としてのパーマロイ膜１２及びギャップ材１５′ｆ
：形成した。次いで、上部磁性膜先端部１４としてのパ
ーマロイ膜’を成１［Ｌ、、エツチングして第１図Ｔｂ
）に示す断面構造を得た。この時、エツチングマスクと
なる感光性樹脂膜パターンを形成する工程では、下地段
差が小さいため、感光性樹脂膜を薄く形成でき、かつ露
光時にはホトマスクと感光性樹脂膜表面が良く密着して
、高 。
１精度なパターニングができた。
次に１第１図（Ｃ）に示すように、導体コイル１６及び
有機絶縁膜１７ｆ：形成した後、第１図（ｄ）に示すよ
うに先端部を除いた上部磁性膜としてのパーマロイ膜１
３を成膜した。そして、このパーマロイ膜１３ｆエツチ
ングして、第１図（ｅ）に示す断面構造をもつ薄膜磁気
ヘッドを得た。この時、有機絶縁膜１７の段差下部では
パターニング精度が悪くなるが、この部分の要求寸法精
度は比較的ゆるやかであり問題は無かった。
有機絶縁膜１７ｆ：形成した後、第１図（ｄ）に示すよ
うに先端部を除いた上部磁性膜としてのパーマロイ膜１
３を成膜した。そして、このパーマロイ膜１３ｆエツチ
ングして、第１図（ｅ）に示す断面構造をもつ薄膜磁気
ヘッドを得た。この時、有機絶縁膜１７の段差下部では
パターニング精度が悪くなるが、この部分の要求寸法精
度は比較的ゆるやかであり問題は無かった。
直径７６ｍｍの基板に素子を形成した場合の、上部磁性
膜先端部１４寸法の基板面内分布を第４図に示す。第４
図（ａ）は従来の寸法、すなわち有機絶縁膜段差を形成
した後で上部磁性膜全体をパターニングした場合の結果
を表わしており、第４図（ｂ）は本発明の方法、すなわ
ち有機絶縁膜段差を形成する前に上部磁性膜先端部をパ
ターニングした場合の結果を表わす。本発明の方法によ
り、寸法ばらつきが低減でき、かつホトマスク寸法に近
い寸法値が得られることがわかった。
膜先端部１４寸法の基板面内分布を第４図に示す。第４
図（ａ）は従来の寸法、すなわち有機絶縁膜段差を形成
した後で上部磁性膜全体をパターニングした場合の結果
を表わしており、第４図（ｂ）は本発明の方法、すなわ
ち有機絶縁膜段差を形成する前に上部磁性膜先端部をパ
ターニングした場合の結果を表わす。本発明の方法によ
り、寸法ばらつきが低減でき、かつホトマスク寸法に近
い寸法値が得られることがわかった。
本発明によれば、ホトマスクと膜厚の薄い感光性樹脂表
面が良く密着した状態でパターニングできるので、高精
度な磁性膜形状をもつ薄膜磁気ヘッドを形成することが
できる。
面が良く密着した状態でパターニングできるので、高精
度な磁性膜形状をもつ薄膜磁気ヘッドを形成することが
できる。
第１図は本発明の一実施例を示す断面（！ｙ１、第２図
は薄膜磁気ヘッドの構造を説明するための断面図、第３
図は従来の薄膜磁気ヘッドの製造プロセスを示す断面図
、第４図は従来法と本発明の方法の効果のちがいを表わ
すグラフである。 １１・・・基板、１２・・・下部磁性膜、１３・・・上
部磁性膜、１４・・・上部磁性膜先端部、１５・・・ギ
ャップ材、１６・・・導体コイル、１７・・・有機絶縁
膜。
は薄膜磁気ヘッドの構造を説明するための断面図、第３
図は従来の薄膜磁気ヘッドの製造プロセスを示す断面図
、第４図は従来法と本発明の方法の効果のちがいを表わ
すグラフである。 １１・・・基板、１２・・・下部磁性膜、１３・・・上
部磁性膜、１４・・・上部磁性膜先端部、１５・・・ギ
ャップ材、１６・・・導体コイル、１７・・・有機絶縁
膜。
Claims (1)
- １、磁気コアを形成する工程が、磁気コア先端部のみを
形成する工程と該先端部を除く部分を形成する工程の２
つに分かれている事を特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8799786A JPS62245509A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8799786A JPS62245509A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62245509A true JPS62245509A (ja) | 1987-10-26 |
Family
ID=13930434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8799786A Pending JPS62245509A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62245509A (ja) |
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1986
- 1986-04-18 JP JP8799786A patent/JPS62245509A/ja active Pending
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