JPS63131313A - 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録装置用薄膜磁気ヘッドの構造及びその
製造方法に係り、特に高精度な磁気コア形状を有する薄
ｌＩｉ磁気ヘッドに関する。

〔従来の技術〕

第２図（ｂ）は、従来の薄膜磁気ヘッドの磁気コア部の
側断面の一例を示したものである。基板２１の上面には
下部磁性膜となるパーマロイ膜２２が形成されており、
後から形成される上部磁性膜としてのパーマロイ膜２３
と共に磁気回路を構成するようになっている。先端部２
４においては、アルミナ瞠を用いたギャップ材２５を２
枚のパーマロイ膜２２．２３間に介在して磁気ギャップ
を形成し、このギャップを用いて記録媒体である例えば
磁気ディスクへの書き込み、また磁気ディスクからの読
み出しを行なう。媒体が磁気テープになっても原理は同
様である。パーマロイ膜２２．２３の間には導体コイル
２６が磁気回路と交差するように設けてあり、この導体
コイルは。

パーマロイ膜２２及び２３と有機樹脂ｆｌ！２７により
絶縁されている。この有機樹脂！！！２７は、パーマロ
イ′Ｂ！Ｊ２２．２３の間の漏れ磁束を小さくするため
、約１０μｍ以上の厚さを必要とする。

第２図（ａ）は、ヘッド先端部２４の正断面を示したも
のである。従来のヘッドにおいては、例えば米国特許第
４２１９８５５号に示されているように、上部磁性Ｉｔ
！Ｊ２３の幅（Ｗｚ）は下部磁性膜２２の幅（Ｗｌ）よ
りも狭くなっていた。これは、上部磁性膜の幅が広いと
、第３図に示すように、上部磁性膜３３の端部３４が、
下部磁性膜３２による段差をのり越えてたれ下がった状
態になりやすいため、この磁性膜端部３４から出る磁束
の方向が記録媒体進行方向と平行でなくなってしまうこ
とから、有効に書き込みできなくなってしまうためであ
る。

したがって、記録密度を決めるトラック幅の大きさは、
第２図（ａ）に示す上部磁性膜２３の幅（Ｗｚ）によっ
て決められており、高記録密度化に対する要求が高まる
につれて、このＷｚの値の高精度制御が必要となってき
ていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、第２図（ｂ）に示したように、上部磁性
膜２３の先端部２４は、約１０μｍ以上の高さの段差下
部においてパターニングしなければならないため、約１
０μｍの厚いホトレジストが必要だが、この様な厚いホ
トレジストの幅の高精度制御は困難であり、特に２０μ
ｍ以下の微細なトラック幅加工では寸法のばらつきが大
きいという問題点があった。

本発明の目的は、上記問題点を克服し、高精度に加工し
たトラック幅を有する薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、ホトレジスタを最も高精度にパターニングす
るための方法の一つは、ホトマスクとホトレジストが良
く密着している状態で露光を行なう方法である事、すな
わち表面ができるだけ平坦であり、かつ薄いホトレジス
トを用いれば、容易に高精度なパターニングができる事
に着目してなされたものである。

本発明は、また、下部磁性膜は平坦面上でパターニング
できる事に着目し、従来上部磁性膜の先端部の幅で決め
られていたトラック幅を、下部磁性膜の先端部の幅で決
める事によって、トラック幅の高精度制御を実現しよう
とするものである。

上述した本発明の目的は、下部磁性膜の先端部の幅を高
精度にパターニングしてトラック幅を決めた後、上部磁
性膜の先端部の幅を下部磁性膜の先端部の幅よりも広く
形成する事により達成される。

また実際に適用するにあたっては、従来技術の項で述べ
た上部磁性膜端部のたれ下がりを防ぐため、第１図（ａ
）に示したように、下部磁性膜１２の両側に平坦化層１
６を設けた後、ギャップ材１５及び上部磁性［１３を形
成すれば好適となる。

この平坦化層１６の材料は、磁気ヘッドの特性に悪影響
を及ぼさない物質であれば特に限定しなくても良いが、
望ましくは、たとえばＡｕｔｏｓやＳ　ｉ　Ｏｘ等の比
較的安定な無機酸化物を用いることが考えられる。

また、これらの平坦化層材料の成膜方法としては、蒸着
法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等が利用できる。

〔作用〕

第１図（ａ）に示した構造をとる事によって、ギャップ
材１５の平面が平坦になるため、上部磁性１Ｎ！１１３
の端部のたれ下がりは無くなり、媒体に対して有効な書
き込みが行なえるようになる。また、下部磁性膜１２の
先端部は平坦面上でパターニングできるため、容易に寸
法ばらつきの小さいパターンが得られる様になり、トラ
ック幅の高精度制御が可能となる。上部磁性膜１３の先
端部は。

下部に比ムて寸法精度を必要としなくなるため、絶縁膜
による段差の下部でもパターニングしやすくなる。

また、第１図（ｂ）に示したように、ギャップ材１５の
表面が平坦な範囲内で上部磁性膜１３を形成すれば１、
第１図（ａ）に示した平坦化層１６は、特に設ける必要
は無い。

一方、磁性膜先端部の両側に第１図（ａ）に示したよう
な平坦化層１６を形成する際に、同時に磁気コア全体の
周辺に平坦化層を形成しておく事によって、下部磁性膜
の段差が暖和され、絶縁層や導体コイルの形成が容易に
なるという別の効果も得られる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を第４図により説明する。第４
回は１本発明による薄膜磁気ヘッドの製造プロセスを模
式的に表わしたものである。

セラミック基板４１上に、第４図（ａ）に示すように、
下部磁性膜・１２となるパーマロイ膜をスパッタリング
法により形成する。その上に、第４図（ｂ）に示すよう
に、ホトレジストパターン４７を形成する。この時、ホ
トレジスト表面が平坦なため１寸法精度よくパターニン
グできる。次いで、イオンミリング法によりパーマロイ
膜をエツチングして、第４図（ｃ）に示すように、下部
磁性膜パターン４２を形成した。続いて、第４図（ｄ）
に示すように、スパッタリング法によりＡＱｚＯａ膜４
６を堆積した。この際、ＡＱｚＯｓ膜４６の膜厚６．下
部磁性［４２の膜厚と同じになるようにする。次いで、
第４図（ｅ）に示すように、ホトレジストを剥離し、同
時にホトレジスト上のＡＱｘ、Ｏｓ膜をリフトオフ除去
して、平坦な表面を得る。そして、第４図（ｆ）に示す
ように。

ギャップ材４５としてのＡＱｚＯｓ膜及び上部磁性ｌｌ
Ｉ４３としてのパーマロイパターンを形成する。

直径７６＋＋ａの基板に素子を形成した場合の、トラッ
ク幅の基板面内分布を第５図に示す。第５図（ａ）は従
来法、すなわち上部磁性膜を段差下部でパターニングし
てトラック幅を決めた場合の結果を表わしており、第５
図（ｂ）は本発明の方法。

すなわち下部磁性膜を平坦面上でパターニングしてトラ
ック幅を決めた場合の結果を表わしている。

この結果から判明できるように、本発明の方法により、
トラック幅のばらつきが低減でき１合わせてホトマスク
寸法に近いトラック幅を持つ磁気ヘッドが得られる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、寸法精度の良いホトレジストパターン
を用いてトラック幅加工ができるので、高精度な磁性膜
形状を持つ簿膜磁気ヘッドが実現できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気ヘッドｔＩｌｌ造を表わす正断面
図、第２図は従来の磁気ヘッドの正断面図及び側断面図
、第３図は従来の磁気ヘッドの正断面図、第４図は本発
明の一実施例としてのプロセスを示す正断面図、第５図
は従来法と本発明の効果の相違を表わすヒストグラムで
ある。 １１・・・基板、１２・・・下部磁性膜、１３・・上部
磁性膜、１５・・・ギャップ材、１６・・・平坦化層、
４１、基板、４２・・・下部磁性膜、４３・・上部磁性
膜、４５・・・ギャップ材、４６・・・平坦化層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に、少なくとも順次第１磁性膜、ギャップ材
   膜、第２磁性膜が積層され、記録媒体と対向する端面に
   あつて前記第１磁性膜と第２磁性膜とが前記ギャップ材
   膜を介して重畳されて構成されている薄膜磁気ヘッドに
   おいて、前記第１磁性膜の前記端面における層幅が前記
   第２磁性膜のそれよりも大きく形成されていることを特
   徴とする薄膜磁気ヘッド。 ２、少なくとも記録媒体と対向する端面において、第１
   磁性膜が形成されていない領域の前記基板上に前記第１
   磁性膜の層厚とほぼ同じ層厚の層が形成され、この層と
   前記第１磁性膜による平坦化部にギャップ材膜を介して
   第２磁性膜が形成されている特許請求の範囲第１項記載
   の薄膜磁気ヘッド。 ３、基板上に、少なくとも、順次第１磁性膜、ギャップ
   材膜、第２磁性膜が積層され、記録媒体と対向する端面
   にあつて前記第１磁性膜と第２磁性膜とが前記ギャップ
   材膜を介して重畳されて構成されている薄膜磁気ヘッド
   において、第１磁性膜のパターン形成後にその形成領域
   以外の領域における前記基板上に前記第１磁性膜の層厚
   とほぼ同じ層厚の層を形成することにより、この層と前
   記第１磁性膜による平坦化部を形成し、前記ギャップ材
   膜形成後に、第２磁性膜を前記第１磁性膜の前記端面に
   おける層幅より小さい層幅で形成することを特徴とする
   薄膜磁気ヘッドの製造方法。