JP2707758B2 - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number
JP2707758B2
JP2707758B2 JP1267614A JP26761489A JP2707758B2 JP 2707758 B2 JP2707758 B2 JP 2707758B2 JP 1267614 A JP1267614 A JP 1267614A JP 26761489 A JP26761489 A JP 26761489A JP 2707758 B2 JP2707758 B2 JP 2707758B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
magnetic
forming
substrate
groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1267614A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH03127308A (ja
Inventor
均 金井
理明 金峰
英一 神田
富美夫 久米
誉生 越川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP1267614A priority Critical patent/JP2707758B2/ja
Publication of JPH03127308A publication Critical patent/JPH03127308A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2707758B2 publication Critical patent/JP2707758B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3176Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps
    • G11B5/3179Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes
    • G11B5/3183Structure of heads comprising at least in the transducing gap regions two magnetic thin films disposed respectively at both sides of the gaps the films being mainly disposed in parallel planes intersecting the gap plane, e.g. "horizontal head structure"
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/127Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
    • G11B5/31Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
    • G11B5/3103Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
    • G11B5/3106Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 磁気ディスク装置に用いられる記録・再生用の薄膜磁
気ヘッドの製造方法、特に水平構造型の薄膜磁気ヘッド
の磁気ギャップの形成に関し、 Si基板上に磁気ギャップ層を剥がれることなく安定に
再現性良く形成することを可能にし、製造歩留りを向上
させることを目的とし、 磁気ギャップ形成用溝があらかじめ形成された基板上
に、該溝を挟む両側の基板面の内の一方の基板面より溝
の底面に延びる第一下部磁極層を被着し、その第一下部
磁極層上を含む基板上に非磁性の磁気ギャップ層を被着
形成する工程と、溝を挟んで一方の基板面に対向する他
方の基板面に形成された前記磁気ギャップ層の表面より
溝内にある一部の磁気ギャップ層上に延びる第二下部磁
極層を被着形成した後、それら第一、第二下部磁極層上
に第一層間絶縁層、薄膜コイル、第二層間絶縁層及び上
部磁気ヨーク層を順に積層形成する工程と、該薄膜コイ
ルの端部に端子引き出し層と、該薄膜コイル及び上部磁
気ヨーク層上に絶縁保護膜を形成した後、前記基板の磁
極層等が形成されていない反対側の面をラッピング加工
して前記第一、第二下部磁極層及び磁気ギャップ層を露
出させて媒体対向面を形成する工程を含み構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置に用いられる記録・再生用
の薄膜磁気ヘッドの製造方法に係り、特に水平構造型の
薄膜磁気ヘッドの磁気ギャップの形成に関するものであ
る。
近年、コンピュータシステムにおける外部記憶装置と
して広く用いられている磁気ディスク装置では、高密度
記録化及び大容量化に伴って、記録再生時の磁気ディス
ク面に対する磁気ヘッドスライダの浮上量は益々狭めら
れ、低浮上においても安定で信頼性が確保できる軽量な
磁気ヘッドスライダが要求されている。
磁気ディスク装置に用いられている磁気ヘッドスライ
ダは一般にスライダの浮上面(媒体対向面)に対して垂
直な後端の面に垂直構造型の薄膜磁気ヘッドが配置され
た構造が採られているため、該薄膜磁気ヘッドの配置高
さにより、必然的にスライダの高さ(厚さ)も大きくな
り、小型、軽量な磁気ヘッドスライダを実現することが
極めて困難であった。
このため、薄膜磁気ヘッドを媒体対向面に水平に配置
する構成にして磁気ヘッドスライダの高さを小さくした
水平構造型の薄膜磁気ヘッドが提案されている。しか
し、かかるヘッド構成においては記録再生の要点となる
磁気ギャップの基板に対するが密着性が悪い傾向があ
り、該磁気ギャップを密着性良く安定に形成する方法が
必要とされている。
〔従来の技術〕
従来の水平構造型の薄膜磁気ヘッドは、第2図(a)
で示すようにシリコン(Si)基板1上に下地カーボン膜
2aとハードキュア(熱硬化)したレジスト膜2bとからな
る磁気ギャップ層2を形成し、該磁気ギャップ層2の周
囲の所定領域以外の基板1表面にAl2O3等からなる非磁
性絶縁層3を形成する。
次に前記磁気ギャップ層2及び非磁性絶縁層3上にNi
−Feからなる下部磁極層4、第一層間絶縁層5、薄膜コ
イル6、第二層間絶縁層7及び上部磁気ヨーク層8を順
次積層状に形成した後、該薄膜コイル6の端部上に端子
引き出し層9を形成し、該上部磁気ヨーク層8、薄膜コ
イル6上にAl2O3等からなる絶縁保護膜10を被着形成
し、その表面を該端子引き出し層9の端部が露出する平
坦面に研磨仕上げする。
次に第2図(b)に示すように前記Si基板1をエッチ
ング除去して前記磁気ギャップ層2、下部磁極層4の端
部及び非磁性絶縁層3が露出した媒体対向面11を有する
ヘッド構成体12をセラミック等からなるスライダ13に接
着剤等により固着すると共に、前記端子引き出し層9の
端部と該スライダ13に予め設けてなる外部接続用端子14
とを導電部材15等で接続した小型軽量な構成としてい
る。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで上記した磁気ギャップ層2は、第3図(a)
に示すようにSi基板1上に下地用のカーボン膜2aを被着
形成し、その表面にギャップ層形成用のレジストマスク
パターン21を形成した後、該レジストマスクパターン21
を介してカーボン膜2aを例えばイオンミリング法により
選択的にパターニングし、更にパターニングされたカー
ボン膜2a上のレジストマスクパターン21をハードキュア
して、第3図(b)に示すようにカーボン膜2aと硬化レ
ジスト膜2bとが積層された構成からなり、前記Si基板1
に対するカーボン膜2aの密着力が弱く、該Si基板1上に
幅が0.3〜0.5μm、高さが数μmの恰も薄板が植立した
ような状態に設けられているため、該Si基板1との密着
性に欠ける問題がある。
従って、かかる磁気ギャップ層2が形成されたSi基板
1上に前記非磁性絶縁層3及び下部磁極層4を被着形成
する工程中において、該磁気ギャップ層2が剥がれ易
く、製造歩留りが著しく低下するという欠点があった。
本発明は上記した従来の欠点に鑑み、Si基板上に磁気
ギャップ層を密着性良く安定に形成することを可能に
し、製造歩留りを向上させた新規な水平構造型の薄膜磁
気ヘッドの製造方法を提供することを目的とするもので
ある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は上記した目的を達成するため、磁気ギャップ
形成用溝があらかじめ形成された基板上に、該溝を挟む
両側の基板面の内の一方の基板面より溝の底面に延びる
第一下部磁極層を被着し、その第一下部磁極層上を含む
基板上に非磁性の磁気ギャップ層を被着形成する工程
と、溝を挟んで一方の基板面に対向する他方の基板面に
形成された前記磁気ギャップ層の表面より溝内にある一
部の磁気ギャップ層上に延びる第二下部磁極層を被着形
成した後、それら第一、第二下部磁極層上に第一層間絶
縁層、薄膜コイル、第二層間絶縁層及び上部磁気ヨーク
層を順に積層形成する工程と、該薄膜コイルの端部に端
子引き出し層と、該薄膜コイル及び上部磁気ヨーク層上
に絶縁保護膜を形成した後、前記基板の磁極層等が形成
されていない反対側の面をラッピング加工して前記第
一、第二下部磁極層及び磁気ギャップ層を露出させて媒
体対向面を形成する工程を含み構成する。
〔作 用〕
本発明では溝を挟む両側の基板面の内の一方の基板面
より溝の底面に対して第一下部磁極層を被着し、その第
一下部磁極層上を含む基板上に非磁性の磁気ギャップ層
を被着形成した後、該溝を挟む他方の基板面に形成され
た磁気ギャップ層上より溝内の磁気ギャップ層部分上に
第二下部磁極層を被着形成することにより、該磁気ギャ
ップ層は第一下部磁極層上の大きな表面に密着されるこ
とで、その密着性が向上し安定に配設されるため、その
後、該磁気ギャップ層上に第二下部磁極層及び第一層間
絶縁層等を形成する工程、或いは第一、第二下部磁極層
及び非磁性層が露出する媒体対向面を形成するラッピン
グ加工工程等において該磁気ギャップ層が剥がれる恐れ
がなくなる。この結果、当該薄膜磁気ヘッドの製造歩留
りが向上する。
〔実施例〕
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明
する。
第1図(a)及び(b)は本発明に係る水平構造型の
薄膜磁気ヘッドの製造方法の一実施例を工程順に示す要
部断面図である。
第1図(a)に示すように予めギャップ形成用溝32が
形成された例えば耐摩耗性の良いAl2O3・TiCからなる非
磁性基板31の該溝32を挟む両側の基板面の内の一方の基
板面より溝32の底面に対して、Ni−Feからなる第一下部
磁極層33をマスクめっき法等により被着形成し、その第
一下部磁極層33上を含む非磁性基板31上にスパッタリン
グ法、或いは蒸着法等によりAl2O3、またはSiO2からな
る非磁性の磁気ギャップ層34を被着形成する。
次に該溝32を挟む他方の基板面に形成された磁気ギャ
ップ層34上より溝内の磁気ギャップ層34部分上にNi−Fe
からなる第二下部磁極層35を被着形成した後、その第
一、第二下部磁極層33,35上に従来と同様に熱硬化性樹
脂材等からなる第一層間絶縁層36、薄膜コイル37、第二
層間絶縁層38及びNi−Feからなる上部磁気ヨーク層39を
順に積層形成する。
次に前記薄膜コイル37の端部上に端子引き出し層40を
形成し、その薄膜コイル37及び上部磁気ヨーク層39上に
スパッタリング法等によりAl2O3からなる絶縁保護膜41
を形成し、その表面を該端子引き出し層40の端部が露出
する平坦面にした後、引き続き前記基板31をA−A′一
点鎖線で示す位置までラッピング加工を行って、第一、
第二下部磁極層33,35及び磁気ギャップ層34が露出した
媒体対向面42を形成する。
次に第1図(b)に示すように前記第一、第二下部磁
極層33,35及び磁気ギャップ層34が露出した媒体対向面4
2を有するヘッド構成体43をセラミック等からなるスラ
イダ44に接着剤等により固着すると共に、前記端子引き
出し層40の端部と該スライダ44に予め設けてなる外部接
続用端子45とを導電部材46で接続することにより、小型
軽量で磁気ギャップ層34が密着性良く配設された水平構
造型の薄膜磁気ヘッドを再現性良く容易に得ることがで
きる。
なお、以上の実施例では非磁性の基板を用いた場合の
例について説明したが、この例に限定されるものではな
く、例えばNi−Znフェライト,或いはMn−Znフェライト
等の磁性基板を用いるようにしてもよい。この場合には
第一、第二下部磁極層の厚さが磁性基板の厚さ分の加算
により実際的に厚くなり、これら磁極層のコンター効果
によって従来より再生出力波形に発生するネガティブエ
ッジノイズが低減され、再生特性が向上する効果があ
る。
〔発明の効果〕
以上の説明から明らかなように、本発明に係る薄膜磁
気ヘッドの製造方法によれば、磁気ギャップ層が密着性
良く安定に配設することが可能となり、製造歩留りが向
上し、水平構造型の薄膜磁気ヘッドを再現性良く容易に
得ることができる優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)及び(b)は本発明に係る水平構造型の薄
膜磁気ヘッドの製造方法の一実施例を工程順に示す要部
断面図、 第2図(a)及び(b)は従来の水平構造型の薄膜磁気
ヘッドの製造方法を工程順に説明するための要部断面
図、 第3図は(a)及び(b)は従来の磁気ギャップ層の形
成工程と問題点を説明するための要部断面図である。 第1図(a),(b)において、 31は非磁性基板、32は溝、33は第一下部磁極層、34は磁
気ギャップ層、35は第二下部磁極層、36は第一層間絶縁
層、37は薄膜コイル、38は第二層間絶縁層、39は上部磁
気ヨーク層、40は端子引き出し層、41は絶縁保護膜、42
は媒体対向面、43はヘッド構成体、44はスライダ、45は
外部接続用端子、46は導電部材をそれぞれ示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 久米 富美夫 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 越川 誉生 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−121508(JP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】磁気ギャップ形成用溝(32)があらかじめ
    形成された基板(31)上に、該溝(32)を挟む両側の基
    板面の内の一方の基板面より溝(32)の底面に延びる第
    一下部磁極層(33)を被着し、その第一下部磁極層(3
    3)上を含む基板(31)上に非磁性の磁気ギャップ層(3
    4)を被着形成する工程と、 溝(32)を挟んで一方の基板面に対向する他方の基板面
    に形成された前記磁気ギャップ層(34)の表面より溝内
    にある一部の磁気ギャップ層(34)上に延びる第二下部
    磁極層(35)を被着形成した後、それら第一、第二下部
    磁極層(33,35)上に第一層間絶縁層(36)、薄膜コイ
    ル(37)、第二層間絶縁層(38)及び上部磁気ヨーク層
    (39)を順に積層形成する工程と、 該薄膜コイル(37)の端部に端子引き出し層(40)と、
    該薄膜コイル(37)及び上部磁気ヨーク層(39)上に絶
    縁保護膜(41)を形成した後、前記基板(31)の磁極層
    等が形成されていない反対側の面をラッピング加工して
    前記第一、第二下部磁極層(33,35)及び磁気ギャップ
    層(34)を露出させて媒体対向面(42)を形成する工程
    を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
JP1267614A 1989-10-12 1989-10-12 薄膜磁気ヘッドの製造方法 Expired - Lifetime JP2707758B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1267614A JP2707758B2 (ja) 1989-10-12 1989-10-12 薄膜磁気ヘッドの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1267614A JP2707758B2 (ja) 1989-10-12 1989-10-12 薄膜磁気ヘッドの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03127308A JPH03127308A (ja) 1991-05-30
JP2707758B2 true JP2707758B2 (ja) 1998-02-04

Family

ID=17447154

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1267614A Expired - Lifetime JP2707758B2 (ja) 1989-10-12 1989-10-12 薄膜磁気ヘッドの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2707758B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970076507A (ko) * 1996-05-25 1997-12-12 김광호 자기헤드 및 그의 제조방법
JP3611953B2 (ja) * 1997-09-05 2005-01-19 富士通株式会社 プレーナ型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
US6008969A (en) * 1997-12-18 1999-12-28 Read-Rite Corporation Planar recording head having formed yokes

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03127308A (ja) 1991-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0013363B1 (en) Method of making read/write transducer heads and heads so made
JPH0514322B2 (ja)
JP2000105906A (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPH11353615A (ja) 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
JP3394266B2 (ja) 磁気書込/読取ヘッドの製造方法
JP2707758B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP2707760B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP3222081B2 (ja) 磁気記録再生ヘッド及びその製造方法
JPS62204420A (ja) 薄膜磁気ヘツドの製造方法
JP2529194B2 (ja) 薄膜磁気ヘツド
JPS62204419A (ja) 薄膜磁気ヘツドの製造方法
JPS6124007A (ja) 薄膜磁気ヘツド
JPS62110612A (ja) 薄膜磁気ヘツド
JP2664380B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPS61144715A (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPH03235210A (ja) 垂直磁気薄膜ヘッドの製造方法
JPH03147507A (ja) 垂直磁気薄膜ヘッドとその製造方法
JPS6111914A (ja) 薄膜磁気ヘツドの製造方法
JPH0498607A (ja) 薄膜磁気ヘッド
JPH05159237A (ja) 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
JPH0814886B2 (ja) 薄膜磁気ヘツドの製造方法
JPS588051B2 (ja) 磁気抵抗効果型ヘッド
JPH0243244B2 (ja)
JPS60256905A (ja) 薄膜磁気ヘツド
JPH0580046B2 (ja)