JPS61240452A - ガラス成形型製作方法 - Google Patents

ガラス成形型製作方法

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JPS61240452A
JPS61240452A JP61086946A JP8694686A JPS61240452A JP S61240452 A JPS61240452 A JP S61240452A JP 61086946 A JP61086946 A JP 61086946A JP 8694686 A JP8694686 A JP 8694686A JP S61240452 A JPS61240452 A JP S61240452A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
metal
coating
photoresist
making
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61086946A
Other languages
English (en)
Inventor
ロバート・バージル・フィスター
ジェームス・ロニー・プレッジャー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
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Filing date
Publication date
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Publication of JPS61240452A publication Critical patent/JPS61240452A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/143—Electron beam

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 工業的利用分野 本発明は一般的には描画面をもつモールドのようなガラ
ス成形型の製作方法に関するものである。
従来技術 描画面をもつ成形型をつくる既知の方法は第２ａから第
２ｇ図に示されている。研磨ガラス素材２２゜第２ａ図
、をフォトレジスト２４．第２ｂ図、の層で以て被覆す
る。潜像は、光学系２６（第２Ｃ図）によって焦点を結
ば°せた変調レーザー光によってフォトレジスト上に書
かれ、現像されたフォトレジスト層中の空隙のパターン
の形態で記録されるようにする（第２ｄ図）。離型剤層
を塗布したのち、薄いニッケル層２８をガラス素地板の
ノくターン付与面上で電気化学的に沈着させ、次に取出
していたみやすいマスターの一枚の金属のネガコピーを
形成させる。このコピーは「ファーザー」と画業におい
てよばれ、工程中に破壊される。
本発明が解決すべき問題 ファーザーの電気化学的コピー化は限られた数（６個程
度）の「マザー」コピー３０（第２ｆ図）を生成するに
すぎず、その後、そのファーザーはそれ以上の数のマザ
ーについては解像力が不満足である点にまで劣化してし
まう。これらのマザーはマスターのポジ型コピーであシ
、それ自体は限られた回数だけコピーされて、第２ｇ図
に示すとおシネガ型の「サン（Ｓｏｎ）Ｊコピーを生成
する。
これらのサンは描画面をもつ成形型として使用される。
この「ファミリー」法は多くの製造用成形型を単一のマ
スターモールドからつくることができるので必要である
。しかし、このファミリーの各世代、および同世代の各
後継員は解像力の劣化が増大する悩みがある。
問題の解決手段 本発明は描画面をもつガラス成形型の製作方法に関する
ものでオシ、以下において図面を参照して詳細に述べる
。第１ａから１ｈ図を参照すると、この方法はガラス素
材板３６の研磨面３８を連続金属被膜４０で以て被覆す
る工程を必要とする。フォトレジスト４２を塗布し、所
望パターンで露光および現像する。被覆されていない金
属４０をエツチングによって取シ去シ、残留する金属が
マスクを提供する。被覆されていないガラス３６にプラ
ズマエツチングを施こし、ガラス素材板の面に描画を付
与する。
本発明の操作 と＼で記述する製造方法は研磨した平坦なガラス板から
透明のガラス成形型をつくる方法を提供する。第１ａか
ら１ｈ図はこの成形型の好ましい製造方法を模型的に示
している。第１ａ図は光透過性質、内部空隙の有無、お
よび研磨性について選択されたガラス素材板３６を描い
ている。素材板３６の片面は好ましい、欠陥が約１ＯＡ
から１５ＡＲＭｓよシ大きくなく引掻き傷の幅が１マイ
クロインチより小さい仕上げ度まで研磨しである。
第１ｂ図を参照すると、金属の薄層４０（好ましくはク
ロム）を研磨面３８上に沈着させである。好ましくは、
クロム層は８００Ａから１０１００ＯＡＲの厚さであり
、標準的な真空めっき技法によって沈着させてよい。そ
の他の被覆方法も尚業熟練者にとっては容易に行なわれ
る。ポジ型フォトレジスト層Ｃ１例えばイーストマン・
コダック・カンパニのレジストＫＰＲ−８２０，をスピ
ン塗装によるような方法でクロム層へ塗布する。フォト
レジストを乾燥し通常の塗布技法に従って後焼付けを行
なう。第２ｃ図に示すとおシ、焦点を結ばせた光、例え
ばレーザー光によって潜像をフォトレジスト層中に形成
させる。この潜像はガラス素材板３６の中へエツチング
によって刻まれるノモターンを含む。
画業においてよく知られている各種の化学薬剤を使って
第１ｄ図に示すとおりにレジス）４２を現像できる。レ
ジストを現像したのち、レジストによって保護されてい
ないクロム層４００部分をガラス素材板３６ｔでエツチ
ングによって取去る（第１ｅ図）。第１ｆ図は非露光フ
ォトレジストを適当々溶剤によって除去したあとのガラ
スとクロム・パターンとを示している。
クロム・パターンをもったガラス素材板を真空めっき装
置の中に置く。約１．２Ｘ１０　　トルでアルゴンガス
を使ってプラズマを確立させる。高周波電力を５００ワ
ツトおよび４００−５００ボルトでこのガスへ適用する
。クロムはプラズマエツチング・ガス用の犠牲マスクで
あシ、プラズマはガラスとこのクロムマスクとを侵蝕し
去る。パターンの深さはマスクの厚さ、電力、およびエ
ツチング持続時間によって調節される。１時間のエツチ
ング時間と８００　Ａ　ＲＭＳのクロムの厚さで以て約
１０１０００ＡＲの深さを達成することができる。クロ
ムが侵蝕される速度はガラスよ）約％から％おそい。第
１ｇはエツチングされたガラス素材板とクロム被膜を示
す。第１ｈ図は慣用の酸によってクロムを除去したあと
のガラスを示す。クロムを除去してしまったのちは、マ
スターは光学的に透明であシ柴外線を透過し得る。
本発明の効果 本発明に従ってつくられるガラス成形型は第３ａから３
ｃ図に示すとおシの光学的ディスクをつくるための成型
方法において用いることができる。
剛性の金属基板必を第１ａから１ｈ図に描いた方法に従
ってつくった描画ガラス成形型４６と並べかつ間隔をと
って置く。基板４４と成形型４６との間の間隙には放射
線硬化できる液状の成型用樹脂４８を満たす。
第３ｂ図に示すとおシ、透明の成形型４６を通して柴外
線によって樹脂を重合させる。光源は約３３０ｎｍから
４５０ｎｍの波長をもつ水銀蒸気ランプ拐であってよい
。描画されている場合、得られる下層は０．０５マイク
ロインチ程度の解像力をもち、収縮は２％よシ小さい。
重合した樹脂は基板へ接着するがガラス成形型へは接着
せず、このガラス成形型は第３Ｃ図に示すとおシ樹脂か
ら離される。
樹脂の描画面には金属ミラーあるいは記録層園（第３ｄ
図）および保獲用透明層５２（第３ｅ図）のような各種
の層で以て被覆することができる。
【図面の簡単な説明】
第１ａから１ｈ図は本発明による成形型の製造方法を示
す一連の断片断面図である。第２ａから２ｇ図はモール
ド製造従来法を示す一連の断片断面図である。第３ａか
ら３６図は本発明によってつくられる成形型を使用する
製造方法を示す一連の断片断面図である。 ３６・・・ガラス素材板　３８・・・ガラス素材板の研
磨面、４０・・・金属被膜　　　招・・・フォトレジス
ト物質（外５名）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）描画面をもつガラス成形型製作方法であつて、ガラ
    ス素材板（３６）の研磨面（３８）を連続金属被膜（４
    ０）で以て被覆し；この金属被膜へフォトレジスト層（
    ４２）を塗布し；フォトレジストを所望パターンの潜像
    で露出し；潜像を現像して被覆されていない金属被膜の
    部分（４０）を残し；非被覆金属被膜（４０）をエッチ
    ングによつて取除いてガラス素材板（３６）上に金属パ
    ターンを残し；被覆されていないガラスの中へ、金属パ
    ターンでその下のガラスを保護しながらプラズマエッチ
    ングを施す； 各工程から成る方法。 ２）金属被膜（４０）がクロムである、特許請求の範囲
    第１項に記載の方法。 ３）金属が真空めつきされ、厚さが約８００Åから１０
    ００Åである、特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ４）プラズマエッチング工程がアルゴンガスで以てなさ
    れる、特許請求の範囲第１項に記載の方法。
JP61086946A 1985-04-15 1986-04-15 ガラス成形型製作方法 Pending JPS61240452A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US723411 1985-04-15
US06/723,411 US4632898A (en) 1985-04-15 1985-04-15 Process for fabricating glass tooling

Publications (1)

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JPS61240452A true JPS61240452A (ja) 1986-10-25

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JP61086946A Pending JPS61240452A (ja) 1985-04-15 1986-04-15 ガラス成形型製作方法

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EP (1) EP0215944A1 (ja)
JP (1) JPS61240452A (ja)
WO (1) WO1986006203A1 (ja)

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