JPS583298B2 - ジヨウホウキロクバイタイゲンバン ノ セイゾウホウホウ - Google Patents
ジヨウホウキロクバイタイゲンバン ノ セイゾウホウホウInfo
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- JPS583298B2 JPS583298B2 JP50147718A JP14771875A JPS583298B2 JP S583298 B2 JPS583298 B2 JP S583298B2 JP 50147718 A JP50147718 A JP 50147718A JP 14771875 A JP14771875 A JP 14771875A JP S583298 B2 JPS583298 B2 JP S583298B2
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- Japan
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- guide groove
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は情報記録媒体原盤の製造方法に係り、特に情報
信号が記録される案内溝をレーザビームによる走査於び
エッチング加工等により一様に形成してなる情報記録媒
体原盤の製造方法を提供することを目的とする。
信号が記録される案内溝をレーザビームによる走査於び
エッチング加工等により一様に形成してなる情報記録媒
体原盤の製造方法を提供することを目的とする。
現在、ビデオディスク再生方式は三種類に大別され、そ
のうちの一つの容量型再生方式は記録媒体の螺旋状案内
溝を針により相対的に走査させるものである。
のうちの一つの容量型再生方式は記録媒体の螺旋状案内
溝を針により相対的に走査させるものである。
この再生方式においては、針の溝に沿う走査が円滑に行
なわれることが、再生を安定に行なう上で重要である。
なわれることが、再生を安定に行なう上で重要である。
このため、記録媒体の原盤については、案内溝が一定の
形状の円滑な面により形成されることが必然的に要求さ
れる。
形状の円滑な面により形成されることが必然的に要求さ
れる。
現在、螺旋状案内溝に情報信号を凹凸の幾何学的変化と
して記録してなり容量型再生方式に適用される記録媒体
(ビデオディスク)の原盤を製造する方法としては次の
二種類に大別される。
して記録してなり容量型再生方式に適用される記録媒体
(ビデオディスク)の原盤を製造する方法としては次の
二種類に大別される。
第1の製造方法は、まず第1図Aに示すように記録原盤
1をカッター針2により機械的に切削して、その表面に
断面台形状の溝3を螺旋状に形成し、次に同図Bに示す
ように切削済原盤1aの表面に電子ビーム感応材による
被膜4を形成して円滑な曲面の案内溝5を作成し、次い
で同図Cに示すように案内溝5に情報信号をビームによ
り凹部6として記録する。
1をカッター針2により機械的に切削して、その表面に
断面台形状の溝3を螺旋状に形成し、次に同図Bに示す
ように切削済原盤1aの表面に電子ビーム感応材による
被膜4を形成して円滑な曲面の案内溝5を作成し、次い
で同図Cに示すように案内溝5に情報信号をビームによ
り凹部6として記録する。
この製造方法においては、溝3の切削に際して原盤1を
低速で回転させるため、能率が悪く、溝切削用の専用機
械が必要となり、更にはカッター針2が短寿命である等
の欠点があった。
低速で回転させるため、能率が悪く、溝切削用の専用機
械が必要となり、更にはカッター針2が短寿命である等
の欠点があった。
また記録原盤1に対する溝切削時、カッター針2の高さ
位置は一定であるため、記録原盤1が面振れを伴って回
転すると、切削形成される溝の形状が変化し且つ溝ピッ
チが不均一となり、これによる影響が感応材を塗布して
得た案内溝5に現われ、複製された記録媒体よりの信号
の再生が不安定となる欠点があった。
位置は一定であるため、記録原盤1が面振れを伴って回
転すると、切削形成される溝の形状が変化し且つ溝ピッ
チが不均一となり、これによる影響が感応材を塗布して
得た案内溝5に現われ、複製された記録媒体よりの信号
の再生が不安定となる欠点があった。
また第2の製造方法は、所謂ダブルビームを原盤の平坦
な感応材面上を走査させ、案内溝と情報信号に応じた凹
凸を同時に感応材面上に露光記録する方法である。
な感応材面上を走査させ、案内溝と情報信号に応じた凹
凸を同時に感応材面上に露光記録する方法である。
この製造方法によれば、原盤を能率よく製造し得るが、
ダブルビームの相互の影響により溝形状が安定せず、複
製された記録媒体の再生が不安定となる欠点があった。
ダブルビームの相互の影響により溝形状が安定せず、複
製された記録媒体の再生が不安定となる欠点があった。
本発明は上記諸欠点を除去したものであり、以下図面と
共にその1実施例について説明する。
共にその1実施例について説明する。
第2図乃至第5図は夫々本発明になる情報記録媒体原盤
の製造方法の1実施例になる原盤の上面に断面矩形状の
螺旋状溝を形成するまでの各工程の状態を示し、第6図
は情報信号を記録するに適する円滑なフォトレジスト案
内溝を形成した状態、第7図は第6図に示すフォトレジ
スト案内溝に情報信号を記録した状態を示す。
の製造方法の1実施例になる原盤の上面に断面矩形状の
螺旋状溝を形成するまでの各工程の状態を示し、第6図
は情報信号を記録するに適する円滑なフォトレジスト案
内溝を形成した状態、第7図は第6図に示すフォトレジ
スト案内溝に情報信号を記録した状態を示す。
まず、第2図に示す円盤状の記録原盤10を形成する。
この記録原盤10は円盤状ガラス基体11の上面にクロ
ム薄膜12を蒸着又はスパッタリングにより附着形成し
、更にその上面にポジティブ型フオトレジストをスピン
コーティング等により塗布・乾燥してなるフォトレジス
ト膜13を形成してなる。
ム薄膜12を蒸着又はスパッタリングにより附着形成し
、更にその上面にポジティブ型フオトレジストをスピン
コーティング等により塗布・乾燥してなるフォトレジス
ト膜13を形成してなる。
なお、クロム薄膜12の厚さt1は後述する形成すべき
溝の深さ寸法(0.2〜0.3μ)に相当する寸法とし
てあり、フォトレジスト膜13、の厚さt2は0.5〜
0.6μ程度としてある。
溝の深さ寸法(0.2〜0.3μ)に相当する寸法とし
てあり、フォトレジスト膜13、の厚さt2は0.5〜
0.6μ程度としてある。
なお、フォトレジスト膜11を形成するに際してその厚
さを薄くするとピンホール等の欠陥が発生し易く、逆に
厚すぎると、露光に犬なる強度のビームを要し、形成し
た溝幅が不均一となる不都合が起こる。
さを薄くするとピンホール等の欠陥が発生し易く、逆に
厚すぎると、露光に犬なる強度のビームを要し、形成し
た溝幅が不均一となる不都合が起こる。
次に上記記録原盤10をターンテーブル(図示せず)上
に固定して、これを略一定速度で回転させ、この表面を
フォーカスサーボ制御され適当に集光したビームで照射
する。
に固定して、これを略一定速度で回転させ、この表面を
フォーカスサーボ制御され適当に集光したビームで照射
する。
このとき、ターンテーブルの回転に応じて、ビーム又は
ターンテーブルを円形記録原盤10の半径方向に一定速
度で移動させ、このビームを円形記録原盤10の表面上
所定のピッチで螺旋状に走査させる。
ターンテーブルを円形記録原盤10の半径方向に一定速
度で移動させ、このビームを円形記録原盤10の表面上
所定のピッチで螺旋状に走査させる。
なお、ビームの強度はフォトレジスト膜13をその厚さ
全体を現像溶解するに充分な強度としてある。
全体を現像溶解するに充分な強度としてある。
これにより、記録原盤10のフォトレジスト膜13はビ
ームにより走査された部分を完全に除去され、記録原盤
10は第3図に示すようにフォトレジスト膜13に螺旋
状溝部14を形成され、クロム薄膜12が螺旋状に露出
した記録原盤10aとなる。
ームにより走査された部分を完全に除去され、記録原盤
10は第3図に示すようにフォトレジスト膜13に螺旋
状溝部14を形成され、クロム薄膜12が螺旋状に露出
した記録原盤10aとなる。
ここで、記録原盤10のフォトレジスト膜13はフォー
カスサーボ制御されるビームにより走査されて溶解され
るため、記録原盤10が面振れを伴って回転している場
合においても、上記螺旋状溝部14のピッチは一定とな
る。
カスサーボ制御されるビームにより走査されて溶解され
るため、記録原盤10が面振れを伴って回転している場
合においても、上記螺旋状溝部14のピッチは一定とな
る。
なお、フォトレジスト膜13としてネガ型フォトレジス
ト膜を使用した場合には、ビームを上記の走査部とは異
なる部分を走査させることにより、非露光部のフォトレ
ジスト膜を溶解除去して第3図に示すと同様な記録原盤
を得る。
ト膜を使用した場合には、ビームを上記の走査部とは異
なる部分を走査させることにより、非露光部のフォトレ
ジスト膜を溶解除去して第3図に示すと同様な記録原盤
を得る。
次にフォトレジスト膜13を乾燥させた後記録原盤10
aにエッチング加工を施し、露出しているクロム薄膜1
2を選択的に溶解させて、クロム薄膜12に深さ方向上
ガラス基体11に到る螺旋状溝部15を形成する。
aにエッチング加工を施し、露出しているクロム薄膜1
2を選択的に溶解させて、クロム薄膜12に深さ方向上
ガラス基体11に到る螺旋状溝部15を形成する。
これにより記録原盤10aは第4図に示す記録原盤10
bとなる。
bとなる。
なお、エッチングとしては湿式又は乾式のいずれの方式
でもよいが、特に大なるサイドエッチを形成する湿式エ
ッチングの場合には、フォトレジスト膜上へ照射するビ
ームの太さを上記サイドエッチ量を見込んで適宜設定す
る。
でもよいが、特に大なるサイドエッチを形成する湿式エ
ッチングの場合には、フォトレジスト膜上へ照射するビ
ームの太さを上記サイドエッチ量を見込んで適宜設定す
る。
次に記録原盤10b中残存しているフォトレジスト膜1
3をプラズマにより灰化させ、又は有機溶剤により溶解
させて除去し、第5図に示すようにガラス基体11上に
エッチング加工されたクロム薄膜12が残り、ガラス基
体11の上面が螺旋形状に露出した記録原盤10cを得
る。
3をプラズマにより灰化させ、又は有機溶剤により溶解
させて除去し、第5図に示すようにガラス基体11上に
エッチング加工されたクロム薄膜12が残り、ガラス基
体11の上面が螺旋形状に露出した記録原盤10cを得
る。
この記録原盤10cにおける螺旋状溝部16は、その深
さdをクロム薄膜12の膜厚寸法t1と同一寸法とされ
、その幅Wを前記ビームの幅寸法と略同一寸法とされて
おり、且つその底部はガラス基体11の一部表面とされ
て完全な平面となっている。
さdをクロム薄膜12の膜厚寸法t1と同一寸法とされ
、その幅Wを前記ビームの幅寸法と略同一寸法とされて
おり、且つその底部はガラス基体11の一部表面とされ
て完全な平面となっている。
次いで、第5図に示す記録原盤10cをスピンコーティ
ング装置に取付けてこれを高速で回転させ、この上面に
所定の粘度を有する流動性フォトレジストを供給し、こ
れを乾燥させる。
ング装置に取付けてこれを高速で回転させ、この上面に
所定の粘度を有する流動性フォトレジストを供給し、こ
れを乾燥させる。
これにより、記録原盤10cの上面には、多数の螺旋状
溝部16及び残存しているクロム薄膜部を共に覆い、ク
ロム薄膜部に対応する部分を山部とされ、ガラス基体露
出部に対応する部分を谷部とされたフォトレジスト被膜
17による螺旋状案内溝18が形成され、第6図に示す
記録原盤10dが得られる。
溝部16及び残存しているクロム薄膜部を共に覆い、ク
ロム薄膜部に対応する部分を山部とされ、ガラス基体露
出部に対応する部分を谷部とされたフォトレジスト被膜
17による螺旋状案内溝18が形成され、第6図に示す
記録原盤10dが得られる。
この螺旋状案内溝18は記録原盤の半径方向上なだらか
な所定曲面により規定されて連続した滑らかな面とされ
る。
な所定曲面により規定されて連続した滑らかな面とされ
る。
また、上記フォトレジスト被膜17の厚さは記録原盤1
0cの各対応する部分について一様となるため、案内溝
18の形状は各位置において一定となる。
0cの各対応する部分について一様となるため、案内溝
18の形状は各位置において一定となる。
ここで、前記記録原盤10cの溝部16中特に深さdは
クロム薄膜12の厚さt1により規定され一定とされる
ため、フォトレジスト被膜17により形成される案内溝
18は特に深さ方向寸法に関して一定に保持される。
クロム薄膜12の厚さt1により規定され一定とされる
ため、フォトレジスト被膜17により形成される案内溝
18は特に深さ方向寸法に関して一定に保持される。
次に上記記録原盤10dをビーム記録機のターンテーブ
ル(共に図示せず)に固定して回転させ、記録すべき情
報信号に応じて強度変調された単一のビームをトラッキ
ングサーボ及びフォーカスサーボにより制御しつゝ、フ
ォトレジスト被膜よりなる螺旋状案内溝18の底部に照
射して、溝18に沿って相対的に走査させる。
ル(共に図示せず)に固定して回転させ、記録すべき情
報信号に応じて強度変調された単一のビームをトラッキ
ングサーボ及びフォーカスサーボにより制御しつゝ、フ
ォトレジスト被膜よりなる螺旋状案内溝18の底部に照
射して、溝18に沿って相対的に走査させる。
これにより、螺旋状案内溝18の選択的に露光現像され
た部分を凹部19とされ、案内溝18上に情報信号を凹
凸形状の幾何学的変化として記録された第7図に示す記
録原盤10eが得られる。
た部分を凹部19とされ、案内溝18上に情報信号を凹
凸形状の幾何学的変化として記録された第7図に示す記
録原盤10eが得られる。
ここで、上記ビームのスポットを案内溝18の幅方向を
長軸とした楕円形状とすることにより、特に高域周波数
の信号が効果的に記録される。
長軸とした楕円形状とすることにより、特に高域周波数
の信号が効果的に記録される。
なお、この情報信号記録時、フォトレジスト被膜よりな
る案内溝18はビームの照射により影響されることなく
そのまゝの形状に保持される。
る案内溝18はビームの照射により影響されることなく
そのまゝの形状に保持される。
これにより、情報信号に応じた凹部19は溝形状が一定
とされた螺旋状案内溝18に記録され、これを原盤とし
て複製された記録媒体は第7図に示す記録原盤10eと
同様に一定した形状の溝内に情報信号が記録されたもの
となる。
とされた螺旋状案内溝18に記録され、これを原盤とし
て複製された記録媒体は第7図に示す記録原盤10eと
同様に一定した形状の溝内に情報信号が記録されたもの
となる。
従って、記録媒体の再生時、再生針は特に針飛びを効果
的に制限されて案内溝を安定に案内され、再生が安定に
行なわれる。
的に制限されて案内溝を安定に案内され、再生が安定に
行なわれる。
また、第7図に示す記録原盤10eよりフォトレジスト
膜17を除去することにより、第5図に示す記録原盤1
0cが得られ、この記録原盤10cを再度使用して別の
情報信号を記録した原盤を作成できる。
膜17を除去することにより、第5図に示す記録原盤1
0cが得られ、この記録原盤10cを再度使用して別の
情報信号を記録した原盤を作成できる。
従って、第7図に示す記録原盤10eを多数枚製造する
に際して第2図乃至第4図に示す工程は必ずしも必要と
はならない。
に際して第2図乃至第4図に示す工程は必ずしも必要と
はならない。
なお、記録原盤10cはガラス基体11上に高硬度のク
ロム薄膜12が選択的に蒸着してある構成であり、相当
乱暴に洗浄した場合においても何ら破損することはなく
、充分に再使用に耐えうるものである。
ロム薄膜12が選択的に蒸着してある構成であり、相当
乱暴に洗浄した場合においても何ら破損することはなく
、充分に再使用に耐えうるものである。
上述の如く、本発明になる情報記録媒体原盤の製造方法
によれば、案内溝の基準となる螺旋状溝をビームによる
走査により得るため、記録原盤の面振れの有無に関係な
く案内溝をピッチを一定として且つ効率よく形成出来、
また、該案内溝はエッチング加工された記録原盤上に塗
布されたビーム感応材の被膜により形成されるため、該
案内溝を特に深さが管理され谷部、山部、傾斜部を連続
した円滑な面とされた同一形状とし得、また情報信号の
記録工程においてはこの信号により強度変調した単一の
ビームを使用しているため、情報信号を案内溝の形状を
変化させずに溝内に記録することが出来、従ってこの原
盤より複製された記録媒体を特に針飛びを効果的に防止
した状態で安定に再生することが出来る等の特長を有す
る。
によれば、案内溝の基準となる螺旋状溝をビームによる
走査により得るため、記録原盤の面振れの有無に関係な
く案内溝をピッチを一定として且つ効率よく形成出来、
また、該案内溝はエッチング加工された記録原盤上に塗
布されたビーム感応材の被膜により形成されるため、該
案内溝を特に深さが管理され谷部、山部、傾斜部を連続
した円滑な面とされた同一形状とし得、また情報信号の
記録工程においてはこの信号により強度変調した単一の
ビームを使用しているため、情報信号を案内溝の形状を
変化させずに溝内に記録することが出来、従ってこの原
盤より複製された記録媒体を特に針飛びを効果的に防止
した状態で安定に再生することが出来る等の特長を有す
る。
第1図A乃至Cは夫々従来の記録媒体原盤の製造方法の
1例の各工程における状態を示す図、第2図乃至第5図
は夫々本発明になる情報記録媒体原盤の製造方法の1実
施例の記録原盤の上面に矩形状溝を形成するまでの各工
程を示す図、第6図は第5図に示す記録原盤にフォトレ
ジスト被膜による案内溝を形成した状態を示す図、第7
図は第6図に示す記録原盤中案内溝に情報信号を記録し
た状態を示す図である。 10,10a〜10e・・・・・・記録原盤、11・・
・・・・カラス基体、12・・・・・・クロム薄膜、1
3・・・・・・フォトレジスト膜、14,15,16・
・・・・・螺旋状溝部、17・・・・・・フォトレジス
ト被膜、18・・・・・・螺旋状案内溝、19・・・・
・・凹部。
1例の各工程における状態を示す図、第2図乃至第5図
は夫々本発明になる情報記録媒体原盤の製造方法の1実
施例の記録原盤の上面に矩形状溝を形成するまでの各工
程を示す図、第6図は第5図に示す記録原盤にフォトレ
ジスト被膜による案内溝を形成した状態を示す図、第7
図は第6図に示す記録原盤中案内溝に情報信号を記録し
た状態を示す図である。 10,10a〜10e・・・・・・記録原盤、11・・
・・・・カラス基体、12・・・・・・クロム薄膜、1
3・・・・・・フォトレジスト膜、14,15,16・
・・・・・螺旋状溝部、17・・・・・・フォトレジス
ト被膜、18・・・・・・螺旋状案内溝、19・・・・
・・凹部。
Claims (1)
- 1 円盤状基体の上面に金属又はその酸化物の薄膜を形
成し更にその上面にビーム感応材の薄膜を形成してなる
原盤をビームにより走査し、該ビーム感応材薄膜を螺旋
状に除去する工程と、該ビーム感応材薄膜が除去された
部分の該金属又は酸化物薄膜を除去するエッチング工程
と、該原盤上に残存する該感応材薄膜を除去し該基体上
に該金属又は酸化物薄膜による螺旋状溝を形成する工程
と、該螺旋状溝を形成された該原盤上に所定粘度を有す
る流動性ビーム感応材の薄膜を形成しこの薄膜により該
螺旋状溝に対応する螺旋状案内溝を形成する工程と、該
螺旋状案内溝を記録すべき情報信号により強度変調され
たビームにより走査し該案内溝内に該情報信号を凹凸の
幾何学的変化として記録する工程とよりなることを特徴
とする情報記録媒体原盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50147718A JPS583298B2 (ja) | 1975-12-11 | 1975-12-11 | ジヨウホウキロクバイタイゲンバン ノ セイゾウホウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50147718A JPS583298B2 (ja) | 1975-12-11 | 1975-12-11 | ジヨウホウキロクバイタイゲンバン ノ セイゾウホウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5271202A JPS5271202A (en) | 1977-06-14 |
| JPS583298B2 true JPS583298B2 (ja) | 1983-01-20 |
Family
ID=15436612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50147718A Expired JPS583298B2 (ja) | 1975-12-11 | 1975-12-11 | ジヨウホウキロクバイタイゲンバン ノ セイゾウホウホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583298B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2490858B1 (fr) * | 1980-09-25 | 1986-04-04 | Rca Corp | Milieu d'enregistrement optique a sensibilite variable et disque contenant de l'information, realise a l'aide d'un tel milieu |
| JPS6168746A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-04-09 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 光学記憶デイスクを製造するためのモ−ルド・インサ−トを形成する方法 |
| JPH0770091B2 (ja) * | 1984-09-28 | 1995-07-31 | 共同印刷株式会社 | 光読み取りカ−ド及びその製造法 |
-
1975
- 1975-12-11 JP JP50147718A patent/JPS583298B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5271202A (en) | 1977-06-14 |
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