JPH0421940A - 光ディスク用マスタ原盤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はコンパクトディスクやレーザーディスクなどの
光ディスクあるいは光磁気ディスクなどを製造する際に
用いられる光ディスク用マスタ原盤（以下適宜、マスタ
原盤という）の製造方法に関するものである。

（従来の技術） マスタ原盤には微細な情報記録パターンが書き込まれて
おり、光ディスクあるいは光磁気ディスクは、このマス
タ原盤から情報記録パターンと逆のパターンを有する金
型を作製した後、この金型を用いてインジェクション法
や２Ｐ法などの手法により製造される情報記録パターン
を有するディスク基板を基に大量に製造される。一般に
マスタ原盤はガラス原盤から製造されているが、従来は
ガラス原盤を精密研磨、精密洗浄し、次いでガラス原盤
の表面処理を施した後、処理したガラス原盤の表面上に
フォトレジスト層を形成し、フォトレジスト層を所定の
情報記録パターンに基づいて露光し、現像する方法によ
り製造されている。ところで、近年マスタ原盤に書き込
まれる情報記録パターンはより微細化される傾向にあり
、用いるフォトレジストは高解像度のものが用いられて
きている。しかしながら、このようなフォトレジストは
感度が低く、このフォトレジストを従来のマスタ原盤の
製造方法において用いた場合、フォトレジスト層を露光
するために長時間あるいは高光量の露光を必要とし、こ
れによって必要とする露光部以外の部分も露光されてい
まい、所定の情報記録パターンのの書き込みの際にその
形状が崩れてしまうという問題がある。

（発明が解決しようとする課題） 本発明の目的は、短時間あるいは低い光量によってフォ
トレジスト層を露光し、所定の情報記録パターンを書き
込むことのできるマスタ原盤の製造方法を提供すること
にある。

（課題を解決するための手段） 本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討を行な
った結果、本発明を解決するに至った。

すなわち本発明は、ガラス原盤上に反射膜を設け、該反
射膜上にフォトレジスト層を形成した後、フォトレジス
ト層を露光し、現像することを特徴とする光ディスク用
マスタ原盤の製造方法である。

以下、本発明の方法の一例を第１図に示すフロー図に基
づき説明する。（ａ）はじめに用いるガラス原盤１は従
来の原盤の製造方法の際に行なわれる、精密研磨、精密
洗浄に供され、（ｂ）次いで、ガラス原盤の表面上に反
射膜２が設けられる。この反射膜２の祠料としてはアル
ミニウム、クロム、ニッケルなどの光反射性の金属拐料
などを挙げることができ、これら反射膜２は例えばスパ
ッタリング法や蒸着法などの薄膜形成技術により設ける
ことができる。（Ｃ）その後、反射膜２上にフォトレジ
スト層３を形成するが、これを形成する前に反射膜２上
をシランカップリング剤により処理することにより、反
射膜２とフォトレジスト層３の密着性が向上し、マスタ
原盤製造中にフォトレジスト層３の剥離が生じることが
なくなるので好ましい。なお、フォトレジスト層３はス
ピンコーティング法などにより形成することができる。

（ｄ）以上のようにガラス原盤上に反射膜２を設け、該
反射膜２上にフォトレジスト層３を形成した後、フォト
レジスト によりマスタ原盤が製造される。図中、４は露光された
フォトレジストを示し、５は露光の際にフォトレジスト
層３に照射する光を示す。なお、本発明において用いら
れるフォトレジストは特に限定されず、また用いるフォ
トレジストの感度などに基づいて（ｄ）において設けら
れる反射膜２の膜厚、（ｄ）における露光の際の時間や
光量などが適宜設定される。

本発明のマスタ原盤の製造方法は、反射膜２を設けた後
、該反射膜２上に形成したフォトレジスト層３の露光を
行なうところに特徴があるが、このことに露光の際にフ
ォトレジスト層３に照射する光５の他にも反射膜２から
の反射光もフォトレジスト層３の露光に関与する。従っ
て、本発明の方法によれば低光量の光によっても十分に
フォトレジスト層３の露光が可能となり、また低感度の
フォトレジスト層３を用いても、早く露光を完了するこ
とができるので、所定の情報記録パターンをその形状を
崩すことなくマスタ原盤に書き込むことができる。

（実施例） 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されない。

実施例１ 第１図のフローに示す方法によりマスタ原盤を製造した
。ガラス原盤１として、表面粗さがＲａ＝０、Ｏ０５ａ
，直径２００ｍｍ，厚み６．０００±０、００２ｍｍの
ガラス板を用いた。はじめにガラス原盤１上に反射膜２
を、スパッタリング法により膜厚０〜０．１μｍの範囲
で変化させて設けた。

このとき、反射膜２としては金属クロム膜、金属ニッケ
ル膜、銀膜を選択して用いた。その後、反射膜２の表面
を処理し、この表面上にフォトレジスト層３をスピンコ
ード法により、０．１４μｍの厚さで形成した。なお、
フォトレジストはレーザー用ポジ型フォトレジスト（商
品名ＴＳＭＲ−８９００　東京応化■製）を用いた。次
に、このフォトレジスト層３の露光をレーザーカッティ
ングマシンにて行なった。この露光はアルゴンレーサー
（波長４５７．９　ｎｍ）を用い、ガラス原盤１を１８
００　ｒｐｍで回転させながら、１．６μｍのピッチで
行なった。また、露光の際の光量はガラス原盤１の半径
２０ｍ＋ｎのところで４　ｍＷ、ガラス原盤１の半径８
０ｍｍのところで１５ｍＷとした。その後、フォトレジ
スト層３の現像を、アルカリ現像液（商品名ＮＭＤ　−
３東京応化■製）を用い、スピン現像法により行ない、
溝が書き込まれたマスタ原盤を製造した。

反射膜２の膜厚と得られたマスタ原盤に書き込まれた溝
の深さとの関係を第２図に示す。第２図から、マスタ原
盤の製造において反射膜２を設けた場合、マスタ原盤に
書き込まれる溝の深さが深くなり、短時間で十分にフ第
１・レジスト層を露光することができることがわかる。

特に本実施例においては反射膜２の膜厚が０，０５μｍ
以上設けた場合、マスタ原盤に書き込まれる溝の深さが
著しく深くなった。

実施例２ 反射膜２の膜厚を０．０５μｍとし、露光の際の光量を
ガラス原盤１の半径４０ｍｍのところで１〜４ｍＷと変
化させた以外は実施例１と同様の方法でマスタ原盤を製
造した。また、比較例として反射膜２を設けずにマスタ
原盤を製造した。

露光の際の光量と、得られたマスタ原盤に書き込まれた
溝の深さとの関係を第３図に示す。第３図から、マスタ
原盤の製造において反射膜２を設けた場合、マスタ原盤
に書き込まれる溝の深さが深くなり、低い光量で十分に
フォトレジスト層を露光することができることがわかる
。特に本実施例においては反射膜２を設けた場合、反射
膜２を設けなかった場合の約１／４の光量でマスタ原盤
に書き込まれる溝の深さはほぼ同様の深さとなった。

（発明の効果） 以上述べたとおり、本発明の方法によれば短時間で、低
光量にてフォトレジスト層を十分に露光してマスタ原盤
の製造を行なうことができる。従って、低感度のフォト
レジストを用いても、マスタ原盤に微細な情報記録パタ
ーンをその形状を崩すことなく書き込むことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光ディスク用原盤の製造方法の一例の
フローを示す図である。 第２図は実施例１において同一光量により露光したとき
の反射膜の膜厚と、得られたマスタ原盤に書き込まれた
溝の深さの関係を示した図である。 第３図は実施例２において露光の際の光量と、得られた
マスタ原盤に書き込まれた溝の深さとの関係を示した図
である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）ガラス原盤上に反射膜を設け、該反射膜上にフォ
   トレジスト層を形成した後、フォトレジスト層を露光し
   、現像することを特徴とする光ディスク用マスタ原盤の
   製造方法。