JPH08203132A

JPH08203132A - 光ディスク原盤の製造方法

Info

Publication number: JPH08203132A
Application number: JP1228895A
Authority: JP
Inventors: Shiyouzou Murata; 省蔵村田
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1995-01-30
Filing date: 1995-01-30
Publication date: 1996-08-09

Abstract

(57)【要約】【目的】第一のフォトレジスト層と中間層と第二のフ
ォトレジスト層とからなる光ディスク原盤の品質が良好
となる製造方法を得る。【構成】第一のフォトレジスト層４は通常のスピンナ
ー法により形成するが、中間層となる樹脂１２と第二の
フォトレジスト層となるフォトレジストとを塗布する場
合はターンテーブルを静止させ、これらの材料を静的に
広がらせて不良を防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板上に第一のフォト
レジスト層と中間層と第二のフォトレジスト層とを順番
に形成する光ディスク原盤の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、高密度の記録媒体としてレーザ光
により記録データを読み出す光ディスクが利用されてい
る。このような光ディスクとしては各種形態が存在する
が、案内溝となるプリグルーブと記録データとなるプリ
ピットとを異なる深さで形成した光ディスクがある。

【０００３】この場合、光ディスク原盤もプリピットと
プリグルーブとを異なる深さで形成する必要がある。こ
のような光ディスク原盤を製造する場合、ガラス基板の
表面に形成したフォトレジスト層に、プリグルーブとプ
リピットとの潜像を低強度と高強度とのレーザ光により
各々露光する。しかし、これではプリピットの深さはフ
ォトレジスト層の厚さとして正確に管理することができ
るが、プリグルーブの深さはレーザ光の強度やフォトレ
ジスト層の感度の誤差により変動する。

【０００４】このような課題を解決するため、ガラス基
板の表面に低感度のフォトレジスト層と高感度のフォト
レジスト層とを順番に積層し、上層のフォトレジスト層
の厚さによりプリグルーブの深さを管理することが提案
されている。しかし、この場合には溶媒が同一のフォト
レジスト層を二層に重複させて塗布することになるの
で、二層のフォトレジスト層が界面で混合して上層のフ
ォトレジスト層の厚さを正確に管理することが困難とな
る。

【０００５】そこで、特開平2-247842号公報などに開示
された光ディスク原盤の製造方法では、二層のフォトレ
ジスト層に中間層を介在させることにより、二層のフォ
トレジスト層の混合をも防止している。このような光デ
ィスク原盤の製造方法を一従来例として図５及び図６に
基づいて以下に説明する。

【０００６】まず、基板である円形のガラス基板１を研
磨してから洗浄し、このガラス基板１をスピナー装置の
ターンテーブル（図示せず）にセットする。このターン
テーブルによりガラス基板１を高速に回転させ、図６
（ａ）に示すように、スピナー装置のディスペンサ２に
よりフォトレジスト３を塗布する。これはスピンコート
法であり、図６（ｂ）に示すように、塗布されたフォト
レジスト３は遠心力によりガラス基板１の全面に広が
り、余分なフォトレジスト３はガラス基板１の外方に飛
散する。

【０００７】このようにしてフォトレジスト３が塗布さ
れたガラス基板１をコンベクションオーブン（図示せ
ず）によりベーキングし、図５（ａ）に示すように、ガ
ラス基板１の表面に第一のフォトレジスト層４を形成す
る。同様に、この第一のフォトレジスト層４の表面にス
ピンコート法により樹脂を塗布し、図５（ｂ）に示すよ
うに、これをベーキングして中間層５を形成する。この
中間層５の表面にフォトレジストをスピンコート法によ
り塗布し、図５（ｃ）に示すように、これをベーキング
して第二のフォトレジスト層６を形成する。

【０００８】つぎに、図５（ｄ）に示すように、高強度
のレーザ光７の露光により前記第二のフォトレジスト層
６から前記第一のフォトレジスト層４までプリピットの
潜像を形成すると共に、低強度のレーザ光８の露光によ
り前記第二のフォトレジスト層６にプリグルーブの潜像
を形成する。この露光された第一・第二のフォトレジス
ト層４，６を現像して潜像の部分を除去することによ
り、図５（ｅ）に示すように、プリピット９とプリグル
ーブ１０とが異なる深さで形成された光ディスク原盤１
１を得る。

【０００９】この光ディスク原盤１１では、プリピット
９の深さは、第一・第二のフォトレジスト層４，６と中
間層５との膜厚となり、プリグルーブ１０の深さは、第
二のフォトレジスト層６の膜厚となるので、プリピット
９とプリグルーブ１０との深さを正確に管理することが
できる。

【００１０】そして、上述のような光ディスク原盤１１
を導電処理してからニッケル電鋳し、これを剥離させる
ことによりスタンパが得られるので、このスタンパによ
り樹脂を射出成形することにより光ディスクが得られ
る。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上述した光ディスク原
盤１１の製造方法では、プリピット９とプリグルーブ１
０とを正確な深さに形成することができる。

【００１２】しかし、上述のようにスピンコート法によ
り各層４〜６を形成すると、動的に塗布するフォトレジ
ストや樹脂に気泡が混入し、図７に示すように、その表
面に放射状や同心円状のムラが発生することがある。こ
のことは、中間層５に顕著であり、第二のフォトレジス
ト層６にも発生しやすい。

【００１３】上述のようなムラが中間層５や第二のフォ
トレジスト層６に発生した場合、光ディスク原盤１１の
プリピット９やプリグルーブ１０も変形するので、この
ような光ディスク原盤１１から製作する光ディスクは信
号特性が安定しない低品質なものとなる。

【００１４】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
スピナー装置のターンテーブルにより基板を回転自在に
支持し、この基板の表面にフォトレジストを塗布して第
一のフォトレジスト層を形成し、この第一のフォトレジ
スト層の表面に樹脂を塗布して中間層を形成し、この中
間層の表面にフォトレジストを塗布して第二のフォトレ
ジスト層を形成し、露光と現像とにより前記第二のフォ
トレジスト層にプリグルーブを形成すると共に前記第二
のフォトレジスト層から前記第一のフォトレジスト層ま
でプリピットを形成して光ディスク原盤を得るようにし
た光ディスク原盤の製造方法において、前記第一のフォ
トレジスト層の表面に樹脂を塗布する際、前記ターンテ
ーブルを静止させるようにした。

【００１５】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、ターンテーブルを静止させた状態で第一の
フォトレジスト層の表面に樹脂を塗布する際、前記第一
のフォトレジスト層の表面の中央に樹脂を滴下するよう
にした。

【００１６】請求項３記載の発明は、請求項２記載の発
明において、滴下した樹脂が第一のフォトレジスト層の
全面に広がるまでターンテーブルを継続的に静止させ、
前記第一のフォトレジスト層の全面に前記樹脂が広がっ
てからターンテーブルを回転させるようにした。

【００１７】請求項４記載の発明は、スピナー装置のタ
ーンテーブルにより基板を回転自在に支持し、この基板
の表面にフォトレジストを塗布して第一のフォトレジス
ト層を形成し、この第一のフォトレジスト層の表面に樹
脂を塗布して中間層を形成し、この中間層の表面にフォ
トレジストを塗布して第二のフォトレジスト層を形成
し、露光と現像とにより前記第二のフォトレジスト層に
プリグルーブを形成すると共に前記第二のフォトレジス
ト層から前記第一のフォトレジスト層までプリピットを
形成して光ディスク原盤を得るようにした光ディスク原
盤の製造方法において、前記中間層の表面にフォトレジ
ストを塗布する際、前記ターンテーブルを静止させるよ
うにした。

【００１８】請求項５記載の発明は、請求項４記載の発
明において、ターンテーブルを静止させた状態で中間層
の表面にフォトレジストを塗布する際、前記中間層の表
面の中央にフォトレジストを滴下するようにした。

【００１９】請求項６記載の発明は、請求項５記載の発
明において、滴下したフォトレジストが中間層の全面に
広がるまでターンテーブルを継続的に静止させ、前記中
間層の全面に前記フォトレジストが広がってからターン
テーブルを回転させるようにした。

【００２０】

【作用】請求項１記載の発明は、ターンテーブルを静止
させた状態で第一のフォトレジスト層の表面に樹脂を塗
布し、塗布する樹脂に気泡を混入させない。

【００２１】請求項２記載の発明は、ターンテーブルを
静止させた状態で第一のフォトレジスト層の表面の中央
に樹脂を滴下し、樹脂を均一に広がらせる。

【００２２】請求項３記載の発明は、ターンテーブルを
静止させた状態で樹脂を滴下し、この静止状態のまま樹
脂を第一のフォトレジスト層の全面に広がらせ、ターン
テーブルを回転させて余分な樹脂を飛散させる。

【００２３】請求項４記載の発明は、ターンテーブルを
静止させた状態で中間層の表面にフォトレジストを塗布
し、塗布するフォトレジストに気泡を混入させない。

【００２４】請求項２記載の発明は、ターンテーブルを
静止させた状態で中間層の表面の中央にフォトレジスト
を滴下し、フォトレジストを均一に広がらせる。

【００２５】請求項３記載の発明は、ターンテーブルを
静止させた状態でフォトレジストを滴下し、この静止状
態のままフォトレジストを中間層の全面に広がらせ、タ
ーンテーブルを回転させて余分なフォトレジストを飛散
させる。

【００２６】

【実施例】本発明の一実施例を図１及び図２に基づいて
以下に説明する。なお、本実施例の光ディスク原盤の製
造方法に関し、前述した一従来例の光ディスク原盤１１
の製造方法と同一の部分は、同一の名称と符号とを利用
して詳細な説明は省略する。

【００２７】まず、円形のガラス基板１を研磨し、シラ
ンカップリング剤（HMDS：日本ゼオン製密着剤１００
等）によるトリメチルシリル化処理により疎水化した
後、スピナー装置のターンテーブル（図示せず）にセッ
トする。このターンテーブルによりガラス基板１を300
(rpm)で回転させ、スピナー装置のディスペンサ２によ
りフォトレジスト（東京応化製TSMR-V90MSCPを溶剤によ
り５％に希釈したもの等）３を塗布する。このフォトレ
ジスト３が塗布されたガラス基板１をコンベクションオ
ーブン（図示せず）により 90(℃）で30分だけベーキン
グし、ガラス基板１の表面に第一のフォトレジスト層４
を形成する。

【００２８】つぎに、ガラス基板１をスピナー装置のタ
ーンテーブルに再度セットするが、図１（ａ）に示すよ
うに、このターンテーブルを静止させた状態でディスペ
ンサ２により第一のフォトレジスト層４の表面の中央に
樹脂(CMC(Carboxymethyl Cellulose）の 0.1％水溶液
等）１２を滴下する。図１（ｂ）に示すように、この滴
下した樹脂１２が第一のフォトレジスト層４の全面に広
がるまでターンテーブルを継続的に静止させ、第一のフ
ォトレジスト層４の全面に樹脂１２が広がってからター
ンテーブルを500(rpm)で回転させる。図１（ｃ）に示す
ように、この回転により第一のフォトレジスト層４に塗
布された樹脂１２が完全に均一化されて余分な樹脂１２
は飛散するので、これをコンベクションオーブン（図示
せず）により 90(℃）で30分だけベーキングして中間層
５を形成する。

【００２９】同様に、ガラス基板１をスピナー装置のタ
ーンテーブルにセットし、このターンテーブルを静止さ
せた状態でディスペンサ２により中間層５の表面の中央
にフォトレジスト（富士ハント製 FH-6800L 5CP を溶剤
により10％に希釈したもの等）を滴下する。この滴下し
たフォトレジストが中間層５の全面に広がるまでターン
テーブルを継続的に静止させ、中間層５の全面にフォト
レジストが広がってからターンテーブルを500(rpm)で回
転させる。この回転により中間層５に塗布されたフォト
レジストが完全に均一化されて余分なフォトレジストは
飛散するので、これをコンベクションオーブン（図示せ
ず）により 90(℃）で30分だけベーキングして第二のフ
ォトレジスト層６を形成する。

【００３０】つぎに、ガスレーザ管による高強度のレー
ザ光７の露光により前記第二のフォトレジスト層６から
前記第一のフォトレジスト層４までプリピットの潜像を
形成すると共に、低強度のレーザ光８の露光により前記
第二のフォトレジスト層６にプリグルーブの潜像を形成
する。この露光された第一・第二のフォトレジスト層
４，６を現像し（メタケイ酸ナトリウム Na₂OSiO₂・XH₂
O 33％ 45秒：リンス90秒溶液温度30℃）、潜像の部
分を除去することにより、プリピット９とプリグルーブ
１０とが異なる深さで形成された光ディスク原盤１１を
得る。

【００３１】この光ディスク原盤１１を導電処理してか
らニッケル電鋳し、これを剥離させることによりスタン
パが得られるので、このスタンパにより樹脂を射出成形
することにより光ディスクが得られる。

【００３２】本実施例の製造方法により製造した光ディ
スク原盤１１では、プリピット９の深さは、第一・第二
のフォトレジスト層４，６と中間層５との膜厚となり、
プリグルーブ１０の深さは、第二のフォトレジスト層６
の膜厚となるので、プリピット９とプリグルーブ１０と
の深さを正確に管理することができる。

【００３３】しかも、中間層５を形成する場合、ターン
テーブルを静止させた状態で第一のフォトレジスト層４
の表面に樹脂１２を塗布するので、この樹脂１２に気泡
が混入することがない。さらに、ターンテーブルを静止
させた状態で第一のフォトレジスト層４の表面の中央に
樹脂１２を滴下するので、この樹脂１２は第一のフォト
レジスト層４の表面に均一に広がる。そして、このよう
に静止状態のまま樹脂１２が第一のフォトレジスト層４
の全面に広がってから、ターンテーブルを回転させて余
分な樹脂１２を飛散させるので、この樹脂１２は第一の
フォトレジスト層４の表面の全域に均一で適正な層厚で
広がる。

【００３４】同様に、第二のフォトレジスト層６を形成
する場合、ターンテーブルを静止させた状態で中間層５
の表面にフォトレジストを塗布するので、このフォトレ
ジストに気泡が混入することがない。さらに、ターンテ
ーブルを静止させた状態で中間層５の表面の中央にフォ
トレジストを滴下するので、このフォトレジストは中間
層５の表面に均一に広がる。そして、このように静止状
態のままフォトレジストが中間層５の全面に広がってか
ら、ターンテーブルを回転させて余分なフォトレジスト
を飛散させるので、このフォトレジストは中間層５の表
面の全域に均一で適正な層厚で広がる。

【００３５】従って、本実施例の製造方法により製造し
た光ディスク原盤１１では、中間層５とフォトレジスト
層６とが適正な層厚で均一に形成され、その表面に放射
状や同心円状のムラが発生することがない。このため、
光ディスク原盤１１のプリピット９やプリグルーブ１０
も良好な形状に形成されるので、図２に示すように、こ
の光ディスク原盤１１から製作する光ディスクは信号特
性が安定した高品質なものとなる。なお、同図における
従来例では、ターンテーブルの回転速度を150(rpm)、こ
の外周から中心に移動するディスペンサの移動速度を20
(mm／sec)とした。

【００３６】なお、本実施例の光ディスク原盤１１の製
造方法では、中間層５と第二のフォトレジスト層６との
両方を静的に形成することを例示したが、本発明は上記
実施例に限定されるものではなく、中間層５と第二のフ
ォトレジスト層６との一方のみを静的に形成することも
可能である。

【００３７】例えば、第二のフォトレジスト層６を形成
する場合、ターンテーブルの回転速度を 50(rpm)とし、
ディスペンサ２の線形速度を０〜20（mm／sec)としたと
ころ、図３に示すように、ディスペンサ２の移動速度が
10(mm)以下ならば第二のフォトレジスト層６の層厚の変
動は小さいことが判明した。つぎに、ディスペンサ２の
移動速度を5.0(mm／sec)とし、ターンテーブルの回転速
度を０〜200(rpm)としたところ、図４に示すように、タ
ーンテーブルの回転速度が100(rpm)以下ならば第二のフ
ォトレジスト層６の層厚の変動は小さいことが判明し
た。

【００３８】つまり、第二のフォトレジスト層６を形成
する場合、ターンテーブルやディスペンサ２を完全に静
止させなくとも、その速度が所定値より低速ならば許容
される。この速度はフォトレジストの粘度などの各種条
件に従って決定されるものであり、本実施例の数値に限
定されるものではない。

【００３９】

【発明の効果】請求項１記載の発明は、第一のフォトレ
ジスト層の表面に樹脂を塗布する際、ターンテーブルを
静止させるようにしたことにより、塗布する樹脂に気泡
が混入することを防止できるので、中間層を良好な形状
に形成することができ、特性が良好な光ディスクを製造
できる光ディスク原盤を得ることができる。

【００４０】請求項２記載の発明は、ターンテーブルを
静止させた状態で第一のフォトレジスト層の表面に樹脂
を塗布する際、第一のフォトレジスト層の表面の中央に
樹脂を滴下するようにしたことにより、樹脂を第一のフ
ォトレジスト層の表面に均一に広がらせることができる
ので、中間層を良好な形状に形成することができる。

【００４１】請求項３記載の発明は、滴下した樹脂が第
一のフォトレジスト層の全面に広がるまでターンテーブ
ルを継続的に静止させ、第一のフォトレジスト層の全面
に樹脂が広がってからターンテーブルを回転させるよう
にしたことにより、樹脂を第一のフォトレジスト層の表
面に適正な層厚で均一に広がらせることができるので、
中間層を良好な形状に形成することができる。

【００４２】請求項４記載の発明は、中間層の表面にフ
ォトレジストを塗布する際、ターンテーブルを静止させ
るようにしたことにより、塗布するフォトレジストに気
泡が混入することを防止できるので、第二のフォトレジ
スト層を良好な形状に形成することができ、特性が良好
な光ディスクを製造できる光ディスク原盤を得ることが
できる。

【００４３】請求項５記載の発明は、ターンテーブルを
静止させた状態で中間層の表面にフォトレジストを塗布
する際、中間層の表面の中央にフォトレジストを滴下す
るようにしたことにより、フォトレジストを中間層の表
面に均一に広がらせることができるので、第二のフォト
レジスト層を良好な形状に形成することができる。

【００４４】請求項６記載の発明は、滴下したフォトレ
ジストが中間層の全面に広がるまでターンテーブルを継
続的に静止させ、中間層の全面にフォトレジストが広が
ってからターンテーブルを回転させるようにしたことに
より、フォトレジストを中間層の表面に適正な層厚で均
一に広がらせることができるので、第二のフォトレジス
ト層を良好な形状に形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の光ディスク原盤の製造方法
において第一のフォトレジスト層の表面に樹脂を塗布す
る工程を示す工程図である。

【図２】本発明の製造方法と従来の製造方法とによる光
ディスク原盤により製造した光ディスクの信号特性を示
す特性図である。

【図３】ディスペンサの移動速度と第二のフォトレジス
ト層の層厚との関係を示す特性図である。

【図４】ターンテーブルの回転速度と第二のフォトレジ
スト層の層厚との関係を示す特性図である。

【図５】一従来例の光ディスク原盤の製造方法を示す工
程図である。

【図６】ガラス基板の表面にフォトレジストを塗布する
工程を示す工程図である。

【図７】中間層や第二のフォトレジスト層の不良を示す
模式図である。

【符号の説明】

１基板３フォトレジスト４第一のフォトレジスト層５中間層６第二のフォトレジスト層７，８レーザ光９プリピット１０プリグルーブ１１光ディスク原盤１２樹脂

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】スピナー装置のターンテーブルにより基
板を回転自在に支持し、この基板の表面にフォトレジス
トを塗布して第一のフォトレジスト層を形成し、この第
一のフォトレジスト層の表面に樹脂を塗布して中間層を
形成し、この中間層の表面にフォトレジストを塗布して
第二のフォトレジスト層を形成し、露光と現像とにより
前記第二のフォトレジスト層にプリグルーブを形成する
と共に前記第二のフォトレジスト層から前記第一のフォ
トレジスト層までプリピットを形成して光ディスク原盤
を得るようにした光ディスク原盤の製造方法において、
前記第一のフォトレジスト層の表面に樹脂を塗布する
際、前記ターンテーブルを静止させるようにしたことを
特徴とする光ディスク原盤の製造方法。
【請求項２】ターンテーブルを静止させた状態で第一
のフォトレジスト層の表面に樹脂を塗布する際、前記第
一のフォトレジスト層の表面の中央に樹脂を滴下するよ
うにしたことを特徴とする請求項１記載の光ディスク原
盤の製造方法。
【請求項３】滴下した樹脂が第一のフォトレジスト層
の全面に広がるまでターンテーブルを継続的に静止さ
せ、前記第一のフォトレジスト層の全面に前記樹脂が広
がってからターンテーブルを回転させるようにしたこと
を特徴とする請求項２記載の光ディスク原盤の製造方
法。
【請求項４】スピナー装置のターンテーブルにより基
板を回転自在に支持し、この基板の表面にフォトレジス
トを塗布して第一のフォトレジスト層を形成し、この第
一のフォトレジスト層の表面に樹脂を塗布して中間層を
形成し、この中間層の表面にフォトレジストを塗布して
第二のフォトレジスト層を形成し、露光と現像とにより
前記第二のフォトレジスト層にプリグルーブを形成する
と共に前記第二のフォトレジスト層から前記第一のフォ
トレジスト層までプリピットを形成して光ディスク原盤
を得るようにした光ディスク原盤の製造方法において、
前記中間層の表面にフォトレジストを塗布する際、前記
ターンテーブルを静止させるようにしたことを特徴とす
る光ディスク原盤の製造方法。
【請求項５】ターンテーブルを静止させた状態で中間
層の表面にフォトレジストを塗布する際、前記中間層の
表面の中央にフォトレジストを滴下するようにしたこと
を特徴とする請求項４記載の光ディスク原盤の製造方
法。
【請求項６】滴下したフォトレジストが中間層の全面
に広がるまでターンテーブルを継続的に静止させ、前記
中間層の全面に前記フォトレジストが広がってからター
ンテーブルを回転させるようにしたことを特徴とする請
求項５記載の光ディスク原盤の製造方法。