JPS60179957A - 光ディスクのスピン現像方法及び装置 - Google Patents
光ディスクのスピン現像方法及び装置Info
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- JPS60179957A JPS60179957A JP3428384A JP3428384A JPS60179957A JP S60179957 A JPS60179957 A JP S60179957A JP 3428384 A JP3428384 A JP 3428384A JP 3428384 A JP3428384 A JP 3428384A JP S60179957 A JPS60179957 A JP S60179957A
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- JP
- Japan
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- disk
- developer
- hole
- distance
- developing device
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- Granted
Links
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
し発明の利用分野〕
本発明は光ディスクの製造装置に係シ、特にホトレジス
ト原盤に一定の断面形状の溝を安定に形成するスピン現
像装置に関するものである。−〔発明の背景〕 案内溝をそなえた光ディスクのホトレジスト原盤を形成
する場合、原盤を一定速度で回転させながら、所定の溝
間隔になるように記録用ヘッドと一定相対速度で移動さ
せ、ホトレジスト上に一定エネルギー密度の光を露光し
、これを現像することによシ、案内溝を形成する。従来
においては一定温度、濃度の現像液中に一定時間浸漬し
て現像する方法や、一定濃匿、温度の現像液を、回転原
盤上にシャワーするスピン現像法、あるいは第１図に示
すような現像の進行を溝による光の回折を利用してモニ
ターするモニタースピン現像装置がある。第１図におい
て、１はガラス板、２はホトレジスト膜、３は回転用モ
ーター、４はモニター用Ｈｅ−Ｎｅレーザ、５はミラー
、６．７は第０次および第１次回折光Ａ１．Ｂ用のホト
ディテクター、８．９は増巾器、１０は演算器、１１は
基準電圧発生器、１２はコンバレーター、ｉ３，１４は
現像液および現像停止液ａ、ｂ用電磁弁、１５゜１６は
それぞれのノズルである。ノズルは矢印に示す方向に移
動させることが出来る。現像の進行によシ、割算器１ｏ
の出力が基準レベルを越えると、電磁弁が働いて現像液
をストップし現像停止液をシャワーして現像を停止させ
るようになっている。溝の形成にあたって、ホトレジス
トを成造打抜く場合にはこの従来装置で十分であるが、
ホトレジストの現像を途中で止める中間調現像によって
溝形成を行う場合、従来装置では溝深さにバラツキが出
て、一定の深さの溝を作ることは困難である。これはホ
トレジストの深さ方向に対してはホトレジストが強く感
光しているために、露光、現像条件のわずかなバラツキ
によって現像量が大きく変わるためである。特にスピン
現像の場合、ディスク半径方向で深さが大きく変化する
欠点があった。
ト原盤に一定の断面形状の溝を安定に形成するスピン現
像装置に関するものである。−〔発明の背景〕 案内溝をそなえた光ディスクのホトレジスト原盤を形成
する場合、原盤を一定速度で回転させながら、所定の溝
間隔になるように記録用ヘッドと一定相対速度で移動さ
せ、ホトレジスト上に一定エネルギー密度の光を露光し
、これを現像することによシ、案内溝を形成する。従来
においては一定温度、濃度の現像液中に一定時間浸漬し
て現像する方法や、一定濃匿、温度の現像液を、回転原
盤上にシャワーするスピン現像法、あるいは第１図に示
すような現像の進行を溝による光の回折を利用してモニ
ターするモニタースピン現像装置がある。第１図におい
て、１はガラス板、２はホトレジスト膜、３は回転用モ
ーター、４はモニター用Ｈｅ−Ｎｅレーザ、５はミラー
、６．７は第０次および第１次回折光Ａ１．Ｂ用のホト
ディテクター、８．９は増巾器、１０は演算器、１１は
基準電圧発生器、１２はコンバレーター、ｉ３，１４は
現像液および現像停止液ａ、ｂ用電磁弁、１５゜１６は
それぞれのノズルである。ノズルは矢印に示す方向に移
動させることが出来る。現像の進行によシ、割算器１ｏ
の出力が基準レベルを越えると、電磁弁が働いて現像液
をストップし現像停止液をシャワーして現像を停止させ
るようになっている。溝の形成にあたって、ホトレジス
トを成造打抜く場合にはこの従来装置で十分であるが、
ホトレジストの現像を途中で止める中間調現像によって
溝形成を行う場合、従来装置では溝深さにバラツキが出
て、一定の深さの溝を作ることは困難である。これはホ
トレジストの深さ方向に対してはホトレジストが強く感
光しているために、露光、現像条件のわずかなバラツキ
によって現像量が大きく変わるためである。特にスピン
現像の場合、ディスク半径方向で深さが大きく変化する
欠点があった。
〔発明の目的〕
本発明の目的はこのような欠点を除去し、ディスク全面
にわたって一定の深さの溝形成が可能な、ホトレジスト
原盤のスピン現像装置を提供することにある。
にわたって一定の深さの溝形成が可能な、ホトレジスト
原盤のスピン現像装置を提供することにある。
ホトレジストの露光エネルギー密度が一定の場合、溝形
状、特に深さの一様性は現像の一様性に依存する。スピ
ン現像の場合、ディスクが回転しているため、ディスク
上の現像液は外側にすみやかに排出される。現像液にか
かる遠心力は注目点のディスク回転中心からの距離に比
例する。ディスク上の注目点での現像力は、現像液の滞
留時間と、新鮮現像液の供給量に比例すると考えられる
。
状、特に深さの一様性は現像の一様性に依存する。スピ
ン現像の場合、ディスクが回転しているため、ディスク
上の現像液は外側にすみやかに排出される。現像液にか
かる遠心力は注目点のディスク回転中心からの距離に比
例する。ディスク上の注目点での現像力は、現像液の滞
留時間と、新鮮現像液の供給量に比例すると考えられる
。
滞留時間は現像液にかかる力、すなわち遠心力の逆数に
比例するため、注目点での新鮮現像液の供給Ｍ：’ｆｃ
注目点の回転中心からの距離に比例するようにすれば、
現像力は回転中心からの距離によらず一定となることに
なる。
比例するため、注目点での新鮮現像液の供給Ｍ：’ｆｃ
注目点の回転中心からの距離に比例するようにすれば、
現像力は回転中心からの距離によらず一定となることに
なる。
以下、本発明の一実施例を第２図にょシ説明する。第２
図は本糺明によるスピン現像装置のノズル部分を示す図
であシ、他の構成は第１図と同じテあル。ガラス板１上
に塗布されたポストレジスト２上に多孔ノズル１７から
現像液が各孔１８を通って流下するようになっている。
図は本糺明によるスピン現像装置のノズル部分を示す図
であシ、他の構成は第１図と同じテあル。ガラス板１上
に塗布されたポストレジスト２上に多孔ノズル１７から
現像液が各孔１８を通って流下するようになっている。
ガラス板はモータ３によシ回転する。孔１８の位置の回
転中心からの距離をｒとすると、孔１８の面積５（ｒ）
はｒに比例するようにし、孔からの流下量がγに比例す
るようにしている。従って各孔の面積は異っている。こ
の場合、各孔には現像液の動圧がなるべくかからないよ
うに、静圧が孔からの流出量を決めるようにノズル内の
空間部分１９を広くとる必要がある。そうしないと、流
下量は孔面私に比例しなくなる。例としてあげれば、記
録径がφ１３５鰭からφ２８０ｗｎの場合、最外孔径２
Ｉ！ＩＩ＋＋で、６閣ピツチに計１６個の孔をあけたノ
ズルで、全流量的１．２ｔ／分で一様な結果が得られた
。
転中心からの距離をｒとすると、孔１８の面積５（ｒ）
はｒに比例するようにし、孔からの流下量がγに比例す
るようにしている。従って各孔の面積は異っている。こ
の場合、各孔には現像液の動圧がなるべくかからないよ
うに、静圧が孔からの流出量を決めるようにノズル内の
空間部分１９を広くとる必要がある。そうしないと、流
下量は孔面私に比例しなくなる。例としてあげれば、記
録径がφ１３５鰭からφ２８０ｗｎの場合、最外孔径２
Ｉ！ＩＩ＋＋で、６閣ピツチに計１６個の孔をあけたノ
ズルで、全流量的１．２ｔ／分で一様な結果が得られた
。
第３図は本発明の別の実施例を示す図である。
第２図と同様にノズル部分のみを示す。本実施例ではノ
ズルの空間部分を狭くして、現像液の動圧が孔にかかシ
、流出量を決める例を示している。
ズルの空間部分を狭くして、現像液の動圧が孔にかかシ
、流出量を決める例を示している。
この場合、孔２１からの流出量は孔の面積に必ずしも比
例１ない。従ってここでは例として数値をめげると、最
外孔径２ｍ＋＋で６■ピツチに計１６個の孔をその径が
孔の回転中心からの距離に比例するようにあけ、空間の
断面径４薦としたときに、全流量を約１．２ｔ／分とす
ると一様な結果が得られた。いずれにしても、新鮮現像
液の流下供給量が回転中心からの距離に比例するように
すればよい。
例１ない。従ってここでは例として数値をめげると、最
外孔径２ｍ＋＋で６■ピツチに計１６個の孔をその径が
孔の回転中心からの距離に比例するようにあけ、空間の
断面径４薦としたときに、全流量を約１．２ｔ／分とす
ると一様な結果が得られた。いずれにしても、新鮮現像
液の流下供給量が回転中心からの距離に比例するように
すればよい。
第４図は本発明の別の実施例を示す図である。
本実施例では現像液ノズル２３を１個とし、このノズル
全ディスク半径方向にスキャンすることによシ、時間平
均的にみて、ノズルの回転中心からの距離ｒにおける平
均滞留時間が距離γに比例するようしている。現像時間
を６０秒程度とすると、半径方向のスキャンくシ返し回
数は３０回程度は必要である。第２図〜第４図の実施例
においては煩雑さをさけるために図示しなかったが、第
１図と同様に構成にして、現像の進行をモニターするこ
とによシ、更に安定に一定深さの溝を形成することが出
来る。
全ディスク半径方向にスキャンすることによシ、時間平
均的にみて、ノズルの回転中心からの距離ｒにおける平
均滞留時間が距離γに比例するようしている。現像時間
を６０秒程度とすると、半径方向のスキャンくシ返し回
数は３０回程度は必要である。第２図〜第４図の実施例
においては煩雑さをさけるために図示しなかったが、第
１図と同様に構成にして、現像の進行をモニターするこ
とによシ、更に安定に一定深さの溝を形成することが出
来る。
以上、本発明によれば、ディスク全面にわたシ安定に所
定断面形状の溝を形成することが可能となシ、信頼性の
高い原盤作製が可能となる。従って、光ディスクにとっ
て最適な形状の溝が形成でき、記録再生ヘッドの位置決
めが安定となシ、信頼性の高いデータの記録が可能とな
る効果がめる。
定断面形状の溝を形成することが可能となシ、信頼性の
高い原盤作製が可能となる。従って、光ディスクにとっ
て最適な形状の溝が形成でき、記録再生ヘッドの位置決
めが安定となシ、信頼性の高いデータの記録が可能とな
る効果がめる。
′また生産面でみると、原盤作製の歩留りが向上し、コ
スト低下の効果も得られる。
スト低下の効果も得られる。
第１図は従来のモニタースピン現像装置の概略を示す図
、第２図〜第４図は本発明の実施例を示す図であシ、ス
ピン現像装置のノズル部分を示している。 代理人 弁理士 高橋明夫 ￥３ １ 国 第２図 ↓
、第２図〜第４図は本発明の実施例を示す図であシ、ス
ピン現像装置のノズル部分を示している。 代理人 弁理士 高橋明夫 ￥３ １ 国 第２図 ↓
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ディスクを回転させる機構と、現像液と現像停止液
を吐出する機構を備えたスピン現像装置において、ディ
スク上への現像液の吐出量がディスク回転中心からの距
離に比例するようにしたことを特徴とするスピン現像装
置。 ２、複数個の現像液吐出口を持ち、各吐出口からの現像
液の吐出量をディスク上の吐出位置におけるディスク回
転中心からの距離に比例するようにしたことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のスピン現像装置。 ３、現像液吐出口をディスク回転中に半径方向に走査す
ることによシ、ディスク上の平均滞在時間がその半径位
置に比例するようにしたことを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載のスピン現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59034283A JPH0695401B2 (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 光ディスクのスピン現像方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59034283A JPH0695401B2 (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 光ディスクのスピン現像方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60179957A true JPS60179957A (ja) | 1985-09-13 |
| JPH0695401B2 JPH0695401B2 (ja) | 1994-11-24 |
Family
ID=12409828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59034283A Expired - Lifetime JPH0695401B2 (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 光ディスクのスピン現像方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0695401B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000133587A (ja) * | 1998-08-19 | 2000-05-12 | Tokyo Electron Ltd | 現像装置 |
| JP2002118057A (ja) * | 2000-10-12 | 2002-04-19 | Oki Electric Ind Co Ltd | フォトレジスト現像ノズル、フォトレジスト現像装置、およびフォトレジスト現像方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54102123A (en) * | 1978-01-27 | 1979-08-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Developing method |
| JPS56110933A (en) * | 1980-01-25 | 1981-09-02 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Developing method |
| JPS5817444A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Hitachi Ltd | フオトレジスト現像装置 |
| JPS5963726A (ja) * | 1982-10-05 | 1984-04-11 | Toshiba Corp | ホトレジスト現像装置 |
| JPS5978342A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-07 | Fujitsu Ltd | レジスト膜の現像方法 |
| JPS60103830U (ja) * | 1983-12-20 | 1985-07-15 | 株式会社東芝 | 回転現像装置 |
-
1984
- 1984-02-27 JP JP59034283A patent/JPH0695401B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54102123A (en) * | 1978-01-27 | 1979-08-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Developing method |
| JPS56110933A (en) * | 1980-01-25 | 1981-09-02 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Developing method |
| JPS5817444A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Hitachi Ltd | フオトレジスト現像装置 |
| JPS5963726A (ja) * | 1982-10-05 | 1984-04-11 | Toshiba Corp | ホトレジスト現像装置 |
| JPS5978342A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-07 | Fujitsu Ltd | レジスト膜の現像方法 |
| JPS60103830U (ja) * | 1983-12-20 | 1985-07-15 | 株式会社東芝 | 回転現像装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000133587A (ja) * | 1998-08-19 | 2000-05-12 | Tokyo Electron Ltd | 現像装置 |
| JP2002118057A (ja) * | 2000-10-12 | 2002-04-19 | Oki Electric Ind Co Ltd | フォトレジスト現像ノズル、フォトレジスト現像装置、およびフォトレジスト現像方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0695401B2 (ja) | 1994-11-24 |
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