JPS6161341B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ターンテーブルによつて回転されて
いる被現像体の上面にノズルから現像液や水など
の液体を流下状態で供給し、被現像体の上面に液
体層を形成して被現像体に対する現像処理が行な
われている被現像体の適正な現像状態を良好に検
出できるようにした適正現像状態の検出装置を提
供しようとしてなされたものである。

円盤状の情報記録媒体（以下、デイスクと記載
されることもある）を用いて各種の情報信号を高
密度記録し、それを再生する技術に関しての研究
開発が盛んに行なわれていることは周知のとおり
であり、本出願人会社においても各種方式による
デイスクを用いた高密度記録再生方式についての
開発研究ならびに実用化研究を行なつて来てい
る。

さて、デイスクの原盤に対して、情報信号を高
い記録密度で記録しようとする場合に従来から行
なわれている記録手段の代表的なものは、情報信
号によつて変調されたレーザ光ビームの微小なス
ボツト、あるいは情報信号によつて変調された電
子ビームの微小なスポツトをデイスクの原盤のビ
ーム感材層（例えばフオトレジスト層）上に投射
して、デイスクの原盤のビーム感材層に記録すべ
き情報信号と対応した記録パターンの潜像を形成
させ、次いでデイスクの原盤を現像処理して、記
録すべき情報信号と対応したピツトによる記録パ
ターンをビーム感材層に形成させる、というもの
であり、デイスクの原盤に対する情報信号の記録
がレーザ光ビームを用いて行なわれるようにした
場合の具体的な説明は、例えば特開昭55−146633
号公報などに詳細に記述されているところである
からそれを参照されるとよい。

ところで、記録すべき情報信号と対応した潜像
が形成されているデイスクの原盤を被現像体と
し、それを現像処理して記録すべき情報信号と対
応したピツトがビーム感材層に記録形成されてい
るデイスクの原盤を得ようとする場合における現
像処理によるビーム感材層のピツトの形成態様
は、現像処理の進行に従つて著るしく変化してい
るものとなつているから、デイスクの原盤に対す
る現像処理は、デイスクの原盤が適正現像状態、
すなわち、デイスクの原盤におけるビーム感材層
に、所定の形状及び深さを有するピツトが配列さ
れた状態のデイスクの原盤が得られるまでに現像
処理が進行している状態で中止されることが必要
とされる。

すなわち、デイスクの原盤に対する現像処理に
よつてビーム感材層に形成されるピツトの形状や
深さが予め定められた状態のものになつていない
時は、そのデイスクの原盤に基づいて作られたデ
イスクから再生された信号が歪んだものとなり、
良好な再生画像を得ることができないことになる
から、デイスクの原盤に対する現像処理は、適正
現像状態において中止されなければならない。

ところが、従来、デイスクの原盤の現像処理に
おいては、現像時間や現像液の温度のみの管理で
現像状態のデイスクの原盤を得ようとしていたか
ら、現像処理を行なつて得たデイスクの原盤とし
て、所定のピツト形状及び深さを有するピツトが
配列されている状態のものが常に得られるとは限
らず、現像処理されて得られた個々のデイスクの
原盤の相互間には大巾なばらつきの生じているこ
とも珍らしくはなかつた。

すなわち、デイスクの原盤の現像処理を、例え
ばいわゆるデイツプ現像方法によつて行なう場合
を考えると、この場合に、現像処理の対象とされ
るデイスクの原盤は、規定の濃度に調合されると
共に所定の温度となされている現像液が入れられ
ている容器中で現像処理が行なわれるのである
が、現像液の濃度はデイスクの原盤の短時間中に
適正現像状態となされるようなものに選定されて
おり、僅かな現像時間の違いによつてもデイスク
の原盤のビーム感材層のピツト形状や深さが異な
るものとなつてしまうので、現像処理の時間を厳
密に定めておいても、デイスクの原盤の現像液中
への浸漬作業や、デイスクの原盤の現像液中から
の引上げ作業の所要時間のばらつきによつつて
も、デイスクの原盤におけるピツトの形状や深さ
などにばらつきが生じてしまうこともあるからで
ある。

それで、現像処理に用いる現像液の濃度を前述
の場合に比べて薄くすれば、僅かな現像時間の差
によるピツトの形状や深さの差が問題にならない
ようにすることも可能となるが、そのように現像
液の濃度を定めたときは、デイスクの原盤が適正
現像状態となる迄の現像処理時間が著るしく長く
なつて、ガラスの基盤上に薄層として塗布されて
いるビーム感材層が、長い時間にわたる現像液へ
の浸漬によりガラスの基盤から剥離してしまうな
どの事故を起こすこともあるので、現像処理時間
が長大になるような濃度を有する現像液により現
像処理を行なうことは望ましくないのである。

前述のように被現像体の現像処理の進行状態の
管理が、現像液の温度と現像時間との管理によつ
て行なわれている場合には、被現像体に対する現
像処理が適正現像状態に達したかどうかの判定は
現像液の温度と現像時間とだけに従つてなされる
が、例えば現像時間の違いによつても被現像体の
現像状態は著るしく変化したものとなるので、被
現像体を適正現像状態のものとして得ることは困
難であつた。

しかし、被現像体に対して現像処理を施こして
いるときに、被現像体が適正現像状態に達したこ
とを検出することができれば、被現像体が適正現
像状態に達した時点において現像処理を中止させ
ることにより、常に、被現像体を適正現像状態の
ものとして得ることも容易にできるようになる。

本発明は、被現像体が現像されることによつて
被現像体に現われるパターンを回折格子とした時
に、被現像体における現像状態の変化に伴なつて
変化する被現像体のパターンに基づいて生じる回
折光の状態が変化することに着目し、被現像体の
適正現像状態を容易、かつ、適確に検出すること
ができるようにした適正現像状態の検出装置を提
供するものである。

以下、添付図面を参照しながら本発明の適正現
像状態の検出装置の具体的な内容について詳細に
説明する。第１図は本発明の適正現像状態の検出
装置を備えている現像装置の概略構成を示す縦断
側面図であつて、この第１図においてＴはターン
テーブルであり、ターンテーブルＴはモータＭに
より、例えば60〜80rpm程度の回転数で回転され
るようになされている。ODは被現像体であり、
図示の例ではデイスクの原盤であるとされてい
る。デイスクの原盤ODは、ガラスの基板１上に
ビーム感材層２（以下、フオトレジスト層２と記
載されることもある）が付着されており、このデ
イスクの原盤ODのフオトレジスト層２には、現
像処理工程の以前に行なわれている情報信号によ
る零光工程において、記録されるべき情報信号と
対応した潜像が形成されていることは勿論であ
る。

デイスクの原盤ODは、それの中心に穿設され
ている中心孔３中に、ターンテーブルＴの中心に
植設されている軸４が遊嵌され、また、それの底
面がターンテーブルＴの外周の環状突起部５上に
載置された状態でターンテーブルＴに結合される
のである。６は必要に応じて設けられる固定部材
であり、この固定部材６は軸４に対して螺着され
るなどして、デイスクの原盤ODがターンテーブ
ルＴに確実に固定されるようにする。現像処理時
間におけるターンテーブルＴの回転数が低く、ま
た、デイスクの原盤ODが充分に大きな重量を有
していて、デイスクの原盤ODが固定部材６を用
いなくてもターンテーブルＴと一体的に回転でき
るような場合には、この固定部材６が必要とされ
ないことは当然である。

RCは裏面カバーであり、この裏面カバーRCは
その上面がターンテーブルＴに載置されているデ
イスクの原盤ODの下面に近接するように、か
つ、ターンテーブルＴの外周側方に全体が位置す
るように設けられているものであり、全体として
還状構造のものとして構成されており、支持体６
ａ，６ａによつて固定部に固着されている。環状
の裏面カバーRCにおける外周壁７は、デイスク
の原盤OD上に供給されている現像液や水などの
液体がデイスクの原盤ODの裏面側にまわり込ん
で来ることを良好に防止する水切り装置として機
能する。また、裏面カバーRCの上方部に設けら
れた溝８は、排水用の溝であり、この排水用の溝
８にはそれの底面より裏面カバーRCの下方に開
口する排水孔９が設けられている。

デイスクの原盤ODの上方には、水のタンク１
０と現像液のタンク１１とが設けられており、タ
ンク１０からの水と、予め定められた規定の濃度
を示すように調合されているタンク１１からの現
像液とは、それぞれの個別に設けられた流量調節
弁１２，１３、混合タンク１４及び配管１５，１
６などを介してノズル１７，１８から流下状態で
デイスクの原盤ODの上に供給される。

図示の例においてノズルは２個のノズル１７，
１８を用いているが、ノズルとしては１個でも、
あるいは３個以上でもよく、また、複数個のノズ
ルが使用される場合には、各ノズルはデイスクの
原盤における各異なる径の位置に配置されるよう
にする。また、デイスクの原盤ODにおける最内
周寄りに配置されるべきノズルの配置位置として
はデイスクの原盤ODの最内周部分における無記
録領域と対応するようになされるのがよい。

現像処理に際して、デイスクの原盤ODが回転
され、ノズル１７，１８からまず水だけがデイス
クの原盤OD上に供給され、次いで水と現像液と
の混合された液体がデイスクの原盤OD上に供給
されるようにするが、このときは次第に水の供給
量を減らして行くことにより、次第に濃度の高い
現像液がデイスクの原盤に供給されるようにす
る。そして、現像の状態が適正な状態に達した時
点からは、現像液の供給量を減少させて行くと共
に、水の供給量を増加させて行つて切れ目なく水
洗い工程に移行されるようにする。デイスクの原
盤OD上に供給された液体は、デイスクの原盤OD
の回転によつて外周方向へと拡がり面上に滑らか
な液体層を形成してデイスクの原盤ODの外周部
から排出される。デイスクの原盤ODの内周部分
に液体が滞留すると現像処理の結果に悪影響を及
ぼすので、デイスクの原盤ODの内周部分の液体
はデイスクの原盤ODの中心孔３からのターンテ
ーブルＴの上面へと排水されるようにする。そし
て、ターンテーブルＴの上面に集められた液体
は、排水パイプ１９，２０によつて下方に排出さ
れる。ターンテーブルＴにおける環状突起部５が
水切り装置としても機能していることは上述の説
明から明らかであろう。デイスクの原盤ODをタ
ーンテーブルＴに固定するのに固定部材６が使用
されていた時は、デイスクの原盤ODの内周部分
に滞留している液体が固定部材６の一部に設けて
ある切欠部２１，２２によつてデイスクの原盤
ODの中心孔３に導かれるようにする。

デイスクの原盤ODの上方に設けられた光源LS
は、現像状態検出用の光をデイスクの原盤ODに
照射する光源であり、この光源LSはデイスクの
原盤ODに付着されているフオトレジスト層２を
構成するのに用いられているフオトレジスト層に
おける分光感度特性上で感度の低い領域の光をデ
イスクの原盤ODに照射させることができるよう
になされているのであり、以下の説明において
は、ヘリウム・ネオン・レーザが用いられている
として記載される。光源LSから照射されたヘリ
ウム・ネオン・レーザ光は、デイスクの原盤OD
を透過してデイスクの原盤ODの裏面から出射す
るが、デイスクの原盤ODのフオトレジスト層２
に現像処理の進行によつて情報信号によるピツト
の配列が形成されはじめると、デイスクの原盤
ODに形成されたピツト配列のパターンが回折格
子となり、デイスクの原盤ODの裏面からは零次
回折光、１次回折光、その他の次数の回折光など
が出射される。

第１図中における裏面カバーRCには、デイス
クの原盤ODの裏面から出射される零次回折光を
受光するための素子PEoと、零次回折光以外の所
定の次数の回折光（以下の説明では１次回折光で
あるとされている）を受光するための素子PE１
とが設けられている。素子PEo，PE１は、それ
の受光面がデイスクの原盤ODのガラスの基板１
の裏面に接近するように裏面カバーRCに設けら
れるのであるが、第１図示の例においては前記し
た素子PEo，PE１としてライトフアイバーが用
いられており、受光した零次回折光をライトフア
イバーPEoを介して光電変換器Doに、また、受
光した１次回折光をライトフアイバーPE１を介
して光電変換器Ｄ１に与えるようにしている。第
２図はライトフアイバーPEo，PE１の配置の状
態を、第１図中の矢印Ａ方向からみた状態のもの
として図示説明しているものである。

実施に当つてはライトフアイバーPEo，PE１
を用いることなく、デイスクの原盤ODの裏面か
ら出射される零次回折光と１次回折光とが、直接
に光電変換器Do，Ｄ１の個別のものに与えられ
るようになされてもよいのである。

前記した素子PEo，PE１はそれらの受光面で
受光の目的とされている次数の回折光を良好に受
光できるような状態となるような配置態様を以つ
て裏面カバーRCに取付けることが必要とされる
のであるが、被現像体における記録パターンが、
例えば第３図ａ〜ｃ図に示されているようなも
の、すなわち、直交する２方向にそれぞれピツト
が配列されているようなパターンを示すものであ
つた場合には、零次以外の回折光は直交する２方
向に出射されることになるから、零次以外の次数
の回折光を受光するための素子PE１は、被現像
体から直交する２方向に出射される回折光の内で
強度の大きな方の回折光が受光できる位置にそれ
の受光面が存在している状態となるように配置さ
れた方が、検出々力が大となつてＳ／Ｎの点から
みて有利となる。

すなわち、被現像体となるデイスクの原盤に形
成されたピツトの配列の態様を示す第３図ａ〜ｃ
図において、第３図ａ図ではデイスクの原盤OD
にピツトの配列による記録跡が渦巻状に形成され
ている状態を示し、また第３図ｂ図では第３図ａ
図中の一部を拡大してピツトの配列の態様を図示
説明している。第３図ｂ図において、図中で縦方
向に並べられて各１列をなすピツトの配列はそれ
ぞれ各別の記録跡を構成しており、また、前記し
た各別の記録跡を構成しているピツトは記録跡の
延長方向に対して直交する方向（図中の横方向）
にも並びを有しているから、回折格子として機能
するピツトの配列パターンは記録跡の延長方向
と、記録跡の延長方向に直交する方向との２つの
方向にピツトの並びを示すものとなつている。

このようなピツトの配列パターンを有するデイ
スクの原盤ODが回折格子として機能することに
よつて生じる零次以外の回折光の射出する方向
は、記録跡の延長方向におけるピツトの並びに対
しては記録跡の延長方向に直交する方向であり、
また、記録跡の延長方向に直交する方向における
ピツトの並びに対しては、記録跡の延長方向であ
る。そして、前記した直交する２方向に出射され
る回折光の強度の相互の関係は、記録跡の延長方
向におけるピツトの並び中でピツトが占める面積
の割合いの方が、記録跡の延長方向に直交する方
向におけるピツトの並び中でピツトが占める面積
の割合よりも大きい（または小さい）場合には、
記録跡の延長方向に直交する方向に出射される回
折光の強度の方が、記録跡の延長方向に出射され
る回折光の強度よりも大きい（または小さい）と
いうものとなる。

第３図ｃ図は、第３図ｂ図示のピツトの配列の
一部を拡大した図であり、この第３図ｃ図におい
てPa１，Pa２はある１つの記録跡を形成してい
るピツトであり、、また、Pb１，Pb２は前記した
ピツトPa１，Pa２の配列によつて形成されてい
る記録跡に隣接する記録跡中のピツトである。ピ
ツトPa１，Pa２，Pb１，Pb２が記録跡の延長方
向にはｄの間隔を有し、また記録跡の延長方向と
直交する方向にはａの間隔を有しているものと
し、さらにピツトにおける記録跡の延長方向の長
さをβ、ピツトにおける記録跡の延長方向と直交
する方向における長さをｂとすると、記録跡の延
長方向に出射される零次以外の回折光の強度が最
大となるのは、β／αが0.5でｂ／ａが１の時の
であり、また、記録跡の延長方向と直交する方向
に出射される零次以外の回折光の強度が最大とな
るのは、ｂ／ａが0.5でβ／αが１の時である。

ところで、デイスクの原盤ODに記録の対象と
される情報信号に従つて形成されるピツトの配列
パターンは、記録されるべき情報信号がFM波の
信号形態の場合には前記したβ／αの値が0.5と
なるようなものとなるが、その場合にトラツクピ
ツチａと、記録跡の延長方向と直交する方向にピ
ツトの長さとの比が0.5以上となされた場合に
は、デイスクの原盤ODのピツトの配列パターン
を回折格子として出射される回折光の内で、強度
の大きな零次以外の回折光が出射される方向は、
記録跡の延長方向となるのである。

したがつて、上記のようなピツトの配列パター
ンを有するデイスクの原盤ODについて、零次以
外の所定の回折光を受光する素子PE１は、記録
跡の延長方向に配置すればよいのであり、第２図
はこのような場合における素子PEo，PE１の配
置の態様について図示したものである。

さて、回折格子における格子の間隔（格子ピツ
チ）をｄ、回折光の出射角度をθ、ｍを回折光の
次数、λを光の波長として、回折現象は dSinθ＝ｍλ ………(1) 前式の(1)式で示されるものであるが、デイスク
の原盤ODにおけるピツトのパターンは記録の対
象とされている情報信号が一定の周波数を有する
信号ではなく、ある周波数範囲内で周波数が変化
している信号であるから、デイスクの原盤ODに
おけるピツトの配列パターンを出射する回折光の
内で、零次の回折光以外の回折光の出射角度は、
記録の対象とされた情報信号の周波数の変化と対
応して変化しているピツトの間隔（これは前記し
た格子ピツチｄと考えてよい）に応じて変化した
ものとなるから、デイスクの原盤ODから出射さ
れる零次以外の任意の特定な次数の回折光に着目
した場合に、その回折光の出射角度は、記録の対
象とされた情報信号の周波数の変化範囲と対応し
て変化しているものとなつており、したがつて、
その回折光を受光するための素子としても、その
受光面が前記のように回折光の出射角度が変化し
ても回折光の受光動作が良好に行なわれうるよう
な形状のもの、例えば、零次以外の所定の次数の
回折光の内で、記録跡の延長方向に出射される回
折光が受光されるようになされている場合におけ
る素子の受光面は、記録跡の延長方向に長い形状
を有するものとなされるのがよい。

第４図ａ，ｂ図は記録の対象とされている情報
信号がある周波数範囲にわたつて周波数を変化さ
せていた時に、デイスクの原盤ODにおけるピツ
トのパターンを回折格子として出射される１次回
折光Ｌ１の出射角度の変化範囲と１次回折光Ｌ１
を受光するための素子PE１の受光面の形状とを
示す平面図｛第４図ａ図｝と側面図｛第４図ｂ
図｝である。

第４図ａ，ｂ図において、PEoは零次回折光を
受光するための素子であるが、零次回折光Loは
ピツトの配列パターンの変化によつても出射角度
が変化しないから、それを受光する素子PEoの受
光面は第４図ａ図示のように平面形状が円形のも
のであつてもよいが、１次回折光Ｌ１はピツトの
配列パターンの変化によつてそれの出射角度が変
化するから、１次回折光Ｌ１を受光するための素
子PE１としては、例えば第４図ａ図示のよう
に、１次回折光Ｌ１の出射角度の変化があつても
１次回折光Ｌ１が良好に受光できるような平面形
状が長方形のものとされるのである。

なお、第４図ａ図中においては、１次回折光Ｌ
１が点状ではなく弧状のものであるとして図示さ
れているが、これは、記録の対象とされている情
報信号が一定の周波数を有する信号ではないため
にデイスクの原盤ODに形成されたピツトの配列
の内で記録跡の延長方向Ｘと直交する方向におけ
るものが一直線上には並ばないためであろうと考
えられる。

デイスクの原盤ODにおけるピツトの配列パタ
ーンを回折格子として生じる回折光を検出して現
像状態を知る場合に、前述のように、デイスクの
原盤に記録の対象とされている情報信号と対応し
て形成させたピツトの配列パターンを回折格子と
して用いても良いことは勿論であるが、デイスク
の原盤ODにおける情報信号の記録領域に、一定
の周波数値を有する記号によつてピツトを形成さ
せた部分を作つておき、この部分を回折格子とし
て用いて回折光を検出するようにしてもよいので
ある。ピツトの配列パターンがフオトレジスト層
２に形成されているデイスクの原盤OD上に液体
の層が存在している状態において、光源LSから
ヘリウム・ネオン・レーザ光を照射した時にデイ
スクの原盤ODから出射される回折光は、零次の
回折光と１次の回折光とが主であつて、２次以上
の回折光は著るしく小さいものとなる。したがつ
て、このような場合には零次以外の所定の回折光
としては１次回折光を用いる。

現像処理の進行に伴なつてデイスクの原盤OD
のフオトレジスト層２に形成されて行くピツト
は、それの形状と深さとが現像の進み具合によつ
て変化して行くから、ピツトの配列パターンより
なる回折格子から出射される回折光の状態も現像
の進み具合に応じて変化しているものとなるが、
実験の結果、零次回折光についてみると、現像処
理の開始の時点から被現像体が適正現像状態にな
るまでの間における零次回折光の強度の変化は約
１％〜２％程度というように非常に少なく、ま
た、零次以外の回折光についてみると、それの強
度は被現像体に対する現像処理の開始の時点から
被現像体が適正現像状態になるまでの間に大巾に
増加する傾向を示すという事実が判明した。

もつとも、零次以外の回折光の強度のレベル
は、零次回折光の強度のレベルに比べて著るしく
低く、また、被現像体となるデイスクの原盤OD
におけるピツトの配列パターン上に既述のような
液体の層があつた場合には、２次以上の次数の回
折光はその存在が殆んど認められない程度のもの
となつていた。

そこで本発明では現像状態の進み具合によつて
も殆んど強度が変化しない零次回折光の強度と、
現像状態の進み具合いに伴なつて強度が変化する
零次以外の所定の次数の回折光の強度との比が、
適正現像状態と対応して予め定められた値となつ
た時を見出して適正現像状態が検出できるように
しているのであるが、被現像体となされるデイス
クの原盤ODが回転するターンテーブルに固着さ
れており、その回転しているデイスクの原盤OD
の上面にノズルから現像液や水などの液体を供給
して、被現像体の上面に液体層を形成させて被現
像体に対する現像処理が行なわれる場合には、回
転状態になされているデイスクの原盤OD上の液
体層の状態が乱れていたり、あるいは現像状態検
出用の光の光路中に不要な液体の飛沫が存在した
り不要な液体の流れが存在したのでは、被現像体
の上面側の液体層を通して被現像体の上面に現像
状態検出用の光を入射させて、その現像状態検出
用の光の入射により被現像体を透過した光の内
で、零次回折光の強度と零次以外の所定の次数の
回折光の強度とを個別に検出し、前記した零次回
折光の強度と、零次以外の所定の次数の回折光の
強度とが予め定められた比となつた時に出力信号
を発生させたところで、正確な現像終了の時点を
知ることができないのである。

それで、本発明の適正現像状態の検出装置にお
いては、被現像体に対する液体の供給がスプレイ
によつて行われたような場合に生じる液体の飛沫
による被現像体上の液体の乱れをなくするため
に、ターンテーブルによつて回転されている被現
像体の上面に対する液体の供給はノズルから現像
液や水などの液体を流下状態で行うようにして、
被現像体の上面に滑らかな状態の液体層が形成さ
れるようにし、また、被現像体に対する現像処理
が行なわれている被現像体の上面側の液体層を通
して被現像体の上面に入射させた現像状態検出用
の光が被現像体を透過した光の内で、零次回折光
の強度と零次以外の所定の次数の回折光の強度と
を個別に検出するための検出手段を、前記の被現
像体の裏面側に対向し、かつ、水切り装置により
少なくとも現像状態検出用の光が通過する部分に
前記した被現像体の上面に供給されている液体が
まわり込むことがないようにされている固定部材
上に設けることによつて、前記した零次回折光の
強度と、零次以外の所定の次数の回折光の強度と
が予め定められた比となつた時に出力信号を発生
させることができ、それによつて、適正現像状態
が正確に検出できるようにしているのである。

第１図中においてデイスクの原盤ODから出射
された零次回折光を受光する素子PEoによつて受
光した零次回折光は光電変換器Doによつて電気
信号に変換され、それが増幅器AMPoで増幅され
た後に低域濾波器LPFoを介して比較器COMPへ
それの一方入力として与えられ、また、デイスク
の原盤ODから出射された１次回折光を受光する
素子PE１によつて受光された１次回折光は光電
変換器Ｄ１によつて電気信号に変換され、それが
増幅器AMP１で増幅された後に、低域濾波器
LPF１及びレベル調整器VRを介して、比較器
COMPへそれの他方入力として与えられて、デイ
スクの原盤ODが適正現像状態になつた時点に、
比較器COMPからの出力端子OUTへ現像終了パ
ルスが送出されるのである。

第１図中の増幅器AMPo，AMP１中に記載の
Ｘ１，Ｘ２００などの表示は、各増幅器における
増幅度を例示したものであり、この例において１
次回折光の強度と対応する検出々力は増幅器
AMP１によつて200倍とされてから、ターンテー
ブルＴの１回転と対応する時間中における受光量
の変動が信号中に現われないようにするための低
域濾波器（時定数回路）LPF１によつて平滑さ
れ、次いでレベル調整器VRによつてレベル調整
が行なわれた後に比較器COMPに与えられ、比較
器COMPにおいて零次回折光の強度と対応する検
出々力と比較される。零次回折光の検出々力も低
域濾波器LPFoによつて平滑されていることはい
うまでもない。

適正現像状態における零次回折光の強度と１次
回折光の強度との比が、例えば、100：１であつ
たとすれば、１次回折光の強度が零次回折光の強
度の1/100になつた時に比較器COMPから現像終
了パルスが送出されうるように、レベル調整器
VRによりレベル設定が行なわれているのであ
る。

デイスクの原盤ODが適正現像状態となされた
時における零次回折光の強度と１次回折光との比
の数値は、前以つて所定の形状寸法及び深さを有
するピツトが配列されており、また、特定なトラ
ツクピツチを有するようにピツトの配列パターン
が形成されている如き標準となるデイスクの原盤
を作り、この標準となるデイスクの原盤における
ピツトの配列パターン面上に液体の薄膜を構成さ
せた状態において、零次回折光の強度と１次回折
光の強度との比を求めることにより得られること
はいうまでもない。

適正現像状態時におけるデイスクの原盤から出
射される零次回折光の強度と１次回折光の強度と
の比の値を求めるために使用される前記した標準
となるデイスクの原盤に記録されるべき信号は、
特定な単一周波数の信号であつても、あるいは通
常のデイスクに対して記録されるような数MHz
にわたつて周波数値が変動しているような信号で
あつても、そのどちらかであつても差支えなく、
前記の差によつて零次回折光の強度と１次回折光
の強度との比の値には大巾な違いは生じない。こ
れは検出用のレーザ光のスポツト中に数百本の記
録跡が含まれて、その数百本の記録跡の情報の平
均化されたものによつて検出々力が生じているか
らであろうと思われる。

前記した標準となるデイスクの原盤は、それを
用いて零次回折光と１次回折光との比の数値を求
めるためだけに必要とされるものであるから、前
記した数値が求められた後には不要なものとなる
ことはいうまでもない。

また、標準となるデイスクの原盤を用いて求め
た零次回折光と１次回折光との強度の比の数値
は、その標準となるデイスクの原盤におけるピツ
トの形状寸法及び深さならびにトラツクピツチな
どと、ピツトの形状寸法及び深さならびにトラツ
クピツチなどが同じデイスクの原盤の現像処理の
際の適正現像状態の検出のためにだけ用いられう
るのであり、ピツトの形状寸法、ピツトの深さ、
トラツクピツチなどを異にしているデイスクの原
盤の現像処理に際しては用いることができない。

適正現像状態となつた時点において比較器
COMPから出力端子OUTに送出された現像終了
パルスは、現像液の供給の停止のための制御動作
に用いられ、デイスクの原盤は適正現像状態にお
いて現像処理が終了されるのである。

以上の説明から明らかなように、本発明では現
像状態の進み具合いによつても殆んど強度が変化
しない零次回折光の強度と、現像状態の進み具合
いに伴なつて強度が変化する零次以外の所定の次
数の回折光の強度との比が、適正現像状態と対応
して予め定められた値となつた時を見出して適正
現像状態が検出できるようにする際に、被現像体
となされるデイスクの原盤ODが回転するターン
テーブルに固着されており、その回転しているデ
イスクの原盤ODの上面にノズルから現像液や水
などの液体を供給して、被現像体の上面に液体層
も形成させて被現像体に対する現像処理が行なわ
れる場合には、回転状態になされているデイスク
の原盤OD上の液体層の状態が乱れていたり、あ
るいは現像状態検出用の光の光路中に不要な液体
の飛沫が存在したり不要な液体の流れが存在した
のでは、被現像体の上面側の液体層を通して被現
像体の上面に現像状態検出用の光を入射させて、
その現像状態検出用の光の入射により被現像体を
透過した光の中で、零次回折光の強度と零次以外
の所定の次数の回折光の強度とを個別に検出し、
前記した零次回折光の強度と、零次以外の所定の
次数の回折光の強度とが予め定められた比となつ
た時に出力信号を発生させたところで、正確な現
像終了の時点を知ることはできない点を改善する
ために、ターンテーブルによつて回転されている
被現像体の上面に対する液体の供給はノズルから
現像液や水などの液体を流下状態で行うようにし
て、被現像体の上面に滑らかな状態の液体層が形
成されるようにし、また、被現像体に対する現像
処理が行なわれている被現像体の上面側の液体層
を通して被現像体の上面に入射させた現像状態検
出用の光が被現像体を透過した光の内で、零次回
折光の強度と零次以外の所定の次数の回折光の強
度とを個別に検出するための検出手段を、前記の
被現像体の裏面側に対向し、かつ、水切り装置に
より少なくとも現像状態検出用の光が通過する部
分に前記した被現像体の上面に供給されている液
体がまわり込むことがないようにされている固定
部材上に設けることによつて、前記した零次回折
光の強度と、零次以外の所定の次数の回折光の強
度とが予め定められた比となつた時に出力信号を
発生させることができ、それによつて、適正現像
状態が正確に検出できので、被現像体を常に適正
な現像状態に迄現像することが容易となり、本発
明装置によれば既述した従来の問題点はすべて良
好に解消できるのである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の適正現像状態の検出装置が用
いられている現像装置の縦断正面図、第２図は受
光素子の配置例を示す一部の縦断側面図、第３図
ａ〜ｃ図はピツトの配列パターンの平面図、第４
図ａ，ｂ図は回折光の出射位置と受光素子の配置
態様との関連を示す平面図と側面図である。 OD……デイスクの原盤、Ｍ……モータ、
PEo，PE１……回折光を受光するための素子、
Do，Ｄ１……光電変換素子、LS……光源、
AMPo，AMP１……増幅器、LPFo，LPF１……
低域濾波器、VR……レベル調整器、COMP……
比較器、OUT……出力端子、Ｔ……ターンテー
ブル、RC……裏面カバー。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 被現像体に対する現像処理の進行中に、現像
   状態検出用の光を被現像体の一面から入射させ、
   被現像体を透過した現像状態検出用の光における
   零次回折光の強度と零次以外の所定の次数の回折
   光の強度とを個別に検出し、前記した零次回折光
   の強度と、零次以外の所定の次数の回折光の強度
   とが予め定められた比となつた時に出力信号を発
   生させるようにした適正現像状態の検出装置にお
   いて、ターンテーブルによつて回転されている被
   現像体の上面にノズルから現像液や水などの液体
   を流下状態で供給し、被現像体の上面に液体層を
   形成して被現像体に対する現像処理が行なわれて
   いる被現像体の上面側の液体層を通して被現像体
   の上面に現像状態検出用の光を入射させる手段
   と、現像状態検出用の光の入射により被現像体を
   透過した光の内で、零次回折光の強度と零次以外
   の所定の次数の回折光の強度とを個別に検出する
   ための検出手段を、前記の被現像体の裏面側に対
   向し、かつ、水切り装置により少なくとも現像状
   態検出用の光が通過する部分に前記した被現像体
   の上面に供給されている液体がまわり込むことが
   ないようにされている固定部材上に設けると共
   に、前記した零次回折光の強度と、零次以外の所
   定の次数の回折光の強度とが予め定められた比と
   なつた時に出力信号を発生させる手段とを備えて
   なる適正現像状態の検出装置。 ２ 零次以外の所定の次数の回折光を１次回折光
   とした特許請求の範囲第１項記載の適正現像状態
   の検出装置。 ３ 被現像体における記録のパターンが平面形状
   として２次元的なものである時に、被現像体の一
   面から入射させた現像状態検出用の光が被現像体
   を透過した光の内で、零次回折光との間で強度の
   比を求めるために使用される零次以外の所定の次
   数の回折光の検出は、２方向に対し出射される前
   記した零次以外の所定の次数の回折光の内で強度
   の大きな方の回折光を検出しうるように検出手段
   を設けるようにした特許請求の範囲第１項記載の
   適正現像状態の検出装置。 ４ 被現像体における記録パターンが、凹凸また
   は濃淡の配列による渦巻状または同心円状のもの
   である時に、零次以外の所定の次数の回折光の検
   出手段を、前記した記録パターンにおける渦巻ま
   たは同心円の接続方向に配置してなる特許請求の
   範囲第１項に記載の適正現像状態の検出装置。 ５ ピツトの配列によつて渦巻状または同心円状
   の記録跡のパターンが形成されている如き被現像
   体からの零次以外の所定の次数の回折光を検出す
   るための検出手段における受光部として、渦巻状
   または同心円状の記録跡の延長方向の寸法の方が
   前記の記録跡の巾方向の寸法よりも長くなされた
   受光面を有するものを用いた特許請求の範囲第１
   項に記載の適正現像状態の検出装置。