JPH0556576B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光学的に情報を記録する円盤状記録担
体の現像モニター方法に関するもので、この現像
モニター方法は、光学式ビデオデイスク、コンパ
クトデイジタルオーデイオデイスクに代表される
各種光デイスクの現像工程に使用されるものであ
る。

従来例の構成とその問題点 光学的に情報を記録する円盤状記録担体の現像
モニター方法は、従来から以下に説明する方法が
広く用いられている。

第１図は従来例を示したもので、１は、たとえ
ばガラス円盤のような基板の上にレジストが塗布
され、光学的記録のなされた円盤状記録担体（以
下デイクスと呼ぶ）、２はデイスクの情報信号記
録領域、３は現像モニター用の信号記録領域、４
は信号記録領域３に入射するレーザ光、５と６は
それぞれ、信号記録領域３でデイスク１の半径方
向に回折されたレーザ光４の０次光、１次光を検
出する光検出器、７は現像液である。

デイスク１を回転させながら現像液７をデイス
ク１上に流し、同時に光検出器５，６の出力を検
出することによつて現像のモニターを行う。

第２図に現像モニターの原理を示す。

８は現像不足でわずかに形成された凹凸、９は
適正な現像状態になつている凹凸で、たとえば凹
部と凸部の幅が等しくなつている場合を例にと
る。１０は現像超過で、凸部が非常に少くなつた
凹凸を示している。現像状態によつて第２図のよ
うに凹部の長さと凸部の長さの比が変化する凹凸
は、レーザ光４に対し回折格子として働き、凹部
と凸部の長さの比（以下デユーテイと呼ぶ）によ
つてレーザ光４の回折効率を変化させる。第３図
にデユーテイと回折効率の関係を示す。第３図の
１１は第２図の凹凸８による回折効率を、１２は
凹凸９による回折効率を、１３は凹凸１０による
回折効率を示している。たとえばデユーテイ50％
で現像を停止させたい時には、光検出器５と６の
出力の比が、第３図の回折率１２になつた時に現
像を停止してやればよい。

しかしながら、上記のような現像モニター方法
では、凹凸の半径方向の回折効率、すなわち凹凸
の幅方向の回折効率しか検出していないので、凹
凸の幅方向のデユーテイしか制御できない。しか
し実際のデイスクの再生信号の特性は、凹凸の円
周方向のデユーテイ、すなわち凹凸の長さ方向の
デユーテイによつて大きく影響される。

たとえばビデオデイスクのようなものの場合
は、凹凸のデユーテイが情報電気信号のデユーテ
イと異なると、映像信号と音声信号の間の相互干
渉が増加し再生画面上にノイズが現れたりする。
またコンパクトデイスクの場合は、再生波形のア
イが開かないために、正確な復調が行えない等の
問題が生じる。以上のような理由からデイスク上
に形成される凹凸の長さ方向のデユーテイを正確
に制御する必要があるが、デイスク上に形成され
る凹凸のデユーテイは、光デイスクの現像条件に
よつて大きく変化するため、凹凸の長さ方向のデ
ユーテイをモニターしながら現像を行うことが必
要となる。

しかし従来の信号記録領域３の凹凸１４は第４
図のように隣接するトラツクの空間的位相がラン
ダムになつているため、第５図に示すように信号
記録領域３からのレーザ光４の円周方向の回折光
１５は散乱してしまい、検出することができない
という問題点を有していた。

また従来の方法でも、凹凸の凹部と凸部に入射
するレーザ光に対する位相差が既知であれば、凹
凸の幅方向のデユーテイより長さ方向のデユーテ
イを求めることは可能である。しかしこれは原理
的には可能であるが、実際上は以下に示すような
多くの問題点を有している。まず位相差を知るた
めにはレジストの膜厚、屈折率を正確に測定しな
ければならない。しかし膜厚の測定は非常に難し
く、また実際の膜厚はデイスク上で厚みムラを生
じ、けつして均一なものではない。もし膜厚や屈
折率の測定ができたとしても、凹凸の幅方向のデ
ユーテイより長さ方向のデユーテイを求めるため
には、凹凸をデイスク上に記録する時の光ビーム
のビーム径や光強度を正確に調整しなければなら
ない。すなわち、凹凸を記録する時のビームのデ
イスクの径方向の長さと円周方向の長さが異つた
りすると凹凸の幅が一定になるように現像をコン
トロールしても凹凸の長さは異つてしまう。この
ように凹凸の幅方向のデユーテイより長さ方向の
デユーテイをコントロールするためには、多くの
パラメータを正確に制御、測定しなければならな
いという問題点を有していた。

発明の目的 本発明の目的は、凹凸の長さ方向の回折光を検
出し、凹凸の長さ方向のデユーテイを直接制御す
ることを可能とする現像モニター方法を提供する
ことである。

発明の構成 本発明の現像モニター方法は、デイスクの現像
モニター用の信号記録領域の隣接するトラツク間
の凹凸の空間的位相が、デイスクの少くとも１ケ
所以上で同位相となり、その領域の面積が、入射
するレーザ光の面積と少くとも同程度であるよう
に構成されているので凹凸が同位相になつている
領域へ入射したレーザ光の、デイスクの円周方向
への回折光は散乱せず、この円周方向の回折光の
回折効率を検出することにより、凹凸の長さ方向
のデユーテイを直接制御することが可能となるも
のである。

実施例の説明 以下本発明の一実施例について、図面を参照し
ながら説明する。

第６図は本発明の一実施例における現像モニタ
ー用信号記録の方法を示す図で、１６は信号を記
録するための光源であるレーザ、１７はレーザ光
１６を強度変調する変調装置、１８はレーザ光を
デイスク１の記録面上に集束させる集光レンズ、
１９は集光レンズ１８が常にデイスク１の盤上に
光を集束するようにデイスク１の面振れにしたが
つて集光レンズ１８を上下させるレンズ逐動装
置、２０は変調装置１７に変調を与える信号発生
装置、２１は信号発生装置２０に同期をかけるた
めの同期パルスとして、少くともデイスク１回転
あたり１個以上のデイスク回転位置検出信号を発
生するデイスク回転装置である。

第６図のように構成された信号記録系によつて
複数のトラツクにわたり記録された現像モニター
用信号領域の凹凸の図を第７図に示す。２２は回
転装置２１の同期パルスによつて隣接するトラツ
ク間の空間的位相がそろつた凹凸、２３は位相の
そろつていない凹凸、２４は同期パルスとして用
いている。デイスクの回転位置検出信号の発生す
る位置である。第８図に、第７図の凹凸２２の領
域に入射したレーザ光４が回折される様子を示
す。第８図において２５はデイスクの円周方向、
すなわち凹凸の長さ方向に回折される１次回折
光、２６は１次光２５の光強度を検出するための
光検出器である。第８図に示したように空間的に
位相のそろつている凹凸２２からのデイスクの円
周方向の回折光２５は散乱しないので、光検出器
２６によつてその強度を検出することができ、光
検出器５による０次光の強度との比をとることに
よつて、円周方向の回折効率を検出することが可
能となる。実際の現像においては、デイスク全体
を均一に現像するためにデイスクを回転させなが
ら現像する手法が広く用いられている。この時も
し凹凸の位相がそろつている領域がデイスク上で
１ケ所であるとすると、凹凸の長さ方向の回折光
が得られるのは、デイスクが１回転する間１回だ
けとなる。１ケ所で位相をそろえた場合、凹凸の
長さ方向の回折光が安定に得られる範囲は約３〜
４度であり、それ以外の領域では回折光は得られ
ない。この場合は、光検出器２６からの出力をサ
ンプルホールドしてやり、凹凸の長さ方向の回折
光が得られた時の出力のみを検出してやればよ
い。またこの時にはサンプルホールドでデイスク
１回転につき１回しか現像状態をモニターしてい
ないのでデイスクの回転周期を、現像の進行時間
よりも十分短くしてやればよい。また回転装置２
１からの周期パルスが100個程度以上であれば、
ほとんどデイスクの全周にわたつて凹凸の位相が
同位相となるので、デイスクを回転させながら現
像を行つた時、連続に回折光を検出し、現像モニ
ターを行うことが可能となる。円周方向の回折効
率、すなわち凹凸の長さ方向の回折効率を検出す
れば、従来例の第２図、第３図に示したものと全
く同じ原理によつて、凹凸の長さ方向のデユーテ
イをモニターすることができ、現像中に凹凸の長
さ方向の回折効率をモニターしながら現像をコン
トロールすることにより、ピツトの長さ方向のデ
ユーテイを任意に制御することが可能となる。

また本実施例の第８図に示したように、本実施
例では凹凸の長さ方向の回折光の検出と同時に、
光検出器６により、従来例と同じ凹凸の幅方向の
回折光も検出できるので、凹凸と長さ方向と幅方
向の回折光を、すなわち凹凸の長さ方向と幅方向
のデユーテイを独立にモニターしながら現像を制
御することも可能である。

以上のように本実施例によれば、現像モニター
用の信号記録領域の、凹凸の円周方向の空間的位
相を同位相にすることにより、凹凸の円周方向の
回折効率のモニター、すなわち凹凸の長さ方向の
デユーテイを直接モニターし、制御することが可
能となつた。

発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明は、デ
イスクの現像モニター用信号記録領域の凹凸の円
周方向の空間的位相がそろつているので、凹凸の
長さ方向の回折光率の検出が可能となり、ピツト
の長さ方向のデユーテイを直接モニターできると
いう優れた効果が得られる。その効果により、現
像しながらピツトの長さを任意に制御できるとい
う効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の現像モニターの原理図、第２図
は現像状態による凹凸の変化を示す図、第３図は
凹凸のデユーテイと回折効率の関係を示す図、第
４図は従来の空間的に位相のそろつていない凹凸
の図、第５図は従来の凹凸からの回折光の図、第
６図は本発明の一実施例の凹凸記録系の図、第７
図は空間的に位相のそろつている凹凸の図、第８
図は本発明の一実施例の凹凸からの回折光の図で
ある。 ２１……回転装置、２２，２３……凹凸、２６
……光検出器。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ レーザ光によつて情報を記録される円盤状記
   録担体において、前記情報信号記録領域外に、複
   数トラツクの信号記録領域を有し、前記領域に記
   録されている隣接するトラツク間の凹凸の空間的
   位相が、円盤状記録担体の少くとも１ケ所以上で
   同位相となつており、前記同位相の領域は、前記
   同位相の領域に入射するレーザ光と少くとも同程
   度の面積を有しており、前記同位相の領域に入射
   したレーザ光の円盤状記録担体の円周方向の回折
   光を検出し、現像を制御することを特徴とした円
   盤状記録担体現像モニター方法。 ２ 円盤状記録担体上の空間的に同位相である凹
   凸を形成する手段として、凹凸を記録するための
   レーザ光を強度変調する信号源と、その信号源に
   外部から同期をかけるための同期信号として、円
   盤状記録担体の回転位置検出信号を用いることを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載の円盤状記
   録担体現像モニター方法。 ３ 円盤状記録担体の回転位置検出信号として、
   円盤状記録担体の回転装置の周波数発電機の出力
   信号、あるいは回転装置と連動するエンコーダー
   の出力パルスを用いることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項または第２項記載の円盤状記録担体
   現像モニター方法。