JP2536056B2 - 現像モニタ装置 - Google Patents
現像モニタ装置Info
- Publication number
- JP2536056B2 JP2536056B2 JP63116146A JP11614688A JP2536056B2 JP 2536056 B2 JP2536056 B2 JP 2536056B2 JP 63116146 A JP63116146 A JP 63116146A JP 11614688 A JP11614688 A JP 11614688A JP 2536056 B2 JP2536056 B2 JP 2536056B2
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- Japan
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- diffracted light
- laser beam
- signal
- order diffracted
- light ratio
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、現像モニタ装置、特に、光ディスク原盤の
現像の進行をモニタする現像モニタ装置に関する。
現像の進行をモニタする現像モニタ装置に関する。
従来の現像モニタ装置は、第４図に示すようにチャッ
クテーブル２に固着されスピンドル３により回転され現
像されている光ディスク原盤１のパターン面にレーザ光
ａを垂直に照射することにより得られる０次回折光ｂと
１次回折光ｃとを検出する一対の検出器4,5と一対の検
出器4,5の電圧信号d,eを増幅して０次回折光強度信号ｆ
と１次回折光強度信号ｇとする一対の増幅器8,9と、回
折光比演算部11とを含んで構成されている。
クテーブル２に固着されスピンドル３により回転され現
像されている光ディスク原盤１のパターン面にレーザ光
ａを垂直に照射することにより得られる０次回折光ｂと
１次回折光ｃとを検出する一対の検出器4,5と一対の検
出器4,5の電圧信号d,eを増幅して０次回折光強度信号ｆ
と１次回折光強度信号ｇとする一対の増幅器8,9と、回
折光比演算部11とを含んで構成されている。
回折光比演算部11は０次回折光強度信号ｆと、１次回
折光強度信号ｇとから回折光比g/fを演算し回折光比信
号ｈとして端子200に出力する。端子200に出力される回
折光比信号ｈが所望の回折光比となったとき現像液の滴
下を停止し、現像を終了する。また、回折光比とグルー
ブ幅とは比例関係にあることが公知でありモニタ位置で
のグルーブ幅を一定とすることができる。
折光強度信号ｇとから回折光比g/fを演算し回折光比信
号ｈとして端子200に出力する。端子200に出力される回
折光比信号ｈが所望の回折光比となったとき現像液の滴
下を停止し、現像を終了する。また、回折光比とグルー
ブ幅とは比例関係にあることが公知でありモニタ位置で
のグルーブ幅を一定とすることができる。
しかしながら実際の露光においてはパターンの半径方
向で単位面積あたりの露光量に差が生じるために前記モ
ニタ半径以外でグルーブ幅に差が生じることになる。
向で単位面積あたりの露光量に差が生じるために前記モ
ニタ半径以外でグルーブ幅に差が生じることになる。
しかしながら、このような上述した従来の現像モニタ
装置は、光ディスク原盤上の半径方向の一点にレーザ光
を照射することにより、現像の進行に伴って得られる０
次回折光と１次回折光とを一対の検出器と増幅器とを用
いて光強度検出する構成となっているため、光ディスク
原盤上のパターン半径方向において単位面積あたりの露
光量が変化し回折光比信号が変化しても前記パターンの
半径方向の回折光比信号のモニタができないという欠点
があった。
装置は、光ディスク原盤上の半径方向の一点にレーザ光
を照射することにより、現像の進行に伴って得られる０
次回折光と１次回折光とを一対の検出器と増幅器とを用
いて光強度検出する構成となっているため、光ディスク
原盤上のパターン半径方向において単位面積あたりの露
光量が変化し回折光比信号が変化しても前記パターンの
半径方向の回折光比信号のモニタができないという欠点
があった。
本発明の現像モニタ装置は、回転する光ディスク原盤
のパターン面上の半径方向に順次レーザビームを走査す
る走査手段と、現像の進行に伴って前記パターン面から
得られる前記レーザビームの０次回折光と１次回折光と
をサンプリングする１対の検出器と、前記検出器を前記
レーザビームの走査と一致させて移動する移動ステージ
と、前記検出器から得られる電圧信号を増幅する一対の
増幅器と、前記増幅器から得られる０次回折光強度信号
と一次回折光強度信号とから回折光比を演算する回折光
比演算部とを含んで構成される。
のパターン面上の半径方向に順次レーザビームを走査す
る走査手段と、現像の進行に伴って前記パターン面から
得られる前記レーザビームの０次回折光と１次回折光と
をサンプリングする１対の検出器と、前記検出器を前記
レーザビームの走査と一致させて移動する移動ステージ
と、前記検出器から得られる電圧信号を増幅する一対の
増幅器と、前記増幅器から得られる０次回折光強度信号
と一次回折光強度信号とから回折光比を演算する回折光
比演算部とを含んで構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明
する。
する。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第１図に示す現像モニタ装置において、光ディスク原
盤１はチャックテーブル２に固着されスピンドル３によ
り回転されている。レーザビームa1〜anを光ディスク原
盤１の半径方向に走査手段４により順次に走査しレーザ
ビームａとしてレーザビームa1,a2,a3,〜,anを光ディス
ク原盤１のパターン面上に照射すれば、これに応じた０
次回折光ｂと１次回折光ｃが得られることになる。
盤１はチャックテーブル２に固着されスピンドル３によ
り回転されている。レーザビームa1〜anを光ディスク原
盤１の半径方向に走査手段４により順次に走査しレーザ
ビームａとしてレーザビームa1,a2,a3,〜,anを光ディス
ク原盤１のパターン面上に照射すれば、これに応じた０
次回折光ｂと１次回折光ｃが得られることになる。
また、０次回折光ｂは検出器５により、１次回折光ｃ
は検出器６によりそれぞれ検出される。検出器5,6は移
動ステージ８に固定され、レーザビームのa1〜anの走査
手段４に一致して光ディスク原盤１の半径方向にモータ
７により順次移動される。
は検出器６によりそれぞれ検出される。検出器5,6は移
動ステージ８に固定され、レーザビームのa1〜anの走査
手段４に一致して光ディスク原盤１の半径方向にモータ
７により順次移動される。
したがって、０次回折光ｂは検出器５によりサンプリ
ング検出され電圧信号ｄとして出力され、１次回折光ｃ
は検出器６によりサンプリング検出され電圧信号ｅとし
て出力される。
ング検出され電圧信号ｄとして出力され、１次回折光ｃ
は検出器６によりサンプリング検出され電圧信号ｅとし
て出力される。
増幅器９は電圧信号ｄを増幅して０次回折光強度信号
ｆとして出力し、増幅器10は電圧信号ｅを増幅して１次
回折光強度信号ｇとして出力する。
ｆとして出力し、増幅器10は電圧信号ｅを増幅して１次
回折光強度信号ｇとして出力する。
回折光比演算部11は前記０次回折光強度信号ｆと、１
次回折光強度信号ｇとから回折光比を演算して回折光比
信号ｈとして端子200に出力される。
次回折光強度信号ｇとから回折光比を演算して回折光比
信号ｈとして端子200に出力される。
第２図は第１図に示す走査手段の一例を示す斜視図で
ある。
ある。
第２図に示す走査手段は、モータ21により回転される
ポリゴンミラー20にレーザビームａを照射しｆθレンズ
22と長尺ミラー23を介することによりレーザビームａは
順次走査されレーザビームa1,a2,a3,〜anとして光ディ
スク原盤１に照射される。
ポリゴンミラー20にレーザビームａを照射しｆθレンズ
22と長尺ミラー23を介することによりレーザビームａは
順次走査されレーザビームa1,a2,a3,〜anとして光ディ
スク原盤１に照射される。
第３図は第１図に示す回折光比演算部から出力される
回折光比信号と光ディスク原盤のパターン半径との関係
を示すグラフであり、半径方向の内周γ２から外周γ３
にかけて単位面積あたりの露光量が一定の場合は、内周
γ2,中周γ1,外周γ３の回折光比信号ｈは一定値h1とな
り直線30となるが、内周γ１の露光量が外周γ３の露光
量よりも小さいときは直線31となり、内周γ１の露光量
が外周γ３の露光量よりも大きいときは直線32となる。
回折光比信号と光ディスク原盤のパターン半径との関係
を示すグラフであり、半径方向の内周γ２から外周γ３
にかけて単位面積あたりの露光量が一定の場合は、内周
γ2,中周γ1,外周γ３の回折光比信号ｈは一定値h1とな
り直線30となるが、内周γ１の露光量が外周γ３の露光
量よりも小さいときは直線31となり、内周γ１の露光量
が外周γ３の露光量よりも大きいときは直線32となる。
したがって、本発明の現像モニタ装置を使用してパタ
ーン半径方向の回折光比信号を検出し、パターンの内周
の回折光比信号が外周の回折光比信号より大きいとき
は、例えば現像液の滴下を外周に移動させてパターン内
周の現像進行をおされることにより、また、パターンの
内周の回折光比信号が外周の回折光比信号より小さいと
きは、例えば純水の滴下を外周において行ない、パター
ン外周の現像進行をおさえることによりパターン内外周
において均一なグルーブ幅を作ることが可能となる。
ーン半径方向の回折光比信号を検出し、パターンの内周
の回折光比信号が外周の回折光比信号より大きいとき
は、例えば現像液の滴下を外周に移動させてパターン内
周の現像進行をおされることにより、また、パターンの
内周の回折光比信号が外周の回折光比信号より小さいと
きは、例えば純水の滴下を外周において行ない、パター
ン外周の現像進行をおさえることによりパターン内外周
において均一なグルーブ幅を作ることが可能となる。
本発明の現像モニタ装置は、光ディスク原盤のパター
ン面上の同一半径方向にレーザビームを順次走査し、得
られる０次回折光と一次回折光とから回折光比を順次検
出することにより、光ディスク原盤上のパターン半径方
向において単位面積あたりの露光量が変化した場合にパ
ターンの半径方向の回折光比信号の変化をモニタできる
という効果がある。
ン面上の同一半径方向にレーザビームを順次走査し、得
られる０次回折光と一次回折光とから回折光比を順次検
出することにより、光ディスク原盤上のパターン半径方
向において単位面積あたりの露光量が変化した場合にパ
ターンの半径方向の回折光比信号の変化をモニタできる
という効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
第１図に示す走査手段の一例を示す斜視図、第３図は第
１図に示す実施例における回折光比信号とパターン半径
との関係を示すグラフ、第４図は従来の一例を示すブロ
ック図である。 １……光ディスク原盤、２……チャックテーブル、３…
…スピンドル、４……走査手段、5,6……検出器、７…
…モータ、８……移動ステージ、9,10……増幅器、11…
…回折光比演算部、20……ポリゴンミラー、21……モー
タ、22……ｆθレンズ、23……長尺ミラー、30,31,32…
…直線、 a,a1,a2,a3,〜,an……レーザビーム、ｂ……０次回折
光、ｃ……１次回折光、d,e……電圧信号、ｆ……０次
回折光強度信号、ｇ……１次回折光強度信号、h,h1……
回折光比信号、γ，γ1,γ2,γ３……半径。
第１図に示す走査手段の一例を示す斜視図、第３図は第
１図に示す実施例における回折光比信号とパターン半径
との関係を示すグラフ、第４図は従来の一例を示すブロ
ック図である。 １……光ディスク原盤、２……チャックテーブル、３…
…スピンドル、４……走査手段、5,6……検出器、７…
…モータ、８……移動ステージ、9,10……増幅器、11…
…回折光比演算部、20……ポリゴンミラー、21……モー
タ、22……ｆθレンズ、23……長尺ミラー、30,31,32…
…直線、 a,a1,a2,a3,〜,an……レーザビーム、ｂ……０次回折
光、ｃ……１次回折光、d,e……電圧信号、ｆ……０次
回折光強度信号、ｇ……１次回折光強度信号、h,h1……
回折光比信号、γ，γ1,γ2,γ３……半径。
Claims (1)
- 【請求項１】回転する光ディスク原盤のパターン面上の
半径方向に順次レーザビームを走査する走査手段と、現
像の進行に伴って前記パターン面から得られる前記レー
ザビームの０次回折光と１次回折光とをサンプリングす
る１対の検出器と、前記検出器を前記レーザビームの走
査と一致させて移動する移動ステージと、前記検出器か
ら得られる電圧信号を増幅する一対の増幅器と、前記増
幅器から得られる０次回折光強度信号と１次回折光強度
信号とから回折光比を演算する回折光比演算部とを含む
ことを特徴とする現像モニタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63116146A JP2536056B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 現像モニタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63116146A JP2536056B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 現像モニタ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01286148A JPH01286148A (ja) | 1989-11-17 |
| JP2536056B2 true JP2536056B2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=14679884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63116146A Expired - Fee Related JP2536056B2 (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 現像モニタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2536056B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60212832A (ja) * | 1984-04-09 | 1985-10-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 円盤状記録担体現像モニタ−方法 |
| JPH0320915Y2 (ja) * | 1984-12-01 | 1991-05-07 | ||
| JPS61130032U (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-14 |
-
1988
- 1988-05-12 JP JP63116146A patent/JP2536056B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01286148A (ja) | 1989-11-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |