JPH0320915Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0320915Y2 JPH0320915Y2 JP1984182951U JP18295184U JPH0320915Y2 JP H0320915 Y2 JPH0320915 Y2 JP H0320915Y2 JP 1984182951 U JP1984182951 U JP 1984182951U JP 18295184 U JP18295184 U JP 18295184U JP H0320915 Y2 JPH0320915 Y2 JP H0320915Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- recording medium
- development
- light beam
- diffracted light
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 6
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 claims description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
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- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の対象〕
本考案は、円盤状記録媒体の現像処理装置に関
し、特に複数の位置に記録溝幅及び深さ検知用の
光ビームを照射して現像の進行程度を監視し、記
録溝の幅及び深さの誤差を少くした現像処理装置
に関するものである。
し、特に複数の位置に記録溝幅及び深さ検知用の
光ビームを照射して現像の進行程度を監視し、記
録溝の幅及び深さの誤差を少くした現像処理装置
に関するものである。
現像処理工程は、ホトレジスト膜厚、露光条
件、現像液の濃度、温度および現像時間等の条件
を、厳密に規定し行つても、これらにわずかな誤
差でもあると、所望の溝幅、深さがえられない。
ところで、情報記録媒体の溝は一種の回折格子と
考えられるので、回折光強度は記録されたピツト
の幅と深さに関係する。従つて回折光強度を監視
することによつて、現像の進行程度がわかる。そ
こで従来りこのことを利用して現像処理を制御す
ることが行われている。
件、現像液の濃度、温度および現像時間等の条件
を、厳密に規定し行つても、これらにわずかな誤
差でもあると、所望の溝幅、深さがえられない。
ところで、情報記録媒体の溝は一種の回折格子と
考えられるので、回折光強度は記録されたピツト
の幅と深さに関係する。従つて回折光強度を監視
することによつて、現像の進行程度がわかる。そ
こで従来りこのことを利用して現像処理を制御す
ることが行われている。
しかしながら、現像は円盤を回転させ、この円
盤の上方で、半径方向の一線上に固定されたノズ
ルから情報記録媒体面に現像液をスプレーするこ
とにより行うので、現像液は層流を形成する。従
つて場所や時間経過により層の厚さが異つたり、
回転により表面に波を生ずるので、１点における
回折光強度の測定による制御では誤差を生ずる。
盤の上方で、半径方向の一線上に固定されたノズ
ルから情報記録媒体面に現像液をスプレーするこ
とにより行うので、現像液は層流を形成する。従
つて場所や時間経過により層の厚さが異つたり、
回転により表面に波を生ずるので、１点における
回折光強度の測定による制御では誤差を生ずる。
現像液の層流の厚みや表面の状態による影響を
少くして、安定した回折光強度を求め、精度よく
現像処理の制御を行う。
少くして、安定した回折光強度を求め、精度よく
現像処理の制御を行う。
記録媒体の複数部分に、光ビームを照射して回
折光を測定し、各部の回折光強度比を算出し、こ
れらの平均をとることにより安定した測定が行え
るので、精度よく現像の制御を行うことが出来
る。
折光を測定し、各部の回折光強度比を算出し、こ
れらの平均をとることにより安定した測定が行え
るので、精度よく現像の制御を行うことが出来
る。
第１図Ａ，Ｂは本考案の一実施例である。第１
図Ａで、記録媒体面２は、ミラー５，６で分割さ
れたレーザ４からの光ビーム７，８をうけて、現
像液ノズル１９からのスプレーによる現像の進行
とともに回折光を生ずる。０次，１次，２次の回
折光はそれぞれ光電素子３１，３２，３３及び３
４，３５，３６によつて、電気信号にかえられ、
割算回路１５，１６で０次，１次の回折光比と１
次，２次の回折光比とが算出される。演算回路１
７は割算回路１５，１６からのそれぞれ２種類の
回折光比から、周知の演算によりピツトの幅及び
深さを求めて両所の平均をとり、現像最適値に達
した場合は、制御回路１８に信号を送り、スプレ
ー１９をとめ、水のノズル２０より水を注入し、
水洗完了とともにモーター３を停止し現像を終了
する。スプレー１９及び水のノズル２０は第１図
Ｂの様に円盤２上の半径方向の基準線４０の上方
に設けられており、光ビーム７及び８は基準線４
０から120゜ずつ離れた基準線４１及び４２上で、
且つ同心円５０上に下方から円盤に対して垂直に
照射される。光電素子３１及び３４は光ビーム７
及び８の延長線上にあつて０次の回折光を検出
し、光電素子３２，３３及び３５，３６はそれぞ
れ基準線４１及び４２を含むデイスク２の垂直面
内にあつて、光ビーム７及び８の１次、２次の回
折光を検出する。
図Ａで、記録媒体面２は、ミラー５，６で分割さ
れたレーザ４からの光ビーム７，８をうけて、現
像液ノズル１９からのスプレーによる現像の進行
とともに回折光を生ずる。０次，１次，２次の回
折光はそれぞれ光電素子３１，３２，３３及び３
４，３５，３６によつて、電気信号にかえられ、
割算回路１５，１６で０次，１次の回折光比と１
次，２次の回折光比とが算出される。演算回路１
７は割算回路１５，１６からのそれぞれ２種類の
回折光比から、周知の演算によりピツトの幅及び
深さを求めて両所の平均をとり、現像最適値に達
した場合は、制御回路１８に信号を送り、スプレ
ー１９をとめ、水のノズル２０より水を注入し、
水洗完了とともにモーター３を停止し現像を終了
する。スプレー１９及び水のノズル２０は第１図
Ｂの様に円盤２上の半径方向の基準線４０の上方
に設けられており、光ビーム７及び８は基準線４
０から120゜ずつ離れた基準線４１及び４２上で、
且つ同心円５０上に下方から円盤に対して垂直に
照射される。光電素子３１及び３４は光ビーム７
及び８の延長線上にあつて０次の回折光を検出
し、光電素子３２，３３及び３５，３６はそれぞ
れ基準線４１及び４２を含むデイスク２の垂直面
内にあつて、光ビーム７及び８の１次、２次の回
折光を検出する。
この様な構成により、光デイスク２に２つの光
ビーム７及び８を照射し、回折光を光電素子３１
〜３６で測定する。この測定結果から、２ヶ所に
ついてのそれぞれ２種類の回折光の比率の演算結
果を平均して制御回路に加える。従つて、従来の
様な測定場所によるバラツキを減ずることが出来
る。
ビーム７及び８を照射し、回折光を光電素子３１
〜３６で測定する。この測定結果から、２ヶ所に
ついてのそれぞれ２種類の回折光の比率の演算結
果を平均して制御回路に加える。従つて、従来の
様な測定場所によるバラツキを減ずることが出来
る。
上述の実施例では光ビームを２ヶ所に照射し、
回折光の測定系も基準線４１及び４２の如く２ケ
所に設置したが、これに限らず、例えば第２図の
様に光ビーム７のみを用い、基準線４１上の測定
系（光電素子３１，３２，３３，割算回路１５）
のみを用い、基準線４２上の測定系を省略して、
そのかわりに、基準線４１上の測定系を点線の如
く基準線４２上に回動させ、これに伴い光ビーム
７も光ビーム８の位置に回動させ、以後基準線４
１及び４２間をくり返し回動させることにより、
第１図の場合と同様に２ケ所の測定結果を平均す
ることが出来る。
回折光の測定系も基準線４１及び４２の如く２ケ
所に設置したが、これに限らず、例えば第２図の
様に光ビーム７のみを用い、基準線４１上の測定
系（光電素子３１，３２，３３，割算回路１５）
のみを用い、基準線４２上の測定系を省略して、
そのかわりに、基準線４１上の測定系を点線の如
く基準線４２上に回動させ、これに伴い光ビーム
７も光ビーム８の位置に回動させ、以後基準線４
１及び４２間をくり返し回動させることにより、
第１図の場合と同様に２ケ所の測定結果を平均す
ることが出来る。
又第３図は第１図の２つの測定系を中心部にも
移動させ、以後周辺部と中心部とをくり返し測定
することにより、４ケ所の測定結果を平均する様
にしたものである。
移動させ、以後周辺部と中心部とをくり返し測定
することにより、４ケ所の測定結果を平均する様
にしたものである。
なお以上の実施例では光ビームをデイスク２の
下方から照射したが、これに限らず、デイスクの
上方から照射し、反射光を測定する様にしてもよ
いことはもち論である。
下方から照射したが、これに限らず、デイスクの
上方から照射し、反射光を測定する様にしてもよ
いことはもち論である。
以上の様に本考案によれば、デイスク上の複数
ケ所について現像の進行状態を監視して、結果の
平均により現像を停止させることが出来るので、
バラツキの少い現像制御を行うことが出来る。
ケ所について現像の進行状態を監視して、結果の
平均により現像を停止させることが出来るので、
バラツキの少い現像制御を行うことが出来る。
第１図Ａは本考案の一実施例を示すブロツク
図、第１図Ｂはその部品配置を示す上面図、第２
図及び第３図はそれぞれ本考案の他の実施例を示
す上面図である。 ２……デイスク、４……レーザ、１９……スプ
レー、２０……ノズル、３１〜３６……光電素
子。
図、第１図Ｂはその部品配置を示す上面図、第２
図及び第３図はそれぞれ本考案の他の実施例を示
す上面図である。 ２……デイスク、４……レーザ、１９……スプ
レー、２０……ノズル、３１〜３６……光電素
子。
Claims (1)
- 円盤状の情報記録媒体に光ビームを照射してそ
の回折光比を用いて、現像処理を制御する現像処
理装置において、前記情報記録媒体の記録面の複
数の位置に光ビーム照射し、該光ビームと各々対
応する受光装置を配設して各回折光強度比の平均
をとつて、制御する円盤状記録媒体の現像処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984182951U JPH0320915Y2 (ja) | 1984-12-01 | 1984-12-01 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984182951U JPH0320915Y2 (ja) | 1984-12-01 | 1984-12-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6198231U JPS6198231U (ja) | 1986-06-24 |
| JPH0320915Y2 true JPH0320915Y2 (ja) | 1991-05-07 |
Family
ID=30740473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984182951U Expired JPH0320915Y2 (ja) | 1984-12-01 | 1984-12-01 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0320915Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11283008B1 (en) | 2020-08-31 | 2022-03-22 | Western Digital Technologies, Inc. | Apparatus and methods for magnetic memory devices with magnetic assist layer |
| US11393516B2 (en) | 2020-10-19 | 2022-07-19 | Western Digital Technologies, Inc. | SOT-based spin torque oscillators for oscillatory neural networks |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2536056B2 (ja) * | 1988-05-12 | 1996-09-18 | 日本電気株式会社 | 現像モニタ装置 |
| JP2536055B2 (ja) * | 1988-05-12 | 1996-09-18 | 日本電気株式会社 | 現像モニタ方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58121039A (ja) * | 1982-01-14 | 1983-07-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 自動現像装置 |
| JPS59171957A (ja) * | 1983-03-19 | 1984-09-28 | Pioneer Electronic Corp | フオトレジスト湿式現像装置 |
-
1984
- 1984-12-01 JP JP1984182951U patent/JPH0320915Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58121039A (ja) * | 1982-01-14 | 1983-07-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 自動現像装置 |
| JPS59171957A (ja) * | 1983-03-19 | 1984-09-28 | Pioneer Electronic Corp | フオトレジスト湿式現像装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11283008B1 (en) | 2020-08-31 | 2022-03-22 | Western Digital Technologies, Inc. | Apparatus and methods for magnetic memory devices with magnetic assist layer |
| US11393516B2 (en) | 2020-10-19 | 2022-07-19 | Western Digital Technologies, Inc. | SOT-based spin torque oscillators for oscillatory neural networks |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6198231U (ja) | 1986-06-24 |
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