JP2745789B2 - 光ディスク原盤現像装置および方法 - Google Patents
光ディスク原盤現像装置および方法Info
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- JP2745789B2 JP2745789B2 JP2187639A JP18763990A JP2745789B2 JP 2745789 B2 JP2745789 B2 JP 2745789B2 JP 2187639 A JP2187639 A JP 2187639A JP 18763990 A JP18763990 A JP 18763990A JP 2745789 B2 JP2745789 B2 JP 2745789B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ディスク原盤現像装置および方法、特にフ
ォトレジストを塗布したガラス原盤に一定ピッチで同心
円状および渦巻状のいずれかにパターンが露光された光
ディスク原盤を現像する光ディスク原盤現像装置および
方法に関する。
ォトレジストを塗布したガラス原盤に一定ピッチで同心
円状および渦巻状のいずれかにパターンが露光された光
ディスク原盤を現像する光ディスク原盤現像装置および
方法に関する。
従来の光ディスク原盤現像装置および方法は、光ディ
スク原盤にレーザ光を垂直に照射することにより、現像
の進行に伴って形成されるパターン構造が回折格子とし
て作用するために生成される回折光の光量変化を検出す
ることにより得られる０次、±１次回折光量から回折光
量比を演算し、この値が所望値になったときに現像を停
止していた。
スク原盤にレーザ光を垂直に照射することにより、現像
の進行に伴って形成されるパターン構造が回折格子とし
て作用するために生成される回折光の光量変化を検出す
ることにより得られる０次、±１次回折光量から回折光
量比を演算し、この値が所望値になったときに現像を停
止していた。
第４図は従来の一例を示すブロック図である。
第４図に示す光ディスク原盤現像装置は、光ディスク
原盤１をスピンチャック２に真空吸着し、光ディスク原
盤１を回転しながら現像ノズル４から現像液３を光ディ
スク原盤１の上に滴下することにより現像を行う。
原盤１をスピンチャック２に真空吸着し、光ディスク原
盤１を回転しながら現像ノズル４から現像液３を光ディ
スク原盤１の上に滴下することにより現像を行う。
光学手段６としてHeNeレーザ５からレーザ光ａが全反
射ミラーを介してスピン現像中の光ディスク原盤１の裏
面から垂直に照射される。
射ミラーを介してスピン現像中の光ディスク原盤１の裏
面から垂直に照射される。
光ディスク原盤１に照射されたレーザ光ａは現像の進
行に伴い表面に形成される光ディスクパターンにより回
折され０次回折光ｂ、＋１次回折光ｃ、−１次回折光ｄ
として出射される。
行に伴い表面に形成される光ディスクパターンにより回
折され０次回折光ｂ、＋１次回折光ｃ、−１次回折光ｄ
として出射される。
前記０次回折光ｂ、＋１次回折光ｃ、−１次回折光ｄ
は回折光量検出部８により光電変換され０次の回折光量
信号ｅ、＋１次の回折光量信号ｆ、−１次の回折光量信
号ｇとして出力される。前記０次および±１次の回折光
量信号e,f,gはアンプ回路９により増幅された後、０次
の回折光量信号ｈ、±１次の回折光量信号i,jとして演
算ユニット11に出力される。前記演算ユニット11は０次
および±１次の回折光量信号h,i,jから回折光量比を演
算処理し、回折光量比信号ｐとして端子100に出力す
る。
は回折光量検出部８により光電変換され０次の回折光量
信号ｅ、＋１次の回折光量信号ｆ、−１次の回折光量信
号ｇとして出力される。前記０次および±１次の回折光
量信号e,f,gはアンプ回路９により増幅された後、０次
の回折光量信号ｈ、±１次の回折光量信号i,jとして演
算ユニット11に出力される。前記演算ユニット11は０次
および±１次の回折光量信号h,i,jから回折光量比を演
算処理し、回折光量比信号ｐとして端子100に出力す
る。
例えば、光ディスクパターンをＶグルーブとすると、
Ｖグルーブパターンの回折光量比とＶグルーブの形状と
は対応関係があることが公知である。
Ｖグルーブパターンの回折光量比とＶグルーブの形状と
は対応関係があることが公知である。
したがって、前記回折光量比信号ｋが所定の値になっ
たときに現像液の滴下を停止し、純水を滴下することに
より現像の進行を停止し現像処理を終了する。
たときに現像液の滴下を停止し、純水を滴下することに
より現像の進行を停止し現像処理を終了する。
しかし、現像中は現像液が光ディスクパターン面を覆
うため現像中の回折光量は実際の回折光量よりも低下す
るだけでなく、０次回折光ｂと＋１次回折光ｃおよび−
１次回折光ｄとでは現像液３の膜に対する出射角が異な
ることから光量低下率が異なることになる。
うため現像中の回折光量は実際の回折光量よりも低下す
るだけでなく、０次回折光ｂと＋１次回折光ｃおよび−
１次回折光ｄとでは現像液３の膜に対する出射角が異な
ることから光量低下率が異なることになる。
しかしながら、このような上述した従来の光ディスク
原盤現像装置および方法は、現像処理中に現像液の膜を
介して出射される０次回折光および±１次回折光の回折
光量を検出し、この０次および±１次の回折光量信号か
ら回折光量比を算出している。現像液の膜の影響で０次
および±１次の回折光量信号の低下率が異なる結果、回
折光量比が真値に対して誤差を生じているため、現像停
止のタイミングが所望値に対してずれを生じることにな
るため、形成されるＶグルーブ形状が所望の形状に対し
てずれるという欠点がある。
原盤現像装置および方法は、現像処理中に現像液の膜を
介して出射される０次回折光および±１次回折光の回折
光量を検出し、この０次および±１次の回折光量信号か
ら回折光量比を算出している。現像液の膜の影響で０次
および±１次の回折光量信号の低下率が異なる結果、回
折光量比が真値に対して誤差を生じているため、現像停
止のタイミングが所望値に対してずれを生じることにな
るため、形成されるＶグルーブ形状が所望の形状に対し
てずれるという欠点がある。
本発明の光ディスク原盤の現像装置は、前記光ディス
ク原盤のパターン域にレーザ光を照射する光学手段と、
前記パターン域にレーザ光を照射することにより現像の
進行に伴い得られる０次光および±１次光の回折光量を
検出する回折光量検出部と前記回折光量検出部で検出さ
れた光量の補正を行う光量補正部と、前記光量補正され
た回折光量から回折光量比を算出する演算ユニットとを
含んで構成される。
ク原盤のパターン域にレーザ光を照射する光学手段と、
前記パターン域にレーザ光を照射することにより現像の
進行に伴い得られる０次光および±１次光の回折光量を
検出する回折光量検出部と前記回折光量検出部で検出さ
れた光量の補正を行う光量補正部と、前記光量補正され
た回折光量から回折光量比を算出する演算ユニットとを
含んで構成される。
また、本発明の光ディスク原盤の現像方法は、前記光
ディスク原盤のパターン域にレーザ光を照射することに
より、現像の進行に伴い得られる０次、±１次回折光量
に現像中の現像液の層による光量低下量の補正をするこ
とにより得られる０次、±１次回折光量から回折光量比
を演算しこの回折光量比が所望値となったときに現像を
停止するように構成される。
ディスク原盤のパターン域にレーザ光を照射することに
より、現像の進行に伴い得られる０次、±１次回折光量
に現像中の現像液の層による光量低下量の補正をするこ
とにより得られる０次、±１次回折光量から回折光量比
を演算しこの回折光量比が所望値となったときに現像を
停止するように構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明
する。
する。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第１図に示す光ディスク原盤現像装置は、一定ピッチ
で同心円状および渦巻状のいずれかに露光された光ディ
スク原盤１をスピンチャック２に真空吸着し、光ディス
ク原盤１を回転しながら現像ノズル４から現像液３を光
ディスク原盤１上に滴下することにより現像を行うスピ
ン現像装置であり、光学手段６により光ディス原盤１上
のパターン域内に照射されたレーザ光ａの０次回折光
ｂ、＋１次回折光ｃおよび−１次回折光ｄを光電変換す
る回折光量検出部８と、検出された回折光量信号e,f,g
を増幅するアンプ回路９と、前記アンプ回路９からの回
折光量信号i,j,kを補正する光量補正部10と、補正され
た回折光量信号l,m,nから回折光量比ｋを算出する演算
ユニット11とを含んで構成される。
で同心円状および渦巻状のいずれかに露光された光ディ
スク原盤１をスピンチャック２に真空吸着し、光ディス
ク原盤１を回転しながら現像ノズル４から現像液３を光
ディスク原盤１上に滴下することにより現像を行うスピ
ン現像装置であり、光学手段６により光ディス原盤１上
のパターン域内に照射されたレーザ光ａの０次回折光
ｂ、＋１次回折光ｃおよび−１次回折光ｄを光電変換す
る回折光量検出部８と、検出された回折光量信号e,f,g
を増幅するアンプ回路９と、前記アンプ回路９からの回
折光量信号i,j,kを補正する光量補正部10と、補正され
た回折光量信号l,m,nから回折光量比ｋを算出する演算
ユニット11とを含んで構成される。
光学手段６としてはHeNeレーザ５からのレーザ光ａを
全反射ミラー７を介することにより光ディスク原盤１の
パターンに垂直に出射する。現像の進行に伴って得られ
る０次回折光ｂ、±１次回折光c,dは回折光量検出部８
により光電変換され０次の回折光量信号ｅ、±１次の回
折光量信号f,gとなる。アンプ回路９は前記０次の回折
光量信号ｅ、±１次回折光量信号f,gを増幅し、０次の
回折光量信号ｈおよび±１次の回折光量信号i,jとして
出力する。
全反射ミラー７を介することにより光ディスク原盤１の
パターンに垂直に出射する。現像の進行に伴って得られ
る０次回折光ｂ、±１次回折光c,dは回折光量検出部８
により光電変換され０次の回折光量信号ｅ、±１次の回
折光量信号f,gとなる。アンプ回路９は前記０次の回折
光量信号ｅ、±１次回折光量信号f,gを増幅し、０次の
回折光量信号ｈおよび±１次の回折光量信号i,jとして
出力する。
前記０次の回折光量信号ｈと±１次の回折光量信号i,
jとは現像中の光量低下率に対応して光量補正部10で補
正され、０次の回折光量信号ｌ、±１次の回折光量信号
m,nとして出力される。演算ユニット12は前記補正され
た回折光量信号l,m,nから回折光量比ｋを算出し、端子1
00に出力する。
jとは現像中の光量低下率に対応して光量補正部10で補
正され、０次の回折光量信号ｌ、±１次の回折光量信号
m,nとして出力される。演算ユニット12は前記補正され
た回折光量信号l,m,nから回折光量比ｋを算出し、端子1
00に出力する。
回折光量比信号ｋは補正によって真値からの誤差を生
じないため、所定値になった時点で現像を停止すること
により、停止タイミングのずれがなくなり所望のＶグル
ーブ形状が形成できる。
じないため、所定値になった時点で現像を停止すること
により、停止タイミングのずれがなくなり所望のＶグル
ーブ形状が形成できる。
第２図は第１図に示す光量補正部10の詳細図である。
第２図に示す光量補正部10は、端子101,102,103には
前記増幅回路９から出力された０次の回折光量信号ｈ、
±１次の回折光量信号i,jが印加されている。レジスタ2
0,21はそれぞれ現像中の０次回折光量、±１次回折光量
に対する光量低下率の逆数が設定信号A,Bとして設定さ
れており、乗算器21,22,23は接続されている。
前記増幅回路９から出力された０次の回折光量信号ｈ、
±１次の回折光量信号i,jが印加されている。レジスタ2
0,21はそれぞれ現像中の０次回折光量、±１次回折光量
に対する光量低下率の逆数が設定信号A,Bとして設定さ
れており、乗算器21,22,23は接続されている。
したがって、端子101に印加された０次の回折光量信
号ｈはレジスタ21に設定された設定信号Ａと乗算器24に
より乗算され０次の回折光量信号ｌとして端子104に出
力される。また、端子102,103にそれぞれ印加された±
１次の回折光量信号i,jはレジスタ22に設定された設定
信号Ｂとそれぞれ乗算器22,23により乗算され±１次の
回折光量信号m,nとして端子105,106に出力される。
号ｈはレジスタ21に設定された設定信号Ａと乗算器24に
より乗算され０次の回折光量信号ｌとして端子104に出
力される。また、端子102,103にそれぞれ印加された±
１次の回折光量信号i,jはレジスタ22に設定された設定
信号Ｂとそれぞれ乗算器22,23により乗算され±１次の
回折光量信号m,nとして端子105,106に出力される。
第３図（ａ），（ｂ），（ｃ）は第２図に示す光量補
正部における光量補正の方法を説明するための動作説明
図である。第３図（ａ）は現像時間ｔに対する０次の回
折光量信号の変化I0（ｔ），I0′（ｔ）を示し、第３図
（ｂ）は現像時間ｔに対する０次の回折光量の変化I
1（ｔ），I1′（ｔ）を示す。ここでI0（ｔ），I
1（ｔ）は真値の変化で、I1′（ｔ），I1′（ｔ）は現
像中に検出される変化で、示の（１），（２）式のよう
にする。
正部における光量補正の方法を説明するための動作説明
図である。第３図（ａ）は現像時間ｔに対する０次の回
折光量信号の変化I0（ｔ），I0′（ｔ）を示し、第３図
（ｂ）は現像時間ｔに対する０次の回折光量の変化I
1（ｔ），I1′（ｔ）を示す。ここでI0（ｔ），I
1（ｔ）は真値の変化で、I1′（ｔ），I1′（ｔ）は現
像中に検出される変化で、示の（１），（２）式のよう
にする。
I0（ｔ）＝（1/A′）I0′（ｔ） …（１） I1（ｔ）＝（1/B′）I1′（ｔ） …（２） ここで、低下率係数Ａ′,B′はＡ′＜1,B′＜1,A′＞
Ｂ′となっている。
Ｂ′となっている。
また第３図（ｃ）は現像時間ｔに対する回折光量比の
特性Ｋ（ｔ）,K′（ｔ）を示し、真の回折光量比Ｋ
（ｔ）に対し現像中の回折光量比Ｋ′（ｔ）となり、真
値よりも小さいことになる。
特性Ｋ（ｔ）,K′（ｔ）を示し、真の回折光量比Ｋ
（ｔ）に対し現像中の回折光量比Ｋ′（ｔ）となり、真
値よりも小さいことになる。
したがって、現像中の０次、±１次の回折光量信号に
対し低下率係数Ａ′,B′の逆数を乗算することにより真
値の０次、±１次の回折光量信号とすることができる。
対し低下率係数Ａ′,B′の逆数を乗算することにより真
値の０次、±１次の回折光量信号とすることができる。
すなわち（１），（２）式により補正をされた０次お
よび±１次の回折光量信号は（３），（４）式のように
なる。
よび±１次の回折光量信号は（３），（４）式のように
なる。
I0′（ｔ）×（1/A′） ＝Ａ′I0（ｔ）×（1/A′） ＝I0（ｔ） …（３） I1′（ｔ）×（1/B′） ＝Ｂ′I1（ｔ）×（1/B′） ＝I1（ｔ） …（４） 補正された０次、±１次の回折光量信号はそれぞれ真
値の０次、１次の回折光量信号I0（ｔ），I1（ｔ）とな
ることから回折光量比ｋも真の値とすることができる。
値の０次、１次の回折光量信号I0（ｔ），I1（ｔ）とな
ることから回折光量比ｋも真の値とすることができる。
したがって、補正によって得られる真の回折光量比が
所望値となったときに現像を停止すれば、停止のタイミ
ングがずれることなく所望の形状を得ることができる。
所望値となったときに現像を停止すれば、停止のタイミ
ングがずれることなく所望の形状を得ることができる。
本発明の光ディスク原盤現像装置および方法は光ディ
スク原盤もパターン域にレーザを照射し現像中のパター
ン形成による得られる０次、±１次の回折光量信号を検
出し、パターン域を覆う現像液の影響による０次、±１
次の回折光量信号の低下を補正することにより回折光量
比の所望値に対して現像停止をタイミング良く行えるた
め所望のＶグルーブ形状が形成できるという効果があ
る。
スク原盤もパターン域にレーザを照射し現像中のパター
ン形成による得られる０次、±１次の回折光量信号を検
出し、パターン域を覆う現像液の影響による０次、±１
次の回折光量信号の低下を補正することにより回折光量
比の所望値に対して現像停止をタイミング良く行えるた
め所望のＶグルーブ形状が形成できるという効果があ
る。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック構成図、第２
図は第１図に示す光量補正部の詳細を示すブロック図、
第３図（ａ），（ｂ），（ｃ）は第２図に示す光量補正
部における光量補正方法を説明するための動作説明図、
第４図は従来の一例を示すブロック構成図である。 １……光ディスク原盤、２……スピンチャック、３……
現像液、４……現像ノズル、５……HeNeレーザ、６……
光学手段、７……全反射ミラー、８……回折光量検出
部、９……アンプ回路、10……光量補正部、11……演算
ユニット、20,21……レジスタ、22,23,24……乗算器、
ａ……レーザ光、ｂ……０次回折光、ｃ……＋１次回折
光、ｄ……−１次回折光、ｅ〜ｎ……回折光量信号、ｋ
……回折光量比、100〜106……端子、A,B……設定信
号。
図は第１図に示す光量補正部の詳細を示すブロック図、
第３図（ａ），（ｂ），（ｃ）は第２図に示す光量補正
部における光量補正方法を説明するための動作説明図、
第４図は従来の一例を示すブロック構成図である。 １……光ディスク原盤、２……スピンチャック、３……
現像液、４……現像ノズル、５……HeNeレーザ、６……
光学手段、７……全反射ミラー、８……回折光量検出
部、９……アンプ回路、10……光量補正部、11……演算
ユニット、20,21……レジスタ、22,23,24……乗算器、
ａ……レーザ光、ｂ……０次回折光、ｃ……＋１次回折
光、ｄ……−１次回折光、ｅ〜ｎ……回折光量信号、ｋ
……回折光量比、100〜106……端子、A,B……設定信
号。
Claims (2)
- 【請求項１】一定ピッチで同心円上および渦巻状のいず
れかにパターンが露光された光ディスク原盤のパターン
域にレーザ光を照射する光学手段と、前記パターン域に
レーザ光を照射することにより現像の進行に伴い得られ
る０次光および±１次光の回折光量を検出する回折光量
検出部と、前記回折光量検出部で検出された回折光量信
号の補正を行う光量補正部と、補正された回折光量信号
から回折光量比を算出する演算ユニットとを含み、前記
補正は、前記の各回折光毎に前記パターン域に前記現像
域が滴下されていないときの回折光量の前記現像液が滴
下されているときの回折光量に対する比を補正設定信号
として前もってそれぞれ求めておき、前記回折光量検出
部で検出された各回折光量に、前記各補正設定信号をそ
れぞれ乗算することにより行うことを特徴とする光ディ
スク原盤の現像装置。 - 【請求項２】光ディスク原盤のパターン域にレーザを照
射し、現像の進行に伴い得られる０次光、±１次光の回
折光量の変化に、前記パターン域を覆う現像液による光
量低下量の補正をした後、回折光量比を演算し、この補
正回折光量比が前記パターン域に前記現像液が滴下され
ていないときの回折光量比と等しくなったときに現像を
停止し、前記補正は、前記の各回折光毎に前記パターン
域に前記現像液が滴下されていないときの回折光量の前
記現像液が滴下されているときの回折光量に対する比を
補正設定信号として前もってそれぞれ求めておき、前記
回折光量検出部で検出された各回折光量に、前記各補正
設定信号をそれぞれ乗算することにより行うことを特徴
とする光ディスク原盤の現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2187639A JP2745789B2 (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | 光ディスク原盤現像装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2187639A JP2745789B2 (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | 光ディスク原盤現像装置および方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0474325A JPH0474325A (ja) | 1992-03-09 |
| JP2745789B2 true JP2745789B2 (ja) | 1998-04-28 |
Family
ID=16209637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2187639A Expired - Fee Related JP2745789B2 (ja) | 1990-07-16 | 1990-07-16 | 光ディスク原盤現像装置および方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2745789B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0228658A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-01-30 | Nec Corp | 現像装置 |
-
1990
- 1990-07-16 JP JP2187639A patent/JP2745789B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0474325A (ja) | 1992-03-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |