JP2745789B2 - 光ディスク原盤現像装置および方法 - Google Patents

光ディスク原盤現像装置および方法

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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ディスク原盤現像装置および方法、特にフ
ォトレジストを塗布したガラス原盤に一定ピッチで同心
円状および渦巻状のいずれかにパターンが露光された光
ディスク原盤を現像する光ディスク原盤現像装置および
方法に関する。
〔従来の技術〕
従来の光ディスク原盤現像装置および方法は、光ディ
スク原盤にレーザ光を垂直に照射することにより、現像
の進行に伴って形成されるパターン構造が回折格子とし
て作用するために生成される回折光の光量変化を検出す
ることにより得られる0次、±1次回折光量から回折光
量比を演算し、この値が所望値になったときに現像を停
止していた。
第4図は従来の一例を示すブロック図である。
第4図に示す光ディスク原盤現像装置は、光ディスク
原盤1をスピンチャック2に真空吸着し、光ディスク原
盤1を回転しながら現像ノズル4から現像液3を光ディ
スク原盤1の上に滴下することにより現像を行う。
光学手段6としてHeNeレーザ5からレーザ光aが全反
射ミラーを介してスピン現像中の光ディスク原盤1の裏
面から垂直に照射される。
光ディスク原盤1に照射されたレーザ光aは現像の進
行に伴い表面に形成される光ディスクパターンにより回
折され0次回折光b、+1次回折光c、−1次回折光d
として出射される。
前記0次回折光b、+1次回折光c、−1次回折光d
は回折光量検出部8により光電変換され0次の回折光量
信号e、+1次の回折光量信号f、−1次の回折光量信
号gとして出力される。前記0次および±1次の回折光
量信号e,f,gはアンプ回路9により増幅された後、0次
の回折光量信号h、±1次の回折光量信号i,jとして演
算ユニット11に出力される。前記演算ユニット11は0次
および±1次の回折光量信号h,i,jから回折光量比を演
算処理し、回折光量比信号pとして端子100に出力す
る。
例えば、光ディスクパターンをVグルーブとすると、
Vグルーブパターンの回折光量比とVグルーブの形状と
は対応関係があることが公知である。
したがって、前記回折光量比信号kが所定の値になっ
たときに現像液の滴下を停止し、純水を滴下することに
より現像の進行を停止し現像処理を終了する。
しかし、現像中は現像液が光ディスクパターン面を覆
うため現像中の回折光量は実際の回折光量よりも低下す
るだけでなく、0次回折光bと+1次回折光cおよび−
1次回折光dとでは現像液3の膜に対する出射角が異な
ることから光量低下率が異なることになる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、このような上述した従来の光ディスク
原盤現像装置および方法は、現像処理中に現像液の膜を
介して出射される0次回折光および±1次回折光の回折
光量を検出し、この0次および±1次の回折光量信号か
ら回折光量比を算出している。現像液の膜の影響で0次
および±1次の回折光量信号の低下率が異なる結果、回
折光量比が真値に対して誤差を生じているため、現像停
止のタイミングが所望値に対してずれを生じることにな
るため、形成されるVグルーブ形状が所望の形状に対し
てずれるという欠点がある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の光ディスク原盤の現像装置は、前記光ディス
ク原盤のパターン域にレーザ光を照射する光学手段と、
前記パターン域にレーザ光を照射することにより現像の
進行に伴い得られる0次光および±1次光の回折光量を
検出する回折光量検出部と前記回折光量検出部で検出さ
れた光量の補正を行う光量補正部と、前記光量補正され
た回折光量から回折光量比を算出する演算ユニットとを
含んで構成される。
また、本発明の光ディスク原盤の現像方法は、前記光
ディスク原盤のパターン域にレーザ光を照射することに
より、現像の進行に伴い得られる0次、±1次回折光量
に現像中の現像液の層による光量低下量の補正をするこ
とにより得られる0次、±1次回折光量から回折光量比
を演算しこの回折光量比が所望値となったときに現像を
停止するように構成される。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明
する。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第1図に示す光ディスク原盤現像装置は、一定ピッチ
で同心円状および渦巻状のいずれかに露光された光ディ
スク原盤1をスピンチャック2に真空吸着し、光ディス
ク原盤1を回転しながら現像ノズル4から現像液3を光
ディスク原盤1上に滴下することにより現像を行うスピ
ン現像装置であり、光学手段6により光ディス原盤1上
のパターン域内に照射されたレーザ光aの0次回折光
b、+1次回折光cおよび−1次回折光dを光電変換す
る回折光量検出部8と、検出された回折光量信号e,f,g
を増幅するアンプ回路9と、前記アンプ回路9からの回
折光量信号i,j,kを補正する光量補正部10と、補正され
た回折光量信号l,m,nから回折光量比kを算出する演算
ユニット11とを含んで構成される。
光学手段6としてはHeNeレーザ5からのレーザ光aを
全反射ミラー7を介することにより光ディスク原盤1の
パターンに垂直に出射する。現像の進行に伴って得られ
る0次回折光b、±1次回折光c,dは回折光量検出部8
により光電変換され0次の回折光量信号e、±1次の回
折光量信号f,gとなる。アンプ回路9は前記0次の回折
光量信号e、±1次回折光量信号f,gを増幅し、0次の
回折光量信号hおよび±1次の回折光量信号i,jとして
出力する。
前記0次の回折光量信号hと±1次の回折光量信号i,
jとは現像中の光量低下率に対応して光量補正部10で補
正され、0次の回折光量信号l、±1次の回折光量信号
m,nとして出力される。演算ユニット12は前記補正され
た回折光量信号l,m,nから回折光量比kを算出し、端子1
00に出力する。
回折光量比信号kは補正によって真値からの誤差を生
じないため、所定値になった時点で現像を停止すること
により、停止タイミングのずれがなくなり所望のVグル
ーブ形状が形成できる。
第2図は第1図に示す光量補正部10の詳細図である。
第2図に示す光量補正部10は、端子101,102,103には
前記増幅回路9から出力された0次の回折光量信号h、
±1次の回折光量信号i,jが印加されている。レジスタ2
0,21はそれぞれ現像中の0次回折光量、±1次回折光量
に対する光量低下率の逆数が設定信号A,Bとして設定さ
れており、乗算器21,22,23は接続されている。
したがって、端子101に印加された0次の回折光量信
号hはレジスタ21に設定された設定信号Aと乗算器24に
より乗算され0次の回折光量信号lとして端子104に出
力される。また、端子102,103にそれぞれ印加された±
1次の回折光量信号i,jはレジスタ22に設定された設定
信号Bとそれぞれ乗算器22,23により乗算され±1次の
回折光量信号m,nとして端子105,106に出力される。
第3図(a),(b),(c)は第2図に示す光量補
正部における光量補正の方法を説明するための動作説明
図である。第3図(a)は現像時間tに対する0次の回
折光量信号の変化I0(t),I0′(t)を示し、第3図
(b)は現像時間tに対する0次の回折光量の変化I
1(t),I1′(t)を示す。ここでI0(t),I
1(t)は真値の変化で、I1′(t),I1′(t)は現
像中に検出される変化で、示の(1),(2)式のよう
にする。
I0(t)=(1/A′)I0′(t) …(1) I1(t)=(1/B′)I1′(t) …(2) ここで、低下率係数A′,B′はA′<1,B′<1,A′>
B′となっている。
また第3図(c)は現像時間tに対する回折光量比の
特性K(t),K′(t)を示し、真の回折光量比K
(t)に対し現像中の回折光量比K′(t)となり、真
値よりも小さいことになる。
したがって、現像中の0次、±1次の回折光量信号に
対し低下率係数A′,B′の逆数を乗算することにより真
値の0次、±1次の回折光量信号とすることができる。
すなわち(1),(2)式により補正をされた0次お
よび±1次の回折光量信号は(3),(4)式のように
なる。
I0′(t)×(1/A′) =A′I0(t)×(1/A′) =I0(t) …(3) I1′(t)×(1/B′) =B′I1(t)×(1/B′) =I1(t) …(4) 補正された0次、±1次の回折光量信号はそれぞれ真
値の0次、1次の回折光量信号I0(t),I1(t)とな
ることから回折光量比kも真の値とすることができる。
したがって、補正によって得られる真の回折光量比が
所望値となったときに現像を停止すれば、停止のタイミ
ングがずれることなく所望の形状を得ることができる。
〔発明の効果〕
本発明の光ディスク原盤現像装置および方法は光ディ
スク原盤もパターン域にレーザを照射し現像中のパター
ン形成による得られる0次、±1次の回折光量信号を検
出し、パターン域を覆う現像液の影響による0次、±1
次の回折光量信号の低下を補正することにより回折光量
比の所望値に対して現像停止をタイミング良く行えるた
め所望のVグルーブ形状が形成できるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すブロック構成図、第2
図は第1図に示す光量補正部の詳細を示すブロック図、
第3図(a),(b),(c)は第2図に示す光量補正
部における光量補正方法を説明するための動作説明図、
第4図は従来の一例を示すブロック構成図である。 1……光ディスク原盤、2……スピンチャック、3……
現像液、4……現像ノズル、5……HeNeレーザ、6……
光学手段、7……全反射ミラー、8……回折光量検出
部、9……アンプ回路、10……光量補正部、11……演算
ユニット、20,21……レジスタ、22,23,24……乗算器、
a……レーザ光、b……0次回折光、c……+1次回折
光、d……−1次回折光、e〜n……回折光量信号、k
……回折光量比、100〜106……端子、A,B……設定信
号。

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一定ピッチで同心円上および渦巻状のいず
    れかにパターンが露光された光ディスク原盤のパターン
    域にレーザ光を照射する光学手段と、前記パターン域に
    レーザ光を照射することにより現像の進行に伴い得られ
    る0次光および±1次光の回折光量を検出する回折光量
    検出部と、前記回折光量検出部で検出された回折光量信
    号の補正を行う光量補正部と、補正された回折光量信号
    から回折光量比を算出する演算ユニットとを含み、前記
    補正は、前記の各回折光毎に前記パターン域に前記現像
    域が滴下されていないときの回折光量の前記現像液が滴
    下されているときの回折光量に対する比を補正設定信号
    として前もってそれぞれ求めておき、前記回折光量検出
    部で検出された各回折光量に、前記各補正設定信号をそ
    れぞれ乗算することにより行うことを特徴とする光ディ
    スク原盤の現像装置。
  2. 【請求項2】光ディスク原盤のパターン域にレーザを照
    射し、現像の進行に伴い得られる0次光、±1次光の回
    折光量の変化に、前記パターン域を覆う現像液による光
    量低下量の補正をした後、回折光量比を演算し、この補
    正回折光量比が前記パターン域に前記現像液が滴下され
    ていないときの回折光量比と等しくなったときに現像を
    停止し、前記補正は、前記の各回折光毎に前記パターン
    域に前記現像液が滴下されていないときの回折光量の前
    記現像液が滴下されているときの回折光量に対する比を
    補正設定信号として前もってそれぞれ求めておき、前記
    回折光量検出部で検出された各回折光量に、前記各補正
    設定信号をそれぞれ乗算することにより行うことを特徴
    とする光ディスク原盤の現像方法。
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