JPS59171957A - フオトレジスト湿式現像装置 - Google Patents
フオトレジスト湿式現像装置Info
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- JPS59171957A JPS59171957A JP4692183A JP4692183A JPS59171957A JP S59171957 A JPS59171957 A JP S59171957A JP 4692183 A JP4692183 A JP 4692183A JP 4692183 A JP4692183 A JP 4692183A JP S59171957 A JPS59171957 A JP S59171957A
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- Japan
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- photoresist film
- base
- laser light
- developer
- mirror
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3021—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck
- G03F7/3028—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck characterised by means for on-wafer monitoring of the processing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えば連続的凹所（所甜ビット）によって形
成されるトラックからなる光学的パターンを表面に有す
る光学式記録ディスクの基盤の製作工程に用いられるフ
ォトレジスト湿式現像装置に関する。
成されるトラックからなる光学的パターンを表面に有す
る光学式記録ディスクの基盤の製作工程に用いられるフ
ォトレジスト湿式現像装置に関する。
光学式記録ディスクは、例えば、光学式ビデオもしくは
オーディオディスクシステムの記録媒体として用いられ
ている。この光学式ビデオやオーディオディスクシステ
ムは記録媒体であるところのディスク全回転させながら
その表面の凹所又は６薊からなる光学的パターンにレー
ザ光を照射し、その光学的パターンによって変調された
レーザ光ケ電気信号に変換することにょムこの光学的パ
ターンが担う情報を再生するものである。
オーディオディスクシステムの記録媒体として用いられ
ている。この光学式ビデオやオーディオディスクシステ
ムは記録媒体であるところのディスク全回転させながら
その表面の凹所又は６薊からなる光学的パターンにレー
ザ光を照射し、その光学的パターンによって変調された
レーザ光ケ電気信号に変換することにょムこの光学的パ
ターンが担う情報を再生するものである。
かかるシステムに用いられる記録ディスクの基盤１は、
第１図に示す如く、研磨したガラス等の透明な円盤の表
面にフォトレジスト膜を設けたものである。更に詳しく
は、図中２で示される透明なターンテーブルは鉛直方向
に対して所定角度θたけ傾斜してお９、基盤１をその上
面にセットした状態で図示省略したモータによジ回転駆
動される。この上方部には現像液噴霧弁３と純水弁４が
夫々配置されている。また、図示の如く、Ｈｅ −Ｎｅ
レーザ光源５およびミラー６が設けられ、発生したレー
ザ光がミラー６に反射されて基盤１上のフィトレジスト
膜上に照射できるように位置の調整が成されている。ま
たがって、基盤１とターンテーブル２を透過したレーザ
光は次に光電変換器７゜８で受光される仕組となって′
いて、この光電変換器７，８から送出される電気信号に
応答して制御回路９が前記現像液噴霧弁３お工び純水弁
４を夫々開閉弁制御するように構成されている。
第１図に示す如く、研磨したガラス等の透明な円盤の表
面にフォトレジスト膜を設けたものである。更に詳しく
は、図中２で示される透明なターンテーブルは鉛直方向
に対して所定角度θたけ傾斜してお９、基盤１をその上
面にセットした状態で図示省略したモータによジ回転駆
動される。この上方部には現像液噴霧弁３と純水弁４が
夫々配置されている。また、図示の如く、Ｈｅ −Ｎｅ
レーザ光源５およびミラー６が設けられ、発生したレー
ザ光がミラー６に反射されて基盤１上のフィトレジスト
膜上に照射できるように位置の調整が成されている。ま
たがって、基盤１とターンテーブル２を透過したレーザ
光は次に光電変換器７゜８で受光される仕組となって′
いて、この光電変換器７，８から送出される電気信号に
応答して制御回路９が前記現像液噴霧弁３お工び純水弁
４を夫々開閉弁制御するように構成されている。
つぎに、前記構成に於ける作動態様を概略的に説明する
。基盤１はターンテーブル２共々図示省略したモータに
より駆動されて一定速度で回転する。この際、現像液噴
霧弁３の先方に設けたノズル３α力・ら現像液が噴霧さ
れて基盤１上ケ流下し現像が進行する。一方、Ｈｅ’−
Ｎｅレーザ光源５で発生されたレーザ光は受光角度など
位置調整されているミラー６によって反射され、基盤１
の軸心に対して所定角度傾斜した方向から入射する。こ
の入射したレーザ光は現像以前にはピットが形成されて
おらず、基盤１とターンテーブル２に穿設された孔（図
示せず）全透過してモニター用の光電変換器７，８に透
過光が達す。現像が進行するに従ってフォトレジスト膜
の感光した部分は現像液により＠屑除去されて行き、そ
の部分に凹部即ちピットが形成されて行く。基盤１に入
射したレーザ光は該ピットによってピット間隔と入射角
度によって決定される角度方向に回折する。
。基盤１はターンテーブル２共々図示省略したモータに
より駆動されて一定速度で回転する。この際、現像液噴
霧弁３の先方に設けたノズル３α力・ら現像液が噴霧さ
れて基盤１上ケ流下し現像が進行する。一方、Ｈｅ’−
Ｎｅレーザ光源５で発生されたレーザ光は受光角度など
位置調整されているミラー６によって反射され、基盤１
の軸心に対して所定角度傾斜した方向から入射する。こ
の入射したレーザ光は現像以前にはピットが形成されて
おらず、基盤１とターンテーブル２に穿設された孔（図
示せず）全透過してモニター用の光電変換器７，８に透
過光が達す。現像が進行するに従ってフォトレジスト膜
の感光した部分は現像液により＠屑除去されて行き、そ
の部分に凹部即ちピットが形成されて行く。基盤１に入
射したレーザ光は該ピットによってピット間隔と入射角
度によって決定される角度方向に回折する。
この時の第零次回折光をモニター用の光電変換器７によ
って受光し、第一次回折光全光電変換器８により夫々受
光する訳で、第一次回折光の強度か現像時間に応じて増
大する現象會オＵ用することにＪ：り、光電変換器７，
８の電気的出力比が所定値に達した際に制御回路９は現
像液弁３會閉じ、現像液の供給を停止させて純水弁４全
開き、純水ケ純水ノズル４ａから散布して現像処理ケ停
市させるのである。
って受光し、第一次回折光全光電変換器８により夫々受
光する訳で、第一次回折光の強度か現像時間に応じて増
大する現象會オＵ用することにＪ：り、光電変換器７，
８の電気的出力比が所定値に達した際に制御回路９は現
像液弁３會閉じ、現像液の供給を停止させて純水弁４全
開き、純水ケ純水ノズル４ａから散布して現像処理ケ停
市させるのである。
ところが、前記の如きフォトレジスト現像装置は、レー
ザ光の入射角度と位置、そして光電変換器７，８の位置
と角度か夫々固定されているか若しくは微調節として僅
かな角度の変化が可能となっている構造に過ぎず、した
がって回折光全検出できるのは基盤１上のレーザ光束幅
の限られた狭も塊状の範囲内にととまム基盤全面に亘る
広範囲の現像斑など？知る情報が得られないし、！た、
レーザ光来が傷盤１上に於ける無信号部にたまたま幽射
した際など検出不可となる不具合？生じていたＯ よって、本発明は、上記した如き従来のフォトレジスト
湿式現像装置に於ける不具合を解消せんとしてなされた
ものであり、その目的とするところは、現像工程に於け
る記録基盤のフォトレジスト膜の広範囲に亘って現像状
況ケ継続的にモニターレ得るフォトレジスト湿式現像装
置ケ提供することである。
ザ光の入射角度と位置、そして光電変換器７，８の位置
と角度か夫々固定されているか若しくは微調節として僅
かな角度の変化が可能となっている構造に過ぎず、した
がって回折光全検出できるのは基盤１上のレーザ光束幅
の限られた狭も塊状の範囲内にととまム基盤全面に亘る
広範囲の現像斑など？知る情報が得られないし、！た、
レーザ光来が傷盤１上に於ける無信号部にたまたま幽射
した際など検出不可となる不具合？生じていたＯ よって、本発明は、上記した如き従来のフォトレジスト
湿式現像装置に於ける不具合を解消せんとしてなされた
ものであり、その目的とするところは、現像工程に於け
る記録基盤のフォトレジスト膜の広範囲に亘って現像状
況ケ継続的にモニターレ得るフォトレジスト湿式現像装
置ケ提供することである。
本発明によるフォトレジスト湿式現像装置に於いては、
基盤へのレーザ光入射点と光電変換器の位置とを同期的
に可変となす等してモニター光学系と基盤との相対的位
置を可変となし、望丑しくは周期的な相対位置変動をな
しつつ基盤の現像状況全継続的にモニターし得るように
なされているのである。
基盤へのレーザ光入射点と光電変換器の位置とを同期的
に可変となす等してモニター光学系と基盤との相対的位
置を可変となし、望丑しくは周期的な相対位置変動をな
しつつ基盤の現像状況全継続的にモニターし得るように
なされているのである。
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳述する。本実
施例の基本的構造は第１図に示した従来例と同様である
。即ち、露光処理された基盤の回転中心軸金鉛直方向に
対して所定角度傾斜させてこれを回転させつつ、フォト
レジスト膜に沿って現像成金接触させ且つフォトレジス
ト膜の面に対して所定角度傾斜した方向から所定波長の
し一ザ光會フォトレジスト膜に照射し、なお且つフォト
レジスト膜のビットの位置で所定方向に回折して基盤全
透過したレーザ光成分を検出し、この回折光の強度が所
定値Ｖ？−達した際にフォトレジスト膜への現像液の供
給？停止するなどして、フォトレジスト膜と現像液との
接触を遮断し現像処理を伴出する構成および作用である
。
施例の基本的構造は第１図に示した従来例と同様である
。即ち、露光処理された基盤の回転中心軸金鉛直方向に
対して所定角度傾斜させてこれを回転させつつ、フォト
レジスト膜に沿って現像成金接触させ且つフォトレジス
ト膜の面に対して所定角度傾斜した方向から所定波長の
し一ザ光會フォトレジスト膜に照射し、なお且つフォト
レジスト膜のビットの位置で所定方向に回折して基盤全
透過したレーザ光成分を検出し、この回折光の強度が所
定値Ｖ？−達した際にフォトレジスト膜への現像液の供
給？停止するなどして、フォトレジスト膜と現像液との
接触を遮断し現像処理を伴出する構成および作用である
。
そこで、これらの具体的構成は第２図に於いて示され、
図中２１は透明質のガラス基盤、２２は該ガラス基盤２
１ヲ載置セツトして約数１０ ｒｌｌｍの速度で回転さ
せると共に、その回転軸２３（５鉛直方向に対して設定
角度θたけ傾斜させたターンテーブルである。２４はＨ
６−Ｎｅレーザ光源、２５はその後端に支承しクランク
レバー２７の回動に協動して軸２６忙中心に所望角度だ
け揺動可能なミラーである。つぎに、リンクレバ−２７
會回動させる一連の関連部材として、図中２８はリンク
レバー２７に回転自在に軸支されているカムローラ、２
９は該カムローラ２８に当接しているカム、３０はカム
２９に同軸固定された歯車である。３１お工び３２もま
た歯車であり、結局モータ３３の回転を各歯車３２ 、
３１ 、３０’ｉ順じ介して減速しカム２９ニ、そして
カム２９力）らリンクレノく−２７を介してミラ−２５
０所定角度回動に至るまでの機構である０この機構全レ
ーザ光照射機構と称するＯ これに対して、次に光電変換機構について説明する。図
中３４は前記歯車３１から下方向へ長尺に延設されてい
る支軸シャフト、３５は該シャフト３４の後万端に固定
されているベベルギア等の歯車、３６はこれと対葡なす
歯車、３７と３８も同じく歯車、３９はこれらの歯車３
５ 、３６ 、３７および３８？介してＡｉｌ記シャフ
ト３４の回転が伝達されるクランクレノく−である。つ
ぎに、図中４２は前記クランクレバー３９に連結され往
復動する摺動台であり、４３は該摺動台４２の摺動方向
を案内するためのガイド？示している。（第４図参照）
図示の如く、摺動台４２ケ挾む恰好で両側に摺動ガイド
４３ 、４３が配置され、このガイド４３ 、４３の各
々Ｖこは長溝４３αが穿設されていて該長溝４３σ内＊
ｉｉｊ記摺動台４２の支軸ビン４２（Ｚが移動するこ
とになる。か力・る摺動台構造にあって、図中４０と４
１は共に摺動台４２の上部に取付けられた光電変換器で
あり、一方の光電変換器４０はミラー２５によって所定
の振幅角度で以って振られ＊Ｈｅ −Ｎｅレーザ光がガ
ラス基盤２１およびターンテーブル２２に穿設した孔全
通過する光束のうち第零次回折光全受光するためのもの
であり、他方光電変換器４１は同じく通過したレーザ光
束のうち第一次回折光全受光するためのものである。更
に、図中４４は前記光電変換器４．０ 、４１からの電
気信号？入力として受信し現像液弁４５と純水弁４６ケ
制御するための制御回路である、４５（Ｚと４６ａは双
方の弁の先方に設けた現像液噴霧ノズルと純水噴霧ノズ
ルである。
図中２１は透明質のガラス基盤、２２は該ガラス基盤２
１ヲ載置セツトして約数１０ ｒｌｌｍの速度で回転さ
せると共に、その回転軸２３（５鉛直方向に対して設定
角度θたけ傾斜させたターンテーブルである。２４はＨ
６−Ｎｅレーザ光源、２５はその後端に支承しクランク
レバー２７の回動に協動して軸２６忙中心に所望角度だ
け揺動可能なミラーである。つぎに、リンクレバ−２７
會回動させる一連の関連部材として、図中２８はリンク
レバー２７に回転自在に軸支されているカムローラ、２
９は該カムローラ２８に当接しているカム、３０はカム
２９に同軸固定された歯車である。３１お工び３２もま
た歯車であり、結局モータ３３の回転を各歯車３２ 、
３１ 、３０’ｉ順じ介して減速しカム２９ニ、そして
カム２９力）らリンクレノく−２７を介してミラ−２５
０所定角度回動に至るまでの機構である０この機構全レ
ーザ光照射機構と称するＯ これに対して、次に光電変換機構について説明する。図
中３４は前記歯車３１から下方向へ長尺に延設されてい
る支軸シャフト、３５は該シャフト３４の後万端に固定
されているベベルギア等の歯車、３６はこれと対葡なす
歯車、３７と３８も同じく歯車、３９はこれらの歯車３
５ 、３６ 、３７および３８？介してＡｉｌ記シャフ
ト３４の回転が伝達されるクランクレノく−である。つ
ぎに、図中４２は前記クランクレバー３９に連結され往
復動する摺動台であり、４３は該摺動台４２の摺動方向
を案内するためのガイド？示している。（第４図参照）
図示の如く、摺動台４２ケ挾む恰好で両側に摺動ガイド
４３ 、４３が配置され、このガイド４３ 、４３の各
々Ｖこは長溝４３αが穿設されていて該長溝４３σ内＊
ｉｉｊ記摺動台４２の支軸ビン４２（Ｚが移動するこ
とになる。か力・る摺動台構造にあって、図中４０と４
１は共に摺動台４２の上部に取付けられた光電変換器で
あり、一方の光電変換器４０はミラー２５によって所定
の振幅角度で以って振られ＊Ｈｅ −Ｎｅレーザ光がガ
ラス基盤２１およびターンテーブル２２に穿設した孔全
通過する光束のうち第零次回折光全受光するためのもの
であり、他方光電変換器４１は同じく通過したレーザ光
束のうち第一次回折光全受光するためのものである。更
に、図中４４は前記光電変換器４．０ 、４１からの電
気信号？入力として受信し現像液弁４５と純水弁４６ケ
制御するための制御回路である、４５（Ｚと４６ａは双
方の弁の先方に設けた現像液噴霧ノズルと純水噴霧ノズ
ルである。
つぎに、上述の如く構成された実施例装置の作動態様を
説明する。基盤２１はターンテーブル２２の駆動と共に
一定の速度で回転する。現像液唄楊ノズル４５ａから現
像液が噴霧されて基盤２１上葡流下し現像が進行する。
説明する。基盤２１はターンテーブル２２の駆動と共に
一定の速度で回転する。現像液唄楊ノズル４５ａから現
像液が噴霧されて基盤２１上葡流下し現像が進行する。
また、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源２４カら発せられたレーザ
光はミラー２５に、［：５反射されて基盤２１に照射さ
れ、フォトレジスト膜上の現像の進行したビット列に工
９回折した第零次回折光と第一次回折光が基盤２１を通
過する。これら双方の回折光はその一方が光電変換器４
０に工っで、他方が光電変換器４１によって夫々受光さ
れて相互の強度比が検出される。ここに至る段階で前記
ミラー２５はレーザ光がガラス基盤２１上の半径方向へ
Ｌつ信号記録幅の振幅で以って照射されるように微少角
度の揺動作全行ない、これに協動してレーザ回折光全受
光する光電変換器４０ 、４１も又摺動台４３の摺動に
伴って移動する。ここで、以上の動作を要約すると、前
記ミラー２５の揺動した角度位置と光電変換器４０ 、
４１との相対的位置を同期なさしめる点が主旨となって
いる。これに対し、他の構造実施例として考えられる点
は、光電変換器４０ 、４１を移動させず、この移動機
構一式ヶその侭前記基盤２１ケセットしたターンテーブ
ル２２等の回転駆動機構に組込んで、つ寸９基盤２１自
体をスライドさせてレーザ光を直径方向且つ信号記録幅
のストロークで７オトレジスト膜に数回定食させる構造
も可能である。
光はミラー２５に、［：５反射されて基盤２１に照射さ
れ、フォトレジスト膜上の現像の進行したビット列に工
９回折した第零次回折光と第一次回折光が基盤２１を通
過する。これら双方の回折光はその一方が光電変換器４
０に工っで、他方が光電変換器４１によって夫々受光さ
れて相互の強度比が検出される。ここに至る段階で前記
ミラー２５はレーザ光がガラス基盤２１上の半径方向へ
Ｌつ信号記録幅の振幅で以って照射されるように微少角
度の揺動作全行ない、これに協動してレーザ回折光全受
光する光電変換器４０ 、４１も又摺動台４３の摺動に
伴って移動する。ここで、以上の動作を要約すると、前
記ミラー２５の揺動した角度位置と光電変換器４０ 、
４１との相対的位置を同期なさしめる点が主旨となって
いる。これに対し、他の構造実施例として考えられる点
は、光電変換器４０ 、４１を移動させず、この移動機
構一式ヶその侭前記基盤２１ケセットしたターンテーブ
ル２２等の回転駆動機構に組込んで、つ寸９基盤２１自
体をスライドさせてレーザ光を直径方向且つ信号記録幅
のストロークで７オトレジスト膜に数回定食させる構造
も可能である。
この作動のより詳しくは、先ずモータ３３の回転が各歯
車３２ 、３１ 、３０奮介し減速されてカム２９に伝
達され、次いで、スプリング４７によってカム２９に当
接する工うに付勢されているカムローラ２８に対し、カ
ム２９はスプリング４７の付勢力に抗しながらカムロー
ラ２８ケ介してリンクレバー２７２回動させる。このリ
ンクレバー２７の回動に連動してミラー２５はその軸２
６ケ中心にしてカム２９の回動量に相当する角度たけ煩
多Ｉし、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源２４から発せられたレー
ザ光をミラー２５に反射させてその傾斜角度分を振る。
車３２ 、３１ 、３０奮介し減速されてカム２９に伝
達され、次いで、スプリング４７によってカム２９に当
接する工うに付勢されているカムローラ２８に対し、カ
ム２９はスプリング４７の付勢力に抗しながらカムロー
ラ２８ケ介してリンクレバー２７２回動させる。このリ
ンクレバー２７の回動に連動してミラー２５はその軸２
６ケ中心にしてカム２９の回動量に相当する角度たけ煩
多Ｉし、Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源２４から発せられたレー
ザ光をミラー２５に反射させてその傾斜角度分を振る。
一方、シャフト３４の垂直下方に固定されているかさげ
歯車３５、これに１佃合する歯車３６、その他事歯車３
７．３８’ｅ介し減速されなからモータ３３の回転はク
ランクレバー３９および摺動台４２の往復動に至る１で
伝達され、これに伴って光電並換器４０ ； ４１の移
動に１９ガラス基盤２１の半径方向およびフォトレジス
ト膜の信号記録幅としての直線運動に変換されこれはミ
ラー２５の角度位置に同期的に行われる。然るに、基盤
フォトレジスト膜上のピッ）Ｋより回折されたレーザ光
束中第零次、第一次回折光を夫々光電変換器４０’、４
１の受光面にて常時受光し、こうして得られた第零次回
折光と第一次回折光との強度比が所定値に達した際に、
制御回路４４は現像液弁４５ヲ閉じて現像液の供給全停
止させ１２次いで純水弁４６荀開いて純水全純水ノズル
４６ｄカ・ら散布し現像処理全停止させる０７Ｚオ、前
記実施例構造に於いては、カム２９およびクランクレバ
ー３９に対する駆動伝達の手段として歯車群を用いたが
、これに代えてベルトによる伝達方法を採用しても構わ
ないし、特にかさげ歯車３５ 、３６等はテーバプーリ
とか平ベルトに代えて用いると加工の複雑さが解消でき
る。更に、カム２９とクランクレバー ３９ ｗ同一の
モータ３３により連繋駆動させたが、これらを単独で二
基のモータで駆動させること［エフ、カム２９とクラン
クレバー３９の位置や速度？磁気ヘッドもしくは光電変
換器に設けたスリットの組合せｉとで検出し、レーザ回
折光孕光電変換器４０ 、４１の受光面に照射させるよ
うにカム２９とクランクレバー３９の相互間の運動？同
期させることも可能である。この場合、装置全体の空間
的配ｔｔ’にシャフト３４で制約されることなく設計の
自由度が増すと云った利点がある。
歯車３５、これに１佃合する歯車３６、その他事歯車３
７．３８’ｅ介し減速されなからモータ３３の回転はク
ランクレバー３９および摺動台４２の往復動に至る１で
伝達され、これに伴って光電並換器４０ ； ４１の移
動に１９ガラス基盤２１の半径方向およびフォトレジス
ト膜の信号記録幅としての直線運動に変換されこれはミ
ラー２５の角度位置に同期的に行われる。然るに、基盤
フォトレジスト膜上のピッ）Ｋより回折されたレーザ光
束中第零次、第一次回折光を夫々光電変換器４０’、４
１の受光面にて常時受光し、こうして得られた第零次回
折光と第一次回折光との強度比が所定値に達した際に、
制御回路４４は現像液弁４５ヲ閉じて現像液の供給全停
止させ１２次いで純水弁４６荀開いて純水全純水ノズル
４６ｄカ・ら散布し現像処理全停止させる０７Ｚオ、前
記実施例構造に於いては、カム２９およびクランクレバ
ー３９に対する駆動伝達の手段として歯車群を用いたが
、これに代えてベルトによる伝達方法を採用しても構わ
ないし、特にかさげ歯車３５ 、３６等はテーバプーリ
とか平ベルトに代えて用いると加工の複雑さが解消でき
る。更に、カム２９とクランクレバー ３９ ｗ同一の
モータ３３により連繋駆動させたが、これらを単独で二
基のモータで駆動させること［エフ、カム２９とクラン
クレバー３９の位置や速度？磁気ヘッドもしくは光電変
換器に設けたスリットの組合せｉとで検出し、レーザ回
折光孕光電変換器４０ 、４１の受光面に照射させるよ
うにカム２９とクランクレバー３９の相互間の運動？同
期させることも可能である。この場合、装置全体の空間
的配ｔｔ’にシャフト３４で制約されることなく設計の
自由度が増すと云った利点がある。
これらの利点に併せて、本発明の実施例構造によれば、
レーザ光源から発せられたレーザ光の入射角度葡傾動自
在ナミラー機構で調整でき、しかもこのミラーの動作に
協動する形式で光電変換益金適時移動させることに、ｌ
：り、基盤の回転に１かせつつその全周面Ｖこ亘って現
像状況ケ常にモニターてきるといった大きな利点が得ら
れるのである。
レーザ光源から発せられたレーザ光の入射角度葡傾動自
在ナミラー機構で調整でき、しかもこのミラーの動作に
協動する形式で光電変換益金適時移動させることに、ｌ
：り、基盤の回転に１かせつつその全周面Ｖこ亘って現
像状況ケ常にモニターてきるといった大きな利点が得ら
れるのである。
第１図は従来のフォトレジスト湿式現像装置を示す概略
図、第２図は本発明実施例構造の一部断面欠含む配置図
、第３図と第４図は第２図の構造一部の詳細図である。 主要部分の符号の説明 ２］・・・基 盤 ２２・・・ターンテーブル
２３・・・ターンテーブル軸 ２４−Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源 ２５・・・ミラー ２７・・・リンクレバー２
８・・・カムローフ ２９・・・カ ム３９・・
・クランクレバー４０ 、４１・・・光電変換器４２・
・・摺動台 ４３・・・摺動ガイド４４・・・
制御回路 ４５・・・現像液弁４５ａ・・・現像
液弁の噴霧ノズル ４６・・・純水弁 ４６（Ｚ ・・・純水弁の
噴霧ノズル４７・・・スプリング 出願人 パイオニア株式会社 代理人 弁理士 藤 村 元 彦（ｙｈ ｊ ！、
）策２図 簗、３ ［２Ｊ
図、第２図は本発明実施例構造の一部断面欠含む配置図
、第３図と第４図は第２図の構造一部の詳細図である。 主要部分の符号の説明 ２］・・・基 盤 ２２・・・ターンテーブル
２３・・・ターンテーブル軸 ２４−Ｈｅ−Ｎｅレーザ光源 ２５・・・ミラー ２７・・・リンクレバー２
８・・・カムローフ ２９・・・カ ム３９・・
・クランクレバー４０ 、４１・・・光電変換器４２・
・・摺動台 ４３・・・摺動ガイド４４・・・
制御回路 ４５・・・現像液弁４５ａ・・・現像
液弁の噴霧ノズル ４６・・・純水弁 ４６（Ｚ ・・・純水弁の
噴霧ノズル４７・・・スプリング 出願人 パイオニア株式会社 代理人 弁理士 藤 村 元 彦（ｙｈ ｊ ！、
）策２図 簗、３ ［２Ｊ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （ｉ） 透明な基盤の平坦な側面上のフォトレジスト
膜に現像液を接触させて前記フォトレジスト膜の所定径
路勿なして不連続的に感光した部分を溶解除去すること
にょ９前記フオトレジスト膜に不連続的なビットの列を
形成する現像装置であって、前記基盤全回転させるため
の回転駆動手段と、前記フォトレジスト膜上に前記現像
液を供給し前記フォトレジスト膜に沿って前記現像液を
接触させるための現像液供給手段と、前記フォトレジス
ト膜に対して所定角度傾斜した方向力・らレーザ光を照
射させるためのレーザ光照射手段と、前記基盤から発せ
られるレーザ回折光に応じた電気信号を発生する光電変
換手段と、前記電気信号に応じて前記現像液供給手段ケ
制御するための制御手段とからなり、前記回転駆動手段
に対するｍＪ記レーザ光照射手段および＠配光電変換手
段の相対的位置？移動自在になして、前記レーザ回折光
？前記フォトレジスト膜の広範囲に亘って検出できるよ
うにした事を特徴とするフォトレジスト湿式現像装置。 （２）＠記し−ザ光照射手段は、レーザ光源と、レーザ
光を前記基盤に向けて反射させるためのミラーと〃・ら
ｌり、前記ミラー全揺動自在に且つ前記光電変換手段を
移動自在に設け、前記ミラーの角度位置と前記光−電変
換手段の受光面との相対的位置を同期して変動せしめる
駆動手段？設けて構成した事を特徴とする特許請求の範
囲＠１項記載の７オトレジスト湿式現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4692183A JPS59171957A (ja) | 1983-03-19 | 1983-03-19 | フオトレジスト湿式現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4692183A JPS59171957A (ja) | 1983-03-19 | 1983-03-19 | フオトレジスト湿式現像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59171957A true JPS59171957A (ja) | 1984-09-28 |
Family
ID=12760792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4692183A Pending JPS59171957A (ja) | 1983-03-19 | 1983-03-19 | フオトレジスト湿式現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59171957A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6198231U (ja) * | 1984-12-01 | 1986-06-24 | ||
| JPS61130032U (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-14 | ||
| US5508808A (en) * | 1993-11-22 | 1996-04-16 | Nec Corporation | Development sensor apparatus for monitoring the progression of development of an optical disk master |
-
1983
- 1983-03-19 JP JP4692183A patent/JPS59171957A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6198231U (ja) * | 1984-12-01 | 1986-06-24 | ||
| JPH0320915Y2 (ja) * | 1984-12-01 | 1991-05-07 | ||
| JPS61130032U (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-14 | ||
| US5508808A (en) * | 1993-11-22 | 1996-04-16 | Nec Corporation | Development sensor apparatus for monitoring the progression of development of an optical disk master |
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