JPH07142383A - 現像用センサ装置 - Google Patents
現像用センサ装置Info
- Publication number
- JPH07142383A JPH07142383A JP5315887A JP31588793A JPH07142383A JP H07142383 A JPH07142383 A JP H07142383A JP 5315887 A JP5315887 A JP 5315887A JP 31588793 A JP31588793 A JP 31588793A JP H07142383 A JPH07142383 A JP H07142383A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0675—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating using interferometry
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 回析光の光軸が変化しても常に同一条件で回
析光の受光ができ、これにより現像進行状態を正確にモ
ニタし得る現像用センサ装置を提供すること。 【構成】 パターンが露光された原盤１のパターン面上
の現像モニタポイント１ａにレーザビームを照射する光
学系と、現像モニタポイント１ａからの０次回析光及び
１次回析光を別々に受光する０次光検出部２，１次光検
出部３と、この各光検出部２，３から出力される回析光
検出信号ａ，ｂに基づいて０次回析光と１次回析光との
回析光比を算出する回折光比算出部１０とを備え、レー
ザビームＬの１次回析光Ｌ1 を１次光検出部３に向けて
反射する楕円面ミラー４を、現像モニタポイント１ａと
１次光検出部３ａとの間に装備したこと。
析光の受光ができ、これにより現像進行状態を正確にモ
ニタし得る現像用センサ装置を提供すること。 【構成】 パターンが露光された原盤１のパターン面上
の現像モニタポイント１ａにレーザビームを照射する光
学系と、現像モニタポイント１ａからの０次回析光及び
１次回析光を別々に受光する０次光検出部２，１次光検
出部３と、この各光検出部２，３から出力される回析光
検出信号ａ，ｂに基づいて０次回析光と１次回析光との
回析光比を算出する回折光比算出部１０とを備え、レー
ザビームＬの１次回析光Ｌ1 を１次光検出部３に向けて
反射する楕円面ミラー４を、現像モニタポイント１ａと
１次光検出部３ａとの間に装備したこと。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、現像用センサ装置に係
り、とくに、光ディスク原盤の現像に際してその進行状
況を把握するための現像用センサ装置に関する。
り、とくに、光ディスク原盤の現像に際してその進行状
況を把握するための現像用センサ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の現像用センサ装置は、例えば特開
昭５９−１７１９５７号公報，特開昭６０−２１２８３
２号公報，特開平１−２９８３５６号公報，或いは文献
「第１３回画像工学コンファレンス５−２ｐ．１０５」
等で示されているように、現像中のフォトレジスト基板
上のパターン面にレーザビームを照射することにより得
られる０次，１次の各回析光を、パターン面上の照射点
との相対位置が固定された光検出部にて直接受光し、各
回析光の検出信号から回析光比を算出する構成になって
いた。
昭５９−１７１９５７号公報，特開昭６０−２１２８３
２号公報，特開平１−２９８３５６号公報，或いは文献
「第１３回画像工学コンファレンス５−２ｐ．１０５」
等で示されているように、現像中のフォトレジスト基板
上のパターン面にレーザビームを照射することにより得
られる０次，１次の各回析光を、パターン面上の照射点
との相対位置が固定された光検出部にて直接受光し、各
回析光の検出信号から回析光比を算出する構成になって
いた。
【０００３】図２に、従来の現像装置の一例を構成する
主要部分の図である。
主要部分の図である。
【０００４】この図２において、現像時に、原盤５１の
裏面より入射したモニタ用レーザビームＬは現像の進行
によって原盤１上に形成されるフォトレジストパターン
で回析し、０次回析光Ｌ0 と１次回析光Ｌ1 とがそれぞ
れ光センサ５２，５３で受光される。
裏面より入射したモニタ用レーザビームＬは現像の進行
によって原盤１上に形成されるフォトレジストパターン
で回析し、０次回析光Ｌ0 と１次回析光Ｌ1 とがそれぞ
れ光センサ５２，５３で受光される。
【０００５】回析光比算出部６０は、０次回析光Ｌ0 を
受光した光センサ５２が出力する検出信号ａと１次回析
光Ｌ1 を受光した光センサ５３が出力するセンサ信号ｂ
とから回析光比を算出し、現像モニタ信号ｃを出力す
る。これによって、外部では、光ディスク原盤の現像の
進行状況を把握することができるようになっている。こ
の場合、現像装置は、回析光比が所望の値になったとき
に現像を停止するようになっている。
受光した光センサ５２が出力する検出信号ａと１次回析
光Ｌ1 を受光した光センサ５３が出力するセンサ信号ｂ
とから回析光比を算出し、現像モニタ信号ｃを出力す
る。これによって、外部では、光ディスク原盤の現像の
進行状況を把握することができるようになっている。こ
の場合、現像装置は、回析光比が所望の値になったとき
に現像を停止するようになっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、１次回
析光は、フォトレジスト基板上を流れる現像液の流れの
状態或いはフォトレジスト基板を基板回転部に設置する
ときの偏芯の状態等によって回析光の光軸方向が変化す
るのに対し、上記各従来例にあっては、モニタ用レーザ
ビームのフォトレジスト基板上への照射点に対して相対
位置が固定された光センサによって前述した１次回析光
を直接受光するため、光センサ面での受光位置が変化
し、光センサ面内の受光感度のバラツキが影響して現像
進行状態を正確にモニタできないという不都合が生じて
いた。
析光は、フォトレジスト基板上を流れる現像液の流れの
状態或いはフォトレジスト基板を基板回転部に設置する
ときの偏芯の状態等によって回析光の光軸方向が変化す
るのに対し、上記各従来例にあっては、モニタ用レーザ
ビームのフォトレジスト基板上への照射点に対して相対
位置が固定された光センサによって前述した１次回析光
を直接受光するため、光センサ面での受光位置が変化
し、光センサ面内の受光感度のバラツキが影響して現像
進行状態を正確にモニタできないという不都合が生じて
いた。
【０００７】更に、フォトレジスト基板上に形成される
パターンのピッチが異なる場合には１次回析光の回析角
度が異なり、これがため１次回析光を受光する光センサ
の位置調整等に際しては多くの手間と熟練を要する、と
いう不都合があった。
パターンのピッチが異なる場合には１次回析光の回析角
度が異なり、これがため１次回析光を受光する光センサ
の位置調整等に際しては多くの手間と熟練を要する、と
いう不都合があった。
【０００８】
【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、とくに回析光の光軸方向が変化しても常に同
一条件で当該回析光を受光することができ、これによっ
て現像進行状態を正確にモニタすることができる現像用
センサ装置を提供することを、その目的とする。
を改善し、とくに回析光の光軸方向が変化しても常に同
一条件で当該回析光を受光することができ、これによっ
て現像進行状態を正確にモニタすることができる現像用
センサ装置を提供することを、その目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明では、パターンが
露光されたフォトレジスト基板のパターン面上の現像モ
ニタポイントにレーザビームを照射する光学系と、現像
モニタポイントとレーザビームの１次回析光の検出ポイ
ントとを一方と他方の焦点とすると共に当該１次回析光
のみを反射する楕円面ミラーと、０次光及び１次回析光
を別々に受光する０次光検出部，１次光検出部とを備え
ている。
露光されたフォトレジスト基板のパターン面上の現像モ
ニタポイントにレーザビームを照射する光学系と、現像
モニタポイントとレーザビームの１次回析光の検出ポイ
ントとを一方と他方の焦点とすると共に当該１次回析光
のみを反射する楕円面ミラーと、０次光及び１次回析光
を別々に受光する０次光検出部，１次光検出部とを備え
ている。
【００１０】この各光検出部からの検出信号に基づいて
作動し，０次光と１次回析光との回析光比を算出する回
折光比算出部を具備する、という構成を採っている。こ
れによって前述した目的を達成しようとするものであ
る。
作動し，０次光と１次回析光との回析光比を算出する回
折光比算出部を具備する、という構成を採っている。こ
れによって前述した目的を達成しようとするものであ
る。
【００１１】
【作 用】モニタ用レーザビームＬは原盤１上の現像モ
ニタポイント１ａに裏面より照射され、現像により形成
されるフォトレジストパターンによって回析する。
ニタポイント１ａに裏面より照射され、現像により形成
されるフォトレジストパターンによって回析する。
【００１２】楕円面ミラー４の一方の焦点にある現像モ
ニタポイント１ａから出射された回析光の内、０次回析
光Ｌ0 は光センサ２上で受光され、１次回析光Ｌ1 は楕
円面ミラー４で反射されたのち、当該楕円面ミラー４の
他方の焦点に位置する光センサ３の面上の１次回析光の
検出ポイント３ａで受光される。
ニタポイント１ａから出射された回析光の内、０次回析
光Ｌ0 は光センサ２上で受光され、１次回析光Ｌ1 は楕
円面ミラー４で反射されたのち、当該楕円面ミラー４の
他方の焦点に位置する光センサ３の面上の１次回析光の
検出ポイント３ａで受光される。
【００１３】回析光比算出部１０は、光センサ２，３の
出力する検出信号ａ，ｂから回析光比を算出し現像モニ
タ信号ｃとして出力する。
出力する検出信号ａ，ｂから回析光比を算出し現像モニ
タ信号ｃとして出力する。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１に基づいて説
明する。
明する。
【００１５】この図１に示す実施例は、モニタ用のレー
ザビームＬを原盤１の裏面より現像モニタポイント１ａ
に照射することによって得られる０次回析光Ｌ0 と１次
回析光Ｌ1 とを各々受光し回析光検出信号ａ，ｂを出力
する０次光検出部２，１次光検出部３と、回析光検出信
号ａ，ｂから回析光比を算出し現像モニタ信号ｃを出力
する回析光比算出部１０と、現像モニタポイント１ａと
１次回析光の検出ポイント３ａとを焦点とし１次回析光
のみ反射するにたる大きさの楕円面ミラー４とを備えて
いる。
ザビームＬを原盤１の裏面より現像モニタポイント１ａ
に照射することによって得られる０次回析光Ｌ0 と１次
回析光Ｌ1 とを各々受光し回析光検出信号ａ，ｂを出力
する０次光検出部２，１次光検出部３と、回析光検出信
号ａ，ｂから回析光比を算出し現像モニタ信号ｃを出力
する回析光比算出部１０と、現像モニタポイント１ａと
１次回析光の検出ポイント３ａとを焦点とし１次回析光
のみ反射するにたる大きさの楕円面ミラー４とを備えて
いる。
【００１６】モニタ用レーザビームＬは原盤１上の現像
モニタポイント１ａに裏面より照射され、現像により形
成されるフォトレジストパターンによって回析する。
モニタポイント１ａに裏面より照射され、現像により形
成されるフォトレジストパターンによって回析する。
【００１７】楕円面ミラー４の一方の焦点にある現像モ
ニタポイント１ａから出射された回析光の内、０次回析
光Ｌ0 は０次光検出部２上で受光され、１次回析光Ｌ1
は楕円面ミラー４で反射されたのち、当該楕円面ミラー
４の他方の焦点に位置する１次光検出部３の面上の１次
回析光の検出ポイント３ａで受光される。
ニタポイント１ａから出射された回析光の内、０次回析
光Ｌ0 は０次光検出部２上で受光され、１次回析光Ｌ1
は楕円面ミラー４で反射されたのち、当該楕円面ミラー
４の他方の焦点に位置する１次光検出部３の面上の１次
回析光の検出ポイント３ａで受光される。
【００１８】回析光比算出部１０は、０次光検出部２，
１次光検出部３の出力する検出信号ａ，ｂから回析光比
を算出し現像モニタ信号ｃとして出力する。そして、現
像モニタ信号ｃを入力した現像装置では、当該現像モニ
タ信号ｃで現像進行状態をモニタし、所望のレベルとな
ったときに当該原盤１上の現像作業を終了する。
１次光検出部３の出力する検出信号ａ，ｂから回析光比
を算出し現像モニタ信号ｃとして出力する。そして、現
像モニタ信号ｃを入力した現像装置では、当該現像モニ
タ信号ｃで現像進行状態をモニタし、所望のレベルとな
ったときに当該原盤１上の現像作業を終了する。
【００１９】ここで、図１の具体例を開示すると、例え
ば、モニタ用レーザビームＬの波長を６３２．８〔ｎ
ｍ〕、現像モニタポイント１ａと１次回析光の検出ポイ
ント３ａとの距離を４００〔ｍｍ〕とした場合、まず最
初に、長径２５０〔ｍｍ〕，短径１５０〔ｍｍ〕とする
楕円面ミラー４を、現像モニタポイント１ａと１次回析
光の検出ポイント３ａとに焦点が位置するように設置す
る。
ば、モニタ用レーザビームＬの波長を６３２．８〔ｎ
ｍ〕、現像モニタポイント１ａと１次回析光の検出ポイ
ント３ａとの距離を４００〔ｍｍ〕とした場合、まず最
初に、長径２５０〔ｍｍ〕，短径１５０〔ｍｍ〕とする
楕円面ミラー４を、現像モニタポイント１ａと１次回析
光の検出ポイント３ａとに焦点が位置するように設置す
る。
【００２０】このとき、楕円面ミラー４は、その両端点
と現像モニタポイントとを結ぶ直線とモニタ用レーザビ
ームＬの光軸とのなす角度θ2 ，θ3 が各々２０°，４
０°となる範囲の大きさに設定すると、例えばピッチ
０．８〜１．６〔μｍ〕の範囲内でのパターンを形成す
る原盤では、１次回析光の回析角θ1 が２３°〜３９°
となり、２次以上の高次の回析光の回析角度は５０°以
上となるので、常に１次回析光のみを光センサ３の面上
の検出ポイント３ａへ反射させて受光することができ
る。
と現像モニタポイントとを結ぶ直線とモニタ用レーザビ
ームＬの光軸とのなす角度θ2 ，θ3 が各々２０°，４
０°となる範囲の大きさに設定すると、例えばピッチ
０．８〜１．６〔μｍ〕の範囲内でのパターンを形成す
る原盤では、１次回析光の回析角θ1 が２３°〜３９°
となり、２次以上の高次の回析光の回析角度は５０°以
上となるので、常に１次回析光のみを光センサ３の面上
の検出ポイント３ａへ反射させて受光することができ
る。
【００２１】また、ピッチ０．８〔μｍ〕以下のパター
ンの場合も、同様にして設定した大きさの楕円面ミラー
を用いて現像モニタを行うことができる。
ンの場合も、同様にして設定した大きさの楕円面ミラー
を用いて現像モニタを行うことができる。
【００２２】
【発明の効果】本発明は以上のように構成され機能する
ので、これによると、フォトレジスタパターンにより生
ずる回析光の内，現像中にフォトレジスト基板上を流れ
る現像液の流れの状態やフォトレジスト基板を基板回転
部に設置するときの偏芯の状態で光軸方向が変化する１
次回析光を、現像モニタポイントと１次回析光の検出ポ
イントとを焦点とする楕円面ミラーによって反射させる
ことができ、このため、当該１次回析光を常に１次光検
出部面上に固定された検出ポイントで受光することがで
き、これがため１次回析光を１次光検出部面の極狭い領
域内で受光することができ、従って、１次光検出部のセ
ンサ面上の受光感度のバラツキや１次回析光の出力方向
に変化が生じてもこれを有効に許容して現像進行状態を
正確にモニタすることができ、更に、原盤であるフォト
レジスト基板上に形成されるパターンのピッチが異なる
場合でもピッチにあわせて１次回析光を受光する光セン
サの位置調整等を行う必要がなくなり、かかる点におい
て従来必要としていた光センサの位置調整にかかる時間
と労力が全く不要とすることができるという従来にない
優れた現像用センサ装置を提供することができる。
ので、これによると、フォトレジスタパターンにより生
ずる回析光の内，現像中にフォトレジスト基板上を流れ
る現像液の流れの状態やフォトレジスト基板を基板回転
部に設置するときの偏芯の状態で光軸方向が変化する１
次回析光を、現像モニタポイントと１次回析光の検出ポ
イントとを焦点とする楕円面ミラーによって反射させる
ことができ、このため、当該１次回析光を常に１次光検
出部面上に固定された検出ポイントで受光することがで
き、これがため１次回析光を１次光検出部面の極狭い領
域内で受光することができ、従って、１次光検出部のセ
ンサ面上の受光感度のバラツキや１次回析光の出力方向
に変化が生じてもこれを有効に許容して現像進行状態を
正確にモニタすることができ、更に、原盤であるフォト
レジスト基板上に形成されるパターンのピッチが異なる
場合でもピッチにあわせて１次回析光を受光する光セン
サの位置調整等を行う必要がなくなり、かかる点におい
て従来必要としていた光センサの位置調整にかかる時間
と労力が全く不要とすることができるという従来にない
優れた現像用センサ装置を提供することができる。
【図１】本発明の実施例を示す概略構成図である。
【図２】従来例を示す説明図である。
１ 原盤 １ａ 現像モニタポイント ２ ０次光検出部 ３ １次光検出部 ３ａ 検出ポイント ４ 楕円面ミラー １０ 回析光比算出部 Ｌ モニタ用レーザビーム Ｌ0 ０次回析光 Ｌ1 １次回析光 ａ，ｂ 回析光検出信号 ｃ 現像モニタ信号 θ1 １次回析光の回析角度
Claims (2)
- 【請求項１】 パターンが露光された原盤のパターン面
上の現像モニタポイントにレーザビームを照射する光学
系と、前記現像モニタポイントからの０次回析光及び１
次回析光を別々に受光する０次光検出部，１次光検出部
と、この各光検出部から出力される回析光検出信号に基
づいて０次回析光と１次回析光との回析光比を算出する
回折光比算出部とを備えた現像用センサ装置において、 前記レーザビームの１次回析光を前記１次光検出部に向
けて反射する楕円面ミラーを、前記現像モニタポイント
と前記１次光検出部との間に装備したことを特徴とする
現像用センサ装置。 - 【請求項２】 前記楕円面ミラーの他方の焦点が、前記
一方の焦点が設定された原盤の面の延長上に設定されて
いることを特徴とした請求項１記載の現像用センサ装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5315887A JPH07142383A (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 現像用センサ装置 |
| US08/337,526 US5508808A (en) | 1993-11-22 | 1994-11-08 | Development sensor apparatus for monitoring the progression of development of an optical disk master |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5315887A JPH07142383A (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 現像用センサ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07142383A true JPH07142383A (ja) | 1995-06-02 |
Family
ID=18070804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5315887A Pending JPH07142383A (ja) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | 現像用センサ装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5508808A (ja) |
| JP (1) | JPH07142383A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6266632A (ja) * | 1985-09-19 | 1987-03-26 | Fujitsu Ltd | マスクとウエ−ハの位置合わせ方法 |
| JPS6395303A (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-26 | Fujitsu Ltd | 半導体ウェーハの位置合わせ検査装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4303341A (en) * | 1977-12-19 | 1981-12-01 | Rca Corporation | Optically testing the lateral dimensions of a pattern |
| US4330213A (en) * | 1980-02-14 | 1982-05-18 | Rca Corporation | Optical line width measuring apparatus and method |
| JPS59171957A (ja) * | 1983-03-19 | 1984-09-28 | Pioneer Electronic Corp | フオトレジスト湿式現像装置 |
| US4601576A (en) * | 1983-12-09 | 1986-07-22 | Tencor Instruments | Light collector for optical contaminant and flaw detector |
| US4615620A (en) * | 1983-12-26 | 1986-10-07 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for measuring the depth of fine engraved patterns |
| JPS60212832A (ja) * | 1984-04-09 | 1985-10-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 円盤状記録担体現像モニタ−方法 |
| JPH01298356A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-01 | Hitachi Ltd | フォトレジスト湿式現像装置 |
-
1993
- 1993-11-22 JP JP5315887A patent/JPH07142383A/ja active Pending
-
1994
- 1994-11-08 US US08/337,526 patent/US5508808A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6266632A (ja) * | 1985-09-19 | 1987-03-26 | Fujitsu Ltd | マスクとウエ−ハの位置合わせ方法 |
| JPS6395303A (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-26 | Fujitsu Ltd | 半導体ウェーハの位置合わせ検査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5508808A (en) | 1996-04-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19970218 |