JPH04141840A - フォトレジスト自動現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光デイスク原盤製造時等のフォトレジストを
現像する工程でレーザ光を用いて現像状態をモニターし
現像を制御するフォトレジスト自動現像装置に関する。

従来の技術 光ディスクはレーザ光によって記録と再生ができ、非接
触で高密度記録ができるので、近年広く用いられるよう
になってきている。光ディスクの製造方法としては、あ
らかじめ情報を凹凸の有無に変換して記録した原盤を作
り、この原盤から多数枚の複数盤を作る方法が一般的で
ある。原盤を作成するには、ガラス基盤や金属基盤にフ
ォトレジストを塗布し、レーザ光を用いて情報信号に対
応した露光を行い、その潜像を次の現像プロセスで凹凸
パターンとして顕像化させる。

一般にフォトレジストの現像感度は、フォトレジストの
製造ロットや塗布条件、現像液の条件等、多くの因子に
よって大幅に変化し、でき上った光ディスクの再生信号
の質に影響を与える。しかし、これらの因子をいつも同
じ条件下におくことは実際上きわめて困難である。従っ
て記録時の露光量の変動も含めて現像の進行状態を監視
し、現像の終端を制御することにより、これらの変動要
因をまとめて吸収する方法がとられている。実際には現
像しようとする記録済みフォトレジスト原盤にレーザ光
を通過させておくと、現像が進行するとともに記録信号
に応じて形成された凹凸すなわちビットの溝構造が回折
格子として作用するので回折光を生じてくる。これを検
知して現像の進行を判断し自動現像を行う方法が一般に
よく利用されている。このような従来のレーザモニター
フォトレジスト自動現像装置について以下に述べる。

レーザモニターフォトレジスト自動現像装置には、第２
図に示す反射型と第３図に示す透過型とがある。

すなわち、レーザ露光装置により露光されたフォトレジ
スト原盤１をモーター３によって回転するターンテーブ
ル２上に固定する。その後タンテーブル２を回転させ、
液滴下ノズル４より前水洗用の純水を滴下し、フォトレ
ジスト原盤１表面を一様に覆い洗浄する。次いで純水と
現像液の供給を切り替え、液滴下／ズル４より現像液を
滴下する。滴下された現像液はフォトレジスト原盤１表
面を一様に覆う。次にレーザ露光機で露光された部分の
フォトレジスト被膜をエツチングし凹凸の溝を形成して
いく。この現像過程で凹凸の溝に現像モニター用レーザ
光５を照射すると、凹凸の溝構造が回折格子として作用
するので、レーザ出射側に回折光を生してくる。この回
折光の、次回折光、二次回折光と０次光の変化を検出器
６により検出する。それぞれの回折光比かあるレヘル値
になると、現像液と純水の供給を切り替え液滴下ノズル
４より純水を滴下し後水洗を充分行った後、スピン乾燥
により乾燥する。

発明が解決しようとする課題 ところが、従来のレーザモニターによる現像装置では、
現像時液滴下ノズル４より滴下された現像液は、フォト
レジスト原盤１表面を覆い回転の遠心力により外周へと
流れるが、フォトレジスト原盤１表面を流れる現像液は
均一な厚さを維持して流れずに、厚み方向のむらを有し
ながら流れる場合が多い。不均一な厚みの現像液はモニ
ター用レーザ光の光路を通過する際、レーザ光の屈折角
、吸収度等の変動を引き起こし、レーザ光５が揺らぐ。

そのため、検出器６へ入射する光量に変動が生し、正確
な回折光比を検出することかできないという問題がある
。

また、第３図の透過型においては、上記問題の他に、振
り切られた現像液が装置の壁等に当たり飛散し、フォト
レジスト原盤１の裏面に付着する。付着した現像液はモ
ニター用レーザ光５が通過する際、レーザ光に屈折角、
吸収度等の変動を与え検出器６へ入射するレーザ光量を
変動させるという問題もあった。

本発明は上記課題を解決するもので、検出器へ入射する
モニター用レーザ光の変動を防止して、安定した現像制
御のできるフォトレジスト自動現像装置を提供すること
を目的としている。

課題を解決するだめの手段 本発明は上記目的を達成するために、フォトレジスト原
盤上に一定の間隙を隔てて平行に対面した透明保護板を
設け、フォトレジスト原盤表面と透明保護板の間隙に保
持された液体中をモニター用レーザ光が通過するように
したものである。

作用 本発明は上記した構成により、フォトレジスト原盤表面
を流れる現像液は、フォトレジスト原盤表面と、フォト
レジスト原盤表面と平行に対面して置かれた透明保護板
との間の間隙を通過する際、現像液の厚み方向のむらが
、フォトレジスト原盤と透明保護板との間隙により平滑
化され、均一な厚みの現像液体層となる。またフォトレ
ジスト原盤裏面側のモニター用レーザ光路にも前記と同
し構造を有する透明保護板を設け、間隙に液体を連続的
に注入することにより、フォトレジスト原盤表面側と同
じ均一な厚みを有する液体層となる。以上の構造により
モニター用レーザ光は、均一な厚みを有する液体層中を
通過することができ、レーザ光に不要な変動が生じなく
なるとともに、検出器上の光量変動がなく安定した回折
光比を検出することができる。

実施例 以下、本発明の一実施例について、第１図を参照しなが
ら説明する。

図に示すように、モーター３によって回転するターンテ
ーブル２の上にフォトレジスト原盤１を搭載する。モニ
ター用レーザ光５の透過する位置で、フォトレジスト原
盤１のフォトレジストか塗布されている側の表面に、一
定の間隙７を隔ててフォトレジスト原盤１表面と平行に
透明保護板８を配置する。フォトレジスト原盤１の裏面
側にも一定の間隙９を隔ててフォトレジスト原盤１の裏
面と平行に透明保護板１０を配置する。レーザ光５はミ
ラー１１等の光学素子よりなる光学系によって透明保護
板１０７間隙９．フォトレジスト原盤１７間隙７および
透明保護板８を透過した後、検出器６に入射するように
各部品や素子を配置する。フォトレジスト原盤１の表面
側にはフォトレジスト原盤１表面に接近して液滴下ノズ
ル４を配置し、フォトレジスト原盤１の裏面側にはフォ
トレジスト原盤１裏面側表面に接近して純水供給ノズル
１２を配置する。

上記構成において動作を説明すると、ターンテーブル２
を回転させ、液滴下ノズル４よりフォトレジスト原盤１
表面に純水を滴下し前水洗を行う。次いで、純水と現像
液を切り替え、液滴下ノズル４より現像液を滴下する。

滴下された現像液はフォトレジスト原盤１表面を一様に
覆い、レーザ露光機により露光された部分のレジストを
工、。

チングし凹凸の溝を形成する。この現像過程で凹凸の溝
部に現像モニター用レーザ光５を照射する。現像モニタ
ー用レーザ光５はフォトレジスト原盤１裏面より入射し
、フォトレジスト原盤１と間隙を有し平行に対面して置
かれた透明保護板１０および純水供給ノズル１２により
純水か注入され、常時純水で満たされた間隙９とフォト
レジスト原盤１を経てフォトレジスト原盤１表面の凹凸
の溝に照射する。凹凸の溝の回折格子で回折された回折
光は、フォトレジスト原盤１表面およびフォトレジスト
原盤１表面と間隙７を有し平行に対面して設けた透明保
護板８によって厚み方向に平滑化された現像液層と、透
明保護板８を経て検出器６へ至る。検出器６でレーザ光
５の回折光比を検出し値かあるレベルになると、液滴下
ノズル４から滴下供給している現像液を純水に切り替え
後水洗を行う。その後高速回転し乾燥させる。

発明の効果 上記本実施例から明らかなように本発明によれハ、現像
モニター用レーザ光にフォトレジスト原盤表面を不均一
に流れる現像液や飛散した現像液の付着によるレーザ光
屈折角変動や不規則な揺らぎを与えることなく検出器に
導くことができ、安定した現像制御を可能とする。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の一実施例におけるフォトレジスト自動
現像装置の一部断面正面図、第２図、第３図はそれぞれ
従来の反射型および透過型のフォトレジスト自動現像装
置の一部断面正面図である。 １・・・・・・フォトレジスト原盤、５・・・・・・レ
ーザ光、７・・・・・・間隙、８・・・・・・透明保護
板、９・・・・・・間隙、１０・・・・・・透明保護板
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Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　基盤上に露光済みフォトレジスト被膜を有するフォト
   レジスト原盤を保持して前記フォトレジスト被膜を選択
   的に除去する際レーザ光を光源とし現像の進捗状態をモ
   ニターしながら制御するフォトレジスト自動現像装置に
   おいて、モニター用レーザ光路の入射側と出射側の両方
   またはいずれか一方に現像するフォトレジスト原盤表面
   と間隙を有し平行に対面した透明保護板を設け、フォト
   レジスト原盤表面と透明保護板の間隙に液体を保持する
   構造を備えたフォトレジスト自動現像装置。