JPS5814343A - フオトレジスト湿式現像方法及び装置 - Google Patents
フオトレジスト湿式現像方法及び装置Info
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- JPS5814343A JPS5814343A JP56112556A JP11255681A JPS5814343A JP S5814343 A JPS5814343 A JP S5814343A JP 56112556 A JP56112556 A JP 56112556A JP 11255681 A JP11255681 A JP 11255681A JP S5814343 A JPS5814343 A JP S5814343A
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- photoresist film
- laser light
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- master
- laser beam
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3021—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck
- G03F7/3028—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck characterised by means for on-wafer monitoring of the processing
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、不連続的凹所若しくは突起部からなる光学的
パターンを表面に有する光学式記録ディスクの原盤の製
作に用いられるフォトレジスト湿式現像方法及び現像装
置に関する。
パターンを表面に有する光学式記録ディスクの原盤の製
作に用いられるフォトレジスト湿式現像方法及び現像装
置に関する。
かかる光学式記録ディスクは、例えば、光学式ビデオ若
しくはオーディオディスクシステムの記録媒体として用
いられている。光学式ビデオ若しくはオーディオディス
クシステムは、記録媒体であるディスクを回転させなが
らその表面の凹所若しくは突起部からなる光学的ノ（タ
ーンにレーザ光を照射し、その光学的パターンによって
変調され。
しくはオーディオディスクシステムの記録媒体として用
いられている。光学式ビデオ若しくはオーディオディス
クシステムは、記録媒体であるディスクを回転させなが
らその表面の凹所若しくは突起部からなる光学的ノ（タ
ーンにレーザ光を照射し、その光学的パターンによって
変調され。
たレーザ光を電気信号に変換してその光学的）くターン
に対応する情報を再生するものである０当該システムに
用いられる記録ディスクの原盤は、研磨したガラス基盤
の表面にフォトレジスト膜を設けて成るものであって、
当該フォトレジスト膜は、原盤に記録さ乞べき情報に応
じて断続的に照射されるレーザ光によって、渦巻状径路
に沿って不連続的に露光処理され、フォトレジスト膜の
感光した部分は現像液によって溶解除去され、その跡を
二ピットと称される凹所の列が渦巻状に形成される０記
録デイスクは、かかるピッ）を有する原盤から、連続的
な音溝を有する従来のオーディオディスクと同様に複製
生産される。
に対応する情報を再生するものである０当該システムに
用いられる記録ディスクの原盤は、研磨したガラス基盤
の表面にフォトレジスト膜を設けて成るものであって、
当該フォトレジスト膜は、原盤に記録さ乞べき情報に応
じて断続的に照射されるレーザ光によって、渦巻状径路
に沿って不連続的に露光処理され、フォトレジスト膜の
感光した部分は現像液によって溶解除去され、その跡を
二ピットと称される凹所の列が渦巻状に形成される０記
録デイスクは、かかるピッ）を有する原盤から、連続的
な音溝を有する従来のオーディオディスクと同様に複製
生産される。
現像処理に上って形成される上記のビｙ）の深さ及び幅
すなわちトラック方向に垂直な断面の寸法は、光学式ビ
デオ若しくはオーディオディスクシステムにおけるレー
ザ光による情報検出の精度に密接に関連する寸法である
。従って、現像工程は、このピットの断面寸法が所定範
囲内の値となるように管理されねばならない。
すなわちトラック方向に垂直な断面の寸法は、光学式ビ
デオ若しくはオーディオディスクシステムにおけるレー
ザ光による情報検出の精度に密接に関連する寸法である
。従って、現像工程は、このピットの断面寸法が所定範
囲内の値となるように管理されねばならない。
そのため、平坦面上の凹凸による光の回折現象を利用し
て、現像中にレーザ光をフォトレジスト膜に照射しつつ
ピッ）によって回折されたレーザ光成分を検出し、回折
光の強度が所定値に達したとき現像処理を停止させるこ
とによりてピットの断面寸法を制御する方法が考案され
ている。
て、現像中にレーザ光をフォトレジスト膜に照射しつつ
ピッ）によって回折されたレーザ光成分を検出し、回折
光の強度が所定値に達したとき現像処理を停止させるこ
とによりてピットの断面寸法を制御する方法が考案され
ている。
しかし、この方法には次のような問題があるＯすなわち
、ピットによシ回折されたレーザ光を検出する光電変換
手段の出力には、レーザ光源の出力の変化、及び、レー
ザ光の進路に浮遊する塵埃や霧状現像液等によるレーザ
光の吸収、回折若しくは散乱に起因する、ピットの寸法
変イ甲無関係のゆらｔが含まれる。従って、ピットによ
シ回折されたレーザ光の強度のみをかかる光電変換手段
を用いて検出してその出力に基づいて現像処理を制御す
る上記方法によれば、光電変換手段の出力の上記ゆらぎ
や光電変換手段の特性のばらつきが現像処理制御の精度
に反映して、現像処理された原盤の品質にばらつきが生
じることは不可避である０ よって、本発明は、レーザ光を用いてピットの寸法をモ
ニターする上記方法を改良して、レーザ光源の小力変化
や塵埃等浮遊粒子による光電変換手段の出力のゆらぎが
制御精度に影響を与えないように構成された現像方法及
び装、置を提供することを目的とする０ この目的のため、本発明の現像方法は、露光処理された
原盤を回転させつつ、フォトレジスト膜に沿って現像液
を接触させ且っレーザ光源から所定波長のレーザ光を７
オトレジスト膜に照射し且つ、とのレーザ光源によ多発
生されたレーザ光の強度に応じた第１電気信号を発生し
、レーザ光のうちのフォトレジスト膜で所定方向に回折
して原盤を透過したレーザ光成分の強度に応じた第２電
気信号を発生し、この第１及び第２の電気信号の比が所
定値に達したときフォトレジスト膜と現像液上の接触を
停止する構成である。
、ピットによシ回折されたレーザ光を検出する光電変換
手段の出力には、レーザ光源の出力の変化、及び、レー
ザ光の進路に浮遊する塵埃や霧状現像液等によるレーザ
光の吸収、回折若しくは散乱に起因する、ピットの寸法
変イ甲無関係のゆらｔが含まれる。従って、ピットによ
シ回折されたレーザ光の強度のみをかかる光電変換手段
を用いて検出してその出力に基づいて現像処理を制御す
る上記方法によれば、光電変換手段の出力の上記ゆらぎ
や光電変換手段の特性のばらつきが現像処理制御の精度
に反映して、現像処理された原盤の品質にばらつきが生
じることは不可避である０ よって、本発明は、レーザ光を用いてピットの寸法をモ
ニターする上記方法を改良して、レーザ光源の小力変化
や塵埃等浮遊粒子による光電変換手段の出力のゆらぎが
制御精度に影響を与えないように構成された現像方法及
び装、置を提供することを目的とする０ この目的のため、本発明の現像方法は、露光処理された
原盤を回転させつつ、フォトレジスト膜に沿って現像液
を接触させ且っレーザ光源から所定波長のレーザ光を７
オトレジスト膜に照射し且つ、とのレーザ光源によ多発
生されたレーザ光の強度に応じた第１電気信号を発生し
、レーザ光のうちのフォトレジスト膜で所定方向に回折
して原盤を透過したレーザ光成分の強度に応じた第２電
気信号を発生し、この第１及び第２の電気信号の比が所
定値に達したときフォトレジスト膜と現像液上の接触を
停止する構成である。
図示した実施例においては、上記第１電気信号は、該レ
ーザ光の伝播径路中のフォトレジスト膜に至らない位置
におけるレーザ光の残塵又はフォトレジスト膜で回折せ
ずに原盤を透過したレーザ光の強度に応じて発生される
。
ーザ光の伝播径路中のフォトレジスト膜に至らない位置
におけるレーザ光の残塵又はフォトレジスト膜で回折せ
ずに原盤を透過したレーザ光の強度に応じて発生される
。
この方法を実施するための本発明装置は、原盤を回転さ
せるための回転駆動手段と、フォトレジスト膜上に現像
液を供給して７オトレジス）膜に沿って現像液を接触さ
せるための現像液供給手段と、所定波長のレーザ光をフ
ォトレジスト膜に照射するレーザ光源と、レーザ光源に
より発生されたレーザ光の伝播径路中に設けられて受光
量に応じた電気的出力を発生する第１の光電変換手段と
、レーザ光源によ多発生されてフォトレジスト膜で所定
方向に回折して原盤を透過した光の伝播径路中に設けら
れて受光量に応じた電気的出力を発生する第２の光電変
換手段とを含み、この第１及び第２の光電変換手段の出
力の比が所定値に達したときフォトレジスト膜と現像液
との接触を停止させる構成である。
せるための回転駆動手段と、フォトレジスト膜上に現像
液を供給して７オトレジス）膜に沿って現像液を接触さ
せるための現像液供給手段と、所定波長のレーザ光をフ
ォトレジスト膜に照射するレーザ光源と、レーザ光源に
より発生されたレーザ光の伝播径路中に設けられて受光
量に応じた電気的出力を発生する第１の光電変換手段と
、レーザ光源によ多発生されてフォトレジスト膜で所定
方向に回折して原盤を透過した光の伝播径路中に設けら
れて受光量に応じた電気的出力を発生する第２の光電変
換手段とを含み、この第１及び第２の光電変換手段の出
力の比が所定値に達したときフォトレジスト膜と現像液
との接触を停止させる構成である。
上記第１の光電変換手段は、レーザ光の伝播径路中のフ
ォトレジスト膜に至らない位置、又はフォトレジスト膜
で回折せずに原盤全透過した光の進路中に設けられる。
ォトレジスト膜に至らない位置、又はフォトレジスト膜
で回折せずに原盤全透過した光の進路中に設けられる。
次に、図面を参照して本発明の詳細な説明する０
第１図は本発明の一実施例現像装置を示すブロック図で
ある０この装置は処理槽１を有し、露光処理された原盤
２はこの槽内のターンテーブル３に載置される。この実
施例ではターンテーブル３は重力方向に対して所定角度
０だけ傾斜しておシ、電動モータ（図示せず）により駆
動されて原盤２とともに一定速度で回転する。適当な現
像液供給手段りから供給される現像液は、加圧ガス源Ｇ
から供給される例えば窒素等の加圧ガスと加圧タンク４
で混合され、あるいは加圧ガスの有する所定加圧力によ
シ加圧液体となり、パルプ５及びノズル６を介して原盤
２のフォトレジスト膜上に噴霧されてその上を流下し、
槽底の排出ロアから槽外へ排出される。現像液とともに
ノズル６から処理 ゛槽内に噴出した加圧された現像液
又は加圧ガスと現像液との混合流体の１部はパルプ８を
介して処理槽外に排出される。例えばヘリウム−ネオン
レーザチューブ等から方るレーザ光源９が処理槽外に設
けられており、この光源から発生されたレーザ光は、こ
の実施例では処理槽内の原盤に対して所定角度だけ傾斜
した方向から、原盤２に入射する。原盤２はガラス等か
らなる透明な基盤の表面にフォトレジスト膜（厚みは、
２０００オングストロニム程度又はそれ以下）を設けて
成るものであり、これに入射したレーザ光は、ピットが
形成されていないときは原盤２を透過してその下方に設
けられた例えばフォトダイオード若しくは光電子増倍管
等からなる第１の光電変換器１０に入射する。
ある０この装置は処理槽１を有し、露光処理された原盤
２はこの槽内のターンテーブル３に載置される。この実
施例ではターンテーブル３は重力方向に対して所定角度
０だけ傾斜しておシ、電動モータ（図示せず）により駆
動されて原盤２とともに一定速度で回転する。適当な現
像液供給手段りから供給される現像液は、加圧ガス源Ｇ
から供給される例えば窒素等の加圧ガスと加圧タンク４
で混合され、あるいは加圧ガスの有する所定加圧力によ
シ加圧液体となり、パルプ５及びノズル６を介して原盤
２のフォトレジスト膜上に噴霧されてその上を流下し、
槽底の排出ロアから槽外へ排出される。現像液とともに
ノズル６から処理 ゛槽内に噴出した加圧された現像液
又は加圧ガスと現像液との混合流体の１部はパルプ８を
介して処理槽外に排出される。例えばヘリウム−ネオン
レーザチューブ等から方るレーザ光源９が処理槽外に設
けられており、この光源から発生されたレーザ光は、こ
の実施例では処理槽内の原盤に対して所定角度だけ傾斜
した方向から、原盤２に入射する。原盤２はガラス等か
らなる透明な基盤の表面にフォトレジスト膜（厚みは、
２０００オングストロニム程度又はそれ以下）を設けて
成るものであり、これに入射したレーザ光は、ピットが
形成されていないときは原盤２を透過してその下方に設
けられた例えばフォトダイオード若しくは光電子増倍管
等からなる第１の光電変換器１０に入射する。
原盤２が回転せられるとともにその表面のフォトレジス
ト膜上に現像液が散布されて現像処理が進行するとき、
フォトレジスト膜の感光した部分は現像液によって溶解
除去されてゆき、その部分に凹部すなわち上記のピット
が形成されてゆく。
ト膜上に現像液が散布されて現像処理が進行するとき、
フォトレジスト膜の感光した部分は現像液によって溶解
除去されてゆき、その部分に凹部すなわち上記のピット
が形成されてゆく。
原盤２に入射したレーザ光の一部はこのピットによって
回折される。このピットによって回折されたレーザ光の
うちの、好ましくは１次回折光の強度を検出するため、
透過レーザ光の進路外の所定位置に、例えばフォトダイ
オード若しくは光電子増倍管等からなる第２の光電変換
器１１が設けられている□ 光電変換器１０及び１１の出力電圧若しくは電流は各々
適宜の増幅器（図示せず）により増幅されて演算器球に
入力される０光電変換器の入射光量−出力特性のばらつ
きやその経時変化を考慮して、上記増幅器は利得が調節
可能であるように設計されている。光電変換器１０及び
１１の受光量の比を表わす演算器１２の出力信号は、比
較器１３に入力されて基準信号Ｖｒと比較される。比較
器１３は、光電変換器１０及び１１の受信光強度の比が
所定値に達して演算器１２の出力が所定の基準信号Ｖｒ
のレベル四速したとき、現像処理を停止すべきことを表
わす現像処理停止信号を発生する□ 比較器１３に接続された制御回路１４は、この現像処理
停止信号を受信すると、パルプ駆動モータ１５を励磁し
てパルプ５を閉鎖させてフォトレジスト膜上への現像液
の供給を停止させ、同時に、もう１つのパルプ駆動モー
タ１６を励磁して給水管のパルプ１７を開いて純水をフ
ォトレジスト膜上に散布し、現像処理を終了させるよう
に構成されている。
回折される。このピットによって回折されたレーザ光の
うちの、好ましくは１次回折光の強度を検出するため、
透過レーザ光の進路外の所定位置に、例えばフォトダイ
オード若しくは光電子増倍管等からなる第２の光電変換
器１１が設けられている□ 光電変換器１０及び１１の出力電圧若しくは電流は各々
適宜の増幅器（図示せず）により増幅されて演算器球に
入力される０光電変換器の入射光量−出力特性のばらつ
きやその経時変化を考慮して、上記増幅器は利得が調節
可能であるように設計されている。光電変換器１０及び
１１の受光量の比を表わす演算器１２の出力信号は、比
較器１３に入力されて基準信号Ｖｒと比較される。比較
器１３は、光電変換器１０及び１１の受信光強度の比が
所定値に達して演算器１２の出力が所定の基準信号Ｖｒ
のレベル四速したとき、現像処理を停止すべきことを表
わす現像処理停止信号を発生する□ 比較器１３に接続された制御回路１４は、この現像処理
停止信号を受信すると、パルプ駆動モータ１５を励磁し
てパルプ５を閉鎖させてフォトレジスト膜上への現像液
の供給を停止させ、同時に、もう１つのパルプ駆動モー
タ１６を励磁して給水管のパルプ１７を開いて純水をフ
ォトレジスト膜上に散布し、現像処理を終了させるよう
に構成されている。
２つの光電変換器１０ 、１１に入射するレーザ光の強
度は、レーザ光源９の出力の変化又はレーザ光の進路中
の塵埃や霧状現像液等浮遊粒子によるレーザ光の吸収、
散乱若しくは回折現象による影響を受けてゆらぐｏしか
し、かかるゆらぎが存在するときにも、光電変換器１０
及び１１の受信強度は同一の割合で変化するから、ピッ
トの断面寸法とは無関係のこのゆらぎは演算器１２によ
って打消される。すなわち、演算器１２の出力は、現像
中に形成されつつあるピットの断面寸法のみに依存して
変化する。よって、本発明のこの現像装置を用いれば、
ピットの寸法を精密にモニターすることが出来、原盤毎
のピットの寸法にばらつきが生じることは無く、良質の
原盤を得ることが出来る。
度は、レーザ光源９の出力の変化又はレーザ光の進路中
の塵埃や霧状現像液等浮遊粒子によるレーザ光の吸収、
散乱若しくは回折現象による影響を受けてゆらぐｏしか
し、かかるゆらぎが存在するときにも、光電変換器１０
及び１１の受信強度は同一の割合で変化するから、ピッ
トの断面寸法とは無関係のこのゆらぎは演算器１２によ
って打消される。すなわち、演算器１２の出力は、現像
中に形成されつつあるピットの断面寸法のみに依存して
変化する。よって、本発明のこの現像装置を用いれば、
ピットの寸法を精密にモニターすることが出来、原盤毎
のピットの寸法にばらつきが生じることは無く、良質の
原盤を得ることが出来る。
第２図に本発明の現像装置のもう１つの実施例を示す。
第１図の実施例入同様に構成した部分には同一の参照符
を付しである。第１図の一実施例においては、レーザ光
源の出力をモニターするための第１の光電変換器１０は
原盤２を透過した光を検出するように配置されているが
、第２図の実施例では第１の光電変換器ｉｏはレーザ光
源９により発生されたレーザ光の伝播径路中のフォトレ
ジスト膜に至らない位置で該レーザ光の強度をモニター
するように配置されている。すなわち、第２図の実施例
では、光源９から発生されたレーザ光はハーフミラ−１
８によって分割され、これを透過したレーザ光は第１の
光電変換器１０に入射し、ハーフミラ−１８によって反
射されたレーザ光は処理槽内の原盤２に入射する。原盤
２に入射したレーザ光は、ピットが形成されていないと
きは原盤２を透過してその下方に設けられたビームスト
ッパ１９によって吸収される。ビームストッパ１９はピ
ットが形成されはじめてから原盤を透過若しくは回折す
る光のうち最も強い光である０次回折光をもストップす
る機能を有し、光電変換器１１の受光面に外乱を与えな
いように配慮しである。
を付しである。第１図の一実施例においては、レーザ光
源の出力をモニターするための第１の光電変換器１０は
原盤２を透過した光を検出するように配置されているが
、第２図の実施例では第１の光電変換器ｉｏはレーザ光
源９により発生されたレーザ光の伝播径路中のフォトレ
ジスト膜に至らない位置で該レーザ光の強度をモニター
するように配置されている。すなわち、第２図の実施例
では、光源９から発生されたレーザ光はハーフミラ−１
８によって分割され、これを透過したレーザ光は第１の
光電変換器１０に入射し、ハーフミラ−１８によって反
射されたレーザ光は処理槽内の原盤２に入射する。原盤
２に入射したレーザ光は、ピットが形成されていないと
きは原盤２を透過してその下方に設けられたビームスト
ッパ１９によって吸収される。ビームストッパ１９はピ
ットが形成されはじめてから原盤を透過若しくは回折す
る光のうち最も強い光である０次回折光をもストップす
る機能を有し、光電変換器１１の受光面に外乱を与えな
いように配慮しである。
第２図の実施例においても、第、１及び第２の光電変換
器１０ 、１１の出力はそれぞれ適宜の増幅器（図示せ
ず）により増幅されて演算器１２に入力される。この実
施例に・おいても、レーザ光源９の出力の変化等による
両光電変換器１０ 、１１の出力のゆらぎは両変換器１
Ｇ 、 ｔｉに共通の割合で出現するから、演算器１２
の出力は光源の出力変化等の影響を全７受けずにピット
の断面寸法にのみ依存して変化するＯ よって、本発明によれば、レーザ光源の出力の変化や塵
埃等浮遊粒子によって光電変換器の出力がゆらぐときに
もピットの寸法の変化を精密にモニターすることが出来
、現像工程を精密に制御することが可能となる。
器１０ 、１１の出力はそれぞれ適宜の増幅器（図示せ
ず）により増幅されて演算器１２に入力される。この実
施例に・おいても、レーザ光源９の出力の変化等による
両光電変換器１０ 、１１の出力のゆらぎは両変換器１
Ｇ 、 ｔｉに共通の割合で出現するから、演算器１２
の出力は光源の出力変化等の影響を全７受けずにピット
の断面寸法にのみ依存して変化するＯ よって、本発明によれば、レーザ光源の出力の変化や塵
埃等浮遊粒子によって光電変換器の出力がゆらぐときに
もピットの寸法の変化を精密にモニターすることが出来
、現像工程を精密に制御することが可能となる。
第１図及び第２図はそれぞれ本発明の現像装置の第１及
び第２の実施例を示すブロック図であるＯ１要部分の符
号の説明 ２・・・・・・原盤 ３・・・・・・ターンテ
ーブル９・・・・・・レーザ光源 １０ 、１１・・
・・・・光電変換器１２・・・・・・演算器 １
３・・・・・・比較器１４・・・・・・制御回路
１８・・・・・・ハーフミラ−出願人 パイオニア株式
会社 代理人 弁理士 藤 村 元 彦
び第２の実施例を示すブロック図であるＯ１要部分の符
号の説明 ２・・・・・・原盤 ３・・・・・・ターンテ
ーブル９・・・・・・レーザ光源 １０ 、１１・・
・・・・光電変換器１２・・・・・・演算器 １
３・・・・・・比較器１４・・・・・・制御回路
１８・・・・・・ハーフミラ−出願人 パイオニア株式
会社 代理人 弁理士 藤 村 元 彦
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１） 光学式記録ディスクの記録原盤を製作する過
程において、透明な基盤の平坦な側面上の７オトレジス
ト膜に現像液を接触させてフォトレジスト膜の渦巻状径
路をなして不連続的に感光した部分を溶解除去すること
Ｋｊリフォトレジスト膜に不連続的なピットの列を形成
する現像方法であって、前記基盤を回転させつつ、前記
フォトレジスト膜に沿って前記現像液を接触させ且つレ
ーザ光源から所定波長のレーザ光を前記フォトレジスト
膜に入射させ且つ前記レーザ光源に工す発生式れ−た前
記レーザ光の強度に応じた第１！気信号全発生し、前記
レーザ光のうちの前記フォトレジスト膜で所定方向に回
折して前記原盤を透過したレーザ光の強度に応じた第２
電気信号全発生する工程を含んでおり、前記第１及び第
２電気信号の比が所定値に達したとき前記フォトレジス
ト膜と前記現像液との接触を停止することを特徴とする
方法。 （２）前記レーザ光の伝播径路中の前記フォトレジスト
膜に至らない位置における前記レーザ光の強度に応じて
前記第１電気信号が発生されることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の方法０（３）前記フォトレジスト
膜で回折せずに前記原盤を透過した前記レーザ光の強度
に応じて前記第１電気信号が発生されることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の方法。 （４）透明な基盤の平坦な側面上のフォトレジスト膜に
現像液を接触させて前記フォトレジスト膜の渦巻状径路
をなして不連続的に感光した部分を溶解除去することに
より前記フォトレジスト膜に不連続的なピットの列を形
成する現像装置であって、前記基盤を回転させるための
回転駆動手段と、前記フォトレジスト膜上に前記現像液
を供給して前記フォトレジスト膜に沿って前４起現像液
を接触させるための現像液供給手段と、所定波長のレー
ザ光を前記フォトレジスト膜に照射するレーザ光源と、
前記レーザ光源により発生されたレーザ光の伝播径路中
に設けられて受光量に応じた電気的出力を発生する第１
の光電変換手段と、前記レーザ光源によ多発生されて前
記フォトレジスト膜で所定方向に回折して前記基盤を透
過した光の伝播径路中に設けられて受光量に応じた電気
的出力を発生する第２の光電変換手段とを含み、前記第
１及び第２の光電変換手段の出力の比が所定値に達しだ
とき前記フォトレジスト膜と前記現像液との接触を停止
させるように構成されたことを特徴とする装置。 （５） 前記第１の光電変換手段は、前記レーザ光の
伝播径路中の前記フォトレジスト膜に至らない位置に設
けられていることを特徴とする特許請求の範囲第４項記
載の装置〇 （６）前記第１の光電変換手段は、前記レーザ光源によ
多発生されて前記フォトレジスト膜で回折せずに前記原
盤を透過したレーザ光の伝播径路中に設けられているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56112556A JPS5814343A (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | フオトレジスト湿式現像方法及び装置 |
| FR8211935A FR2509484B1 (fr) | 1981-07-08 | 1982-07-07 | Procede et dispositif pour developper un materiau photo-sensible utilise comme milieu d'enregistrement |
| US06/396,073 US4469424A (en) | 1981-07-08 | 1982-07-07 | Method and system for developing a photo-resist material used as a recording medium |
| GB08219667A GB2108707B (en) | 1981-07-08 | 1982-07-07 | Method and system for developing a photo-resist material used as a recording medium |
| DE3225575A DE3225575C2 (de) | 1981-07-08 | 1982-07-08 | Verfahren und Vorrichtung zum Steuern der Entwicklerflüssigkeitszufuhr in einer Fotoresistplattenentwicklungseinrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56112556A JPS5814343A (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | フオトレジスト湿式現像方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5814343A true JPS5814343A (ja) | 1983-01-27 |
| JPH0243259B2 JPH0243259B2 (ja) | 1990-09-27 |
Family
ID=14589613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56112556A Granted JPS5814343A (ja) | 1981-07-08 | 1981-07-17 | フオトレジスト湿式現像方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5814343A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003081292A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-19 | Kyouei Kk | 商品包装袋 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3026633U (ja) * | 1995-12-19 | 1996-07-16 | 芳男 森山 | 紙パック容器漏れ止め器具 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5276901A (en) * | 1975-12-23 | 1977-06-28 | Sony Corp | Production of master disc for rotary recording media |
| JPS5410677A (en) * | 1977-06-23 | 1979-01-26 | Ibm | Method of controlling development or etching process |
-
1981
- 1981-07-17 JP JP56112556A patent/JPS5814343A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5276901A (en) * | 1975-12-23 | 1977-06-28 | Sony Corp | Production of master disc for rotary recording media |
| JPS5410677A (en) * | 1977-06-23 | 1979-01-26 | Ibm | Method of controlling development or etching process |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003081292A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-19 | Kyouei Kk | 商品包装袋 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0243259B2 (ja) | 1990-09-27 |
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