JPS589242A - フオトレジスト湿式現像方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、不連続的凹所基１〈は突起部からなる光学的
・リーンを表面に有する光学式記録ディスクの原盤の製
作に用いられるフォトレジスト湿式現像方法及び現像装
置に関する。

かかる光学式記録ディスクは、例えば、光学式ビデオ若
しくけオーディオディスクシステムの記録媒体として用
いられている。光学式ビデオ若しくはオーディオディス
クシステムは、記録媒体であるディスクを回転させなが
らその表面の凹所若しくは突起部からなる光学的・す―
ンにレーザ光を照射し、その光学的／母ターンによって
変調されたレーデ光を電気信号に変換してその光学的ノ
ｅターンに対応する情報を再生するものである。当該シ
ステムに用いられる記録ディスクの原盤は、研摩したガ
ラス基盤の表面にフれトレジスト膜を設けて成るもので
あって、当該フォトレジスト膜は、原盤に記録さるべき
情報に応じて断続的に照射されるレーザ光によって、渦
巻状径路に沿って不連続的に露光処理され、フォトレジ
スト膜の感光した部分は現像液によって溶解除去され、
その跡にピットと称される凹所の列が渦巻状に形成され
る。

記録ディスクは、かかるピットを有する原盤から、連続
的な音溝を有する従来のオーディオディスクと同様に複
製生産される。

現像処理によって形成される上記のピットの深さ及び幅
すなわちトラック方向に垂直な断面形状は、レーザ光に
よる情報検出の精度に密接に関連する寸法である。従っ
て、現像工程は、このピットの断面形状が所定範囲内の
寸法となるように管理されねばならない。そのため、従
来は、フォトレジス。トの感光した部分が現像液に溶解
する化学反応の継続ｉ間すなわち現像時−を、経験から
得られる勘によ）調節することによって当該ぎットの深
さあるいは大きさを調節する方法が採られていた。しか
し、かかる化学反応の進行速度は露光の度合、現像液の
濃度及び温度等の条件に応じて変るから、現像中に形成
されつつあるピットの深さあるいは大きさをモニターす
ることなく勘にょって現像時間を調節する従来の方法に
よっては、現像処理が終るまではピットの深さあるいは
大きさを知ることが出来ず、従って、現像処理された原
盤のピットの深さあるいは大きさにばらつきが生じるこ
とは避は得ない。

よって、本発明の目的は、現像処理中にピットの深さあ
るいは大きさをモニターし、その深さあるいは大きさが
所定範囲に達したとき現像処理を停止するよう構成され
たフォトレジスト湿式現像方法及び装置を提供すること
である。

この目的のため、本発明の現像方法は、露光処理された
原盤の回転中心軸を重力方向に対して所定角度傾斜させ
てこれを回転させつつ、フォトレジスト膜に沿って現像
液を接触させ且つフォトレジスト膜の面に対して所定角
度傾斜した方向から所定波長のレーデ光を７オトレジス
ト膜に照射し且つフォトレジスト膜のピットの位置で所
定方向に回折して原盤を透過したレーデ光成分、を検出
し、この回折光の強度が所定値に達したときフォトレジ
スト膜への現像液の供給を停止するなどして７オトレジ
スト膜と現像液との接触を中止して現像処理を停止する
構成である。この方法を実施するための本発明装置は、
露光処理された原盤の回転中心軸を重力方向に対して所
定角度傾斜させてこれを回転させるための回転駆動手段
と、現像液をフォトレジスト膜上に供給し−てこれに沿
って接触させるための現像液供給手段と、フォトレジス
ト膜に対して所定角度傾斜した方向から所定波長のレー
デ光を７オトレジスト膜に照射するレーデ光源と、フォ
トレジスト膜のピットの位置で所定方向に回折して原盤
を透過したレーザ光成分を検出してこれを電気信号に変
換する光電変換器とを含んでおシ、この電気信号を検出
してそのレベルが所定値に達したときフォトレジスト膜
と現像液との接触を停止させるようになされている。

次に、図面を参照して本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明の現像装置を示すブロック図である。こ
の装置は処理槽ｌを有し、露光処理された原盤２はこの
槽内のターンテーブル３に載置される。ターンテーブル
３は重力方向に対して所定角度θだけ傾斜しており、電
動モータ（図示せず）によシ駆動されて原盤２とともに
一定速度で回転する。適当な現像液供給手助から供給さ
れる現像液は、加圧ガス源Ｇから供給される例えば窒素
等の加圧ガスと加圧タンク４で混合され、あるいは加圧
ガスの有する所定加圧力によシ加圧液体となシ、バルブ
５及びノズル６を介して原盤２の７オトレジスト膜上に
噴霧されてその上を流下し、槽底の排出ロア蜘ら槽外へ
排出される。現像液とともにノズル６から処理槽内に噴
出した加圧された現像液又は加圧ガスと現像液との混合
流体の１部はパルプ１７を介して処理槽外に排出される
。例えばヘリウム−ネオンレーザチューブ等からなるレ
ーザ光源８が処理槽外に設けられており、この光源から
発生されたレーデ光はノ・−７ミラー９によって分割さ
れ、これを透過したレーザ光はモニター用光電変換器１
０に入射し、ノ・−フミラー９によって反射されたレー
ザ光は、処理槽内の原盤に対して所定角度だけ傾斜した
方向から原盤２に入射する。原盤２はガラス等からなる
透明な基盤の表面に７オトレジスト膜（厚みは、２００
０オングストロ一ム程度又はそれ以下）を設けて成るも
のであり、これに入射したレーザ光は、ピットが形成さ
れていないときは原盤２を透過してその下方に設けられ
たビームストツノ母１１によって吸収される。

原盤２が回転せられるとともにその表面の７オトレジス
ト膜上に現像液が散布されて現像処理が進行するとき、
フォトレジスト膜の感光した部分は現像液によって溶解
除去されてゆき、その部分に凹部すなわち上記のピット
カ形成されてゆく。

原盤２に入射したレーザ光の一部はこのピットによって
回折される。このピットによって回折されたレーデ光の
強度を検出するため、透過レーデ光の径路外の所定位置
に、例えばフォトダイオード等からなる享電変換器１２
が設けられている。制御回路１３は光電変換器１２の出
力電圧若しくは電流を検出し、この回折光の強度が所定
値に達して光電変換器１２の出力電圧若しくは電流が所
定値に達する・と、バルブ駆動モータ１４を励磁してバ
ルブ５を閉鎖させてフォトレジスト膜上への現像液の供
給を停止させ、同時に、もう１つのパルプ駆動モータ１
５を励磁して給水管のパルプ１６を開いて純水をフォト
レジスト膜上に散布し、現像処理を終了させる。

第２図は、露光強度を一定値として露光処理した後従来
の方法によって現像処理した１１枚の原盤の現像時間（
単位、秒）と、第１図に示した本発明装置のレーデ光源
８及び光電変換器１２を含む光学−電気系を用いて測定
したピットによる一次回折光の強度（単位、μＷ）との
対応関係を示すグラフである。このデータから判るよう
に、現像時間と、現像によって形成されたピットによる
一次回折光の強度との関係はほぼ一次関数的ではあるが
、ばらつきが大である。この−次回折光の強度はピット
の深さ、あるいは大きさを直接反映するから、勘によっ
て現像時間を加減する従来方表によって得られる原盤は
原盤毎のピットの形状のばらつきが大きくて品質が一定
でないことが判る。

第３図は、本発明装置によって現像処理された原盤の現
像終了後における一次回折光の強度（単位μＷ）と、該
原盤から製作された光学式ビデオディスクに記録された
信号を光学式ビデオディスク再生装置を用いて再生した
とき再生装置のフォトセンサから得られた電気信号のレ
ベル（単位ｍＶ　）との関係を示す。このデータは露光
強度及び現像時間などのノクラメータをランダムに設定
して行なった実験から得られたも′のであって、現像処
理した原盤における一次回折光の強度と再生信号レベル
との間には、露光強度すなわちフォトレジ冬トの感光の
程度や現像時間等のｉ４ラメータに依存しない指数関数
的対応関係が存在することが判る。

よって、本発明によれば、・ピットの深さあるいは大き
さのみに依存して変化する回折光強度に基づいて現像の
度合を調節することが出来るから、所望の寸法のピット
を有する良質の原盤を得ることが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の現像装置の一実施例を示すプロック図
、第２図は従来の現像方法によって処理した原盤の現像
時間とピットによる一次回折光の強度との関係を示すグ
ラフ、第３図は種々の現像条件で現像処理した原盤のピ
ットによる一次回折光の強度と再生信号レベルとの対応
関係を示すグラフである。 主要部分の符号の説明 ３・・・ターンテーブル　　　８・・・レーｆ光源９・
・・ハーフミラ−１０、１２・・・光電変換器１３・・
・制御回路 出願人　ノＪ？イオニア株式会社 代理人　弁理士藤村元彦 承２図 １家吟ＩＪｔ竹） 纂３図 在鴎号バｐシ備Ｖノ １、事件の表示 昭和５６年特許願第１０７４３１＠ ２、発明の名称 フォトレジスト湿式現像方法及び装胃 ３、補正をする者 事件との関係　　　特許出願人 住　所　　　東京都目黒区目黒１丁目４１１号名　称　
　　（５０１）パイオニア株式会社４、代理人　〒１０
４ 住　所　　　東京都中央区築地４丁目１１１１７号銀座
大野ビル　電話（５４３）７３６９氏名　（７９１１）
弁唾士藤村元彦 ５、補正命令の日付　　自発 ６、補正により増加する発明の数　　　なし〔別　紙〕 「２、特許請求の範囲 （１１光学式記録ディスクの記録原盤を製作する過程に
おいて、透明な基盤の平坦な側面上の７オトレジスト膜
に現像液を接触させてフォトレジスト膜の渦巻状径路を
なして不連続的に感光した部分を溶解除去することによ
シフオドレジスト膜に不連続的なピットの列を形成する
現像方法であって、前記基盤を回転させつつ、前記フォ
トレジスト膜に沿って前記現像液を接触させ且つ前記フ
ォトレジスト膜の面に対して所定角度傾斜した方向から
所定の波長のレーザ光を前記フォトレジスト膜に照射し
且つ前記レーザ光のうちの前記フォトレジスト膜で所定
方向に回折して前記基盤を透過した光を検出する工程を
含んでおシ、前記検出された回折光の強度が所定値に達
したとき前記フォトレジスト膜と前記現像液との接触を
停止することを特徴とする特許 ま！辷ぢ±Ｌ」む」貝１す駐（２江り 凪　透明な基盤の平坦な側面上の７オトレジント膜に現
像液を接触させて前記フォトレジスト１の渦巻状径路を
なして不連続的に感光した部分ン溶解除去することにょ
シ前記フォトレジスト膜Ｖ不連続的なビットの列を形成
する現像装置であ≦て、前記基盤を回転させるための回
転駆動手段２前記フオトレジスト膜上に前記現像液を供
給し１前記フオトレジスト膜に沿って前記現像液を接剤
させるための現像液供給手段と、前記フォトレジスト膜
に対して所定角度傾斜した方向から所定波長のレーザ光
を前記フォトレジスト膜に照射するレーザ光源と、前記
レーザ光源にょ〕発生されて前記フォトレジスト膜で所
定方向に回折して１ＩＪｔ基盤を透過した光を検出して
受光量に応じた電気的出力を発生する光電変換器とを含
み、前記電気的出力を検出して当該電気的出力が所定値
に達したとき前記７＃トレジスト膜と前記現像液との接
触を停止させるようになされ大ことを特徴とする゛　装
置。 （５）　　前記基盤はその回転中心軸が重力方向に対（
して所定角度傾斜した状態に保たれて回転せしめ１　　
　られることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の
装置。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）光学式記録ディスクの記録原盤を製作する過程に
   おいて、透明な基盤の平坦な側面上のフォトレジスト膜
   に現像液を接触させてフォトレジスト膜の渦巻状径路を
   なして不連続的に感光した部分を溶解除去するととによ
   シフオドレジスト膜に不連続的なピ′ットの列を形成す
   る現像方法であって、前記基盤の回転中心軸を重力方向
   に対して所定角度傾斜させて前記基盤を回転させつつ、
   前記フォトレノスト膜に沿って前記現像液を接触させ且
   つ前記フォトレジスト膜の面に対して所定角度傾斜した
   方向から所定の波長のレーザ光を前記フォトレジスト膜
   に照射し且つ前記レーザ光のうちの前記フォトレジスト
   膜で所定方向に回折して前記基盤を透過した光を検出す
   る工程を含んでおり、前記検出され九回折光の強度が所
   定値に達したとき前記フォトレジスト膜と前記現像液と
   の接触を停止することを特徴とする方法。
2. （２）透明な基盤の平坦な側面上のフォトレジスト膜に
   現像液を接触させて前記フォトレジスト膜の渦巻状径路
   をなして不連続的に感光した部分を溶解除去することに
   より前記フォトレジスト膜に不連続的なピットの列を形
   成する現像装置であって、前記基盤の回転中心軸を重力
   方向に対して所定角度傾斜させて前記基盤を回転させる
   ための回転駆動手段と、前記フォトレジスト膜上に前記
   現像液を供給して前記フォトレジストｙに沿って前記現
   像液を接触させるための現像液供給手段と、前記フォト
   レジスト膜に対して所定角度傾斜した方向から所定波長
   のレーザ光を前記フォトレジスト膜に照射するレーザ光
   源と、前記レーデ光源によシ発生されて前記フォトレジ
   スト膜で所定方向に回折して前記基盤を透過した光を検
   出して受光量に応じた電気的出力を発生する光電変換器
   とを含み、前記電気的出力を検出して当該電気的出力が
   所定値に達し、たとき前記フォトレジス）ＩＩＩと前記
   現像液との接触を停止させるようになされたことを特徴
   とする装置。