JPH02270147A - フォトレジスト現像方法及び装置 - Google Patents
フォトレジスト現像方法及び装置Info
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- JPH02270147A JPH02270147A JP9105089A JP9105089A JPH02270147A JP H02270147 A JPH02270147 A JP H02270147A JP 9105089 A JP9105089 A JP 9105089A JP 9105089 A JP9105089 A JP 9105089A JP H02270147 A JPH02270147 A JP H02270147A
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- photoresist film
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- hydrophilic liquid
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 21
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
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- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、微小孔又は凹凸（以下ピットという）からな
る光学的パターンを表面に有する光学式記録ディスクの
原盤の製作に用いられるフォトレジスト湿式現像方法及
び装置に関する。
る光学的パターンを表面に有する光学式記録ディスクの
原盤の製作に用いられるフォトレジスト湿式現像方法及
び装置に関する。
背景技術
かかる光学式記録ディスクは、例えば、光学式ビデオ若
しくはオーディオディスクシステムの記録媒体として用
いられている。光学式ビデオ若しくはオーディオデイス
スクシステムは、記録媒体であるディスクを回転させな
がらその表面のピットからなる光学的パターンにレーザ
光を照射し、その光学的パターンによって変調されたレ
ーザ光を電気信号に変換してその光学式パターンに対応
する情報を再生するものである。当該システムに用いら
れる記録ディスクの原盤は、研磨したガラス基盤の表面
にフォトレジスト膜を設けて成るものである。当該フォ
トレジスト膜は、原盤に記録さるべき情報に応じて断続
的に照射されるレーザ光によって、渦巻状経路に沿って
不連続的に露光処理され、フォトレジスト膜の感光した
部分は現像液によって溶解除去すなわち食刻され、その
跡にピットの列が同心円状あるいは渦巻状に形成される
。
しくはオーディオディスクシステムの記録媒体として用
いられている。光学式ビデオ若しくはオーディオデイス
スクシステムは、記録媒体であるディスクを回転させな
がらその表面のピットからなる光学的パターンにレーザ
光を照射し、その光学的パターンによって変調されたレ
ーザ光を電気信号に変換してその光学式パターンに対応
する情報を再生するものである。当該システムに用いら
れる記録ディスクの原盤は、研磨したガラス基盤の表面
にフォトレジスト膜を設けて成るものである。当該フォ
トレジスト膜は、原盤に記録さるべき情報に応じて断続
的に照射されるレーザ光によって、渦巻状経路に沿って
不連続的に露光処理され、フォトレジスト膜の感光した
部分は現像液によって溶解除去すなわち食刻され、その
跡にピットの列が同心円状あるいは渦巻状に形成される
。
かかるピットを有する原盤から電鋳により複製用のスタ
ンバを形成し、該スタンバを用いて光学式記録ディスク
が複製、生産される。
ンバを形成し、該スタンバを用いて光学式記録ディスク
が複製、生産される。
原盤の現像処理によって形成される上記のピットの深さ
及び幅すなわちトラック方向に垂直な断面の寸法は、光
学式ビデオ若しくはオーディオディスクシステムにおけ
るレーザ光による情報検出の精度に密接に関連する寸法
である。従って、現像工程は、このピットの断面寸法が
所定範囲内の値となるように管理されねばならない。
及び幅すなわちトラック方向に垂直な断面の寸法は、光
学式ビデオ若しくはオーディオディスクシステムにおけ
るレーザ光による情報検出の精度に密接に関連する寸法
である。従って、現像工程は、このピットの断面寸法が
所定範囲内の値となるように管理されねばならない。
従来のフォトレジスト現像方法においては、第３図に示
す如く、圧力容器１中に配置された現像液２に圧力を加
え、手動操作によってスプレーガン３にて現像液を原盤
４に塗布し、その後フォトレジスト膜の現像を行なって
いる。かかる塗布手段においては、現像液２に圧力を加
えるための圧力容器に連通した窒素ガス源５が含まれ、
現像液中の不純物を濾過するフィルター６が現像液２か
らスプレーガン３に至る輸送管の途中に設けられている
。また、原盤４は、それが回転しながら現像工程が行な
えるように原盤中心について回転させる回転テーブル７
上に載置されている。
す如く、圧力容器１中に配置された現像液２に圧力を加
え、手動操作によってスプレーガン３にて現像液を原盤
４に塗布し、その後フォトレジスト膜の現像を行なって
いる。かかる塗布手段においては、現像液２に圧力を加
えるための圧力容器に連通した窒素ガス源５が含まれ、
現像液中の不純物を濾過するフィルター６が現像液２か
らスプレーガン３に至る輸送管の途中に設けられている
。また、原盤４は、それが回転しながら現像工程が行な
えるように原盤中心について回転させる回転テーブル７
上に載置されている。
しかしながら、かかる現像方法において、フォトレジス
ト膜が疎水面なので、現像開始初期に原盤上にスプレー
された小さな現像液滴によりフォトレジスト膜の部分的
な過現像が発生し、それが斑点状のシミとして残り視覚
上好ましくないという問題があった。
ト膜が疎水面なので、現像開始初期に原盤上にスプレー
された小さな現像液滴によりフォトレジスト膜の部分的
な過現像が発生し、それが斑点状のシミとして残り視覚
上好ましくないという問題があった。
発明の概要
本発明の目的は、上記問題を解消することにあり、フォ
トレジスト膜の均一な現像を行うフォトレジスト現像方
法及び装置を提供することにある。
トレジスト膜の均一な現像を行うフォトレジスト現像方
法及び装置を提供することにある。
本発明の方法は、基盤と該基盤上に形成されかつ感光し
たフォトレジスト膜とからなる原盤を回転させつつ、前
記フォトレジスト膜を現像して凹凸を形成するフォトレ
ジスト現像方法であって、回転する原盤の前記フォトレ
ジスト膜に沿って親水液を接触させ親水液層を形成する
親水性付与工程と、前記親水液層上に水溶性現像液を供
給して前記フォトレジスト膜を現像する現像工程を有す
ることを特徴とする方法である。
たフォトレジスト膜とからなる原盤を回転させつつ、前
記フォトレジスト膜を現像して凹凸を形成するフォトレ
ジスト現像方法であって、回転する原盤の前記フォトレ
ジスト膜に沿って親水液を接触させ親水液層を形成する
親水性付与工程と、前記親水液層上に水溶性現像液を供
給して前記フォトレジスト膜を現像する現像工程を有す
ることを特徴とする方法である。
また、本発明の装置は、基盤と該基盤上に形成されかつ
感光したフォトレジスト膜とからなる原盤を回転させつ
つ前記フォトレジスト膜を現像して凹凸を形成するフォ
トレジスト現像装置であって、前記原盤を回転させる回
転駆動手段と、前記フォトレジスト膜上に親水液を供給
する親水液性溶液供給手段と、前記フォトレジスト膜上
に水溶性の現像液を供給する現像液供給手段とを有する
ことを特徴とする装置である。
感光したフォトレジスト膜とからなる原盤を回転させつ
つ前記フォトレジスト膜を現像して凹凸を形成するフォ
トレジスト現像装置であって、前記原盤を回転させる回
転駆動手段と、前記フォトレジスト膜上に親水液を供給
する親水液性溶液供給手段と、前記フォトレジスト膜上
に水溶性の現像液を供給する現像液供給手段とを有する
ことを特徴とする装置である。
実施例
以下に、本発明の実施例を図面を参照しつつ説明する。
第１図は本実施例のフォトレジスト現像装置のの概略斜
視図を示す。装置の本体９の上面上にシンク１１が設け
られている。シンク１１内の凹所においてはモータ１２
に連結された回転テーブル１０が載置されており、回転
テーブル１ｏの周囲には間隙を置いて、フード１３が設
けられている。
視図を示す。装置の本体９の上面上にシンク１１が設け
られている。シンク１１内の凹所においてはモータ１２
に連結された回転テーブル１０が載置されており、回転
テーブル１ｏの周囲には間隙を置いて、フード１３が設
けられている。
シンク１１の周縁部には、ノズルアーム１４を本体１０
の上面に平行に回動自在に担持したアームベース１５が
載置されている。フード１３は回転テーブル１０上に配
置された原盤が回転し、現像液等の液体がその上に供給
された際に原盤周縁から飛び散る該液体を受は止める働
きをなす。フード１３の内側はシンク１１の凹所に連通
しており、受は止められた液体が該凹部に流し出るよう
になっている。さらにシンク１１の外側には、排出口１
６が設けられ、シンク１１の凹部に溜った液体を外部に
排出できるようになっている。
の上面に平行に回動自在に担持したアームベース１５が
載置されている。フード１３は回転テーブル１０上に配
置された原盤が回転し、現像液等の液体がその上に供給
された際に原盤周縁から飛び散る該液体を受は止める働
きをなす。フード１３の内側はシンク１１の凹所に連通
しており、受は止められた液体が該凹部に流し出るよう
になっている。さらにシンク１１の外側には、排出口１
６が設けられ、シンク１１の凹部に溜った液体を外部に
排出できるようになっている。
第２図はかかる装置の構成を示す概略図である。
第１図のノズルアーム１４は現像液用ノズル１４ ａ
ｓ純水用ノズル１４ｂ及び界面活性剤用ノズル１４ｃの
３つのノズルを有している。これらノズル先端は、ノズ
ルアーム１４の回動により回転テーブル１０上にてこれ
と平行に移動し、回転テーブル１０の中心からその略半
径方向にて往復動自在となっている。現像液用ノズル１
４ａは輸送管によりフィルタＦａを介して現像液タンク
Ｔａに連通している。現像液タンクＴａは窒素ガス源Ｎ
Ｇに連通し、その内部の現像液は窒素ガスによって押圧
されている。ノズル１４ａからの現像液の噴出は電磁弁
ＭＶによって制御される。純水用ノズル１４ｂは輸送管
により純水源Ｔｂに連通している。純水は電磁弁ＭＶに
よって制御されノズル１４ｂから吐出するようになされ
ている。界面活性剤用ノズル１４ｃは輸送管によりフィ
ルタＦＣを介して界面活性剤タンクＴｃに連通している
。
ｓ純水用ノズル１４ｂ及び界面活性剤用ノズル１４ｃの
３つのノズルを有している。これらノズル先端は、ノズ
ルアーム１４の回動により回転テーブル１０上にてこれ
と平行に移動し、回転テーブル１０の中心からその略半
径方向にて往復動自在となっている。現像液用ノズル１
４ａは輸送管によりフィルタＦａを介して現像液タンク
Ｔａに連通している。現像液タンクＴａは窒素ガス源Ｎ
Ｇに連通し、その内部の現像液は窒素ガスによって押圧
されている。ノズル１４ａからの現像液の噴出は電磁弁
ＭＶによって制御される。純水用ノズル１４ｂは輸送管
により純水源Ｔｂに連通している。純水は電磁弁ＭＶに
よって制御されノズル１４ｂから吐出するようになされ
ている。界面活性剤用ノズル１４ｃは輸送管によりフィ
ルタＦＣを介して界面活性剤タンクＴｃに連通している
。
界面活性剤タンクＴｃは窒素ガス源ＮＧに連通し、その
内部の溶液形態の界面活性剤は窒素ガスによって押圧さ
れている。界面活性剤溶液はフォトレジスト膜の疎水面
を親水性とする働きをなす。ノズル１４ｃからの界面活
性剤の噴出は電磁弁ＭＶによって制御される。各電磁弁
ＭＶは所定タイミングで開閉するように電気回路で制御
される。
内部の溶液形態の界面活性剤は窒素ガスによって押圧さ
れている。界面活性剤溶液はフォトレジスト膜の疎水面
を親水性とする働きをなす。ノズル１４ｃからの界面活
性剤の噴出は電磁弁ＭＶによって制御される。各電磁弁
ＭＶは所定タイミングで開閉するように電気回路で制御
される。
原盤の現像は以下の如く行なわれる。
１） まず、原盤４を回転テーブル１０上に載置して原
盤４を回転させ且つ界面活性剤ノズル１４Ｃから一定流
量の界面活性剤を吐出しつつ、ノズル１４ｃを原盤４の
半径方向に数秒間にて１回往復させ、親水液層である界
面活性剤層を原盤４のフォトレジスト膜上に形成する。
盤４を回転させ且つ界面活性剤ノズル１４Ｃから一定流
量の界面活性剤を吐出しつつ、ノズル１４ｃを原盤４の
半径方向に数秒間にて１回往復させ、親水液層である界
面活性剤層を原盤４のフォトレジスト膜上に形成する。
２） 次に、現像液ノズル１４ａから一定流量の現像液
を吐出しつつ、ノズル１４ａを現像時間内において原盤
４の半径方向において往復動させる。
を吐出しつつ、ノズル１４ａを現像時間内において原盤
４の半径方向において往復動させる。
３） 現像時間終了後、純水ノズルｉ４ｂから一定流量
の純水を滴下しつつノズル１４ｂを原盤４の中央付近に
て停止させて原盤４を洗浄する。
の純水を滴下しつつノズル１４ｂを原盤４の中央付近に
て停止させて原盤４を洗浄する。
以上の工程でフォトレジスト膜を現像する。
更に、界面活性剤を用いない場合には、原盤の現像は以
下の如く行なわれる。
下の如く行なわれる。
１） まず、原盤４を回転テーブル１０上に載置して原
盤４を回転させ且つ純水ノズル１４ｂから一定流量の純
水を滴下しつつ、ノズル１４ｂを原盤４の中央部に停止
させ数分間にて、純水層を原盤４のフォトレジスト膜上
に形成する。
盤４を回転させ且つ純水ノズル１４ｂから一定流量の純
水を滴下しつつ、ノズル１４ｂを原盤４の中央部に停止
させ数分間にて、純水層を原盤４のフォトレジスト膜上
に形成する。
２） 次に、現像液ノズル１４ａから一定流量の現像液
を吐出しつつ、ノズル１４ａを現像時間内において原盤
４の半径方向において往復動させる。
を吐出しつつ、ノズル１４ａを現像時間内において原盤
４の半径方向において往復動させる。
３） 現像時間終了後、再び純水ノズル１４ｂから一定
流量の純水を滴下しつつノズル１４ｂを原盤４の中央付
近にて停止させて原盤４を洗浄する。
流量の純水を滴下しつつノズル１４ｂを原盤４の中央付
近にて停止させて原盤４を洗浄する。
以上の工程でフォトレジスト膜を現像する。
発明の効果
本発明によれば、フォトレジスト膜上に予め界面活性剤
溶液又は純水を供給することにより、フォトレジスト膜
に親水液層を形成させた後に現像液を供給するので、部
分的に現像液がフォトレジスト膜表面に供給されること
なく徐々に広い範囲に亘って現像液濃度が上って部分的
な現像が生じない。従って、視覚上好ましくない斑点状
のシミ等の現像ムラが生じない。
溶液又は純水を供給することにより、フォトレジスト膜
に親水液層を形成させた後に現像液を供給するので、部
分的に現像液がフォトレジスト膜表面に供給されること
なく徐々に広い範囲に亘って現像液濃度が上って部分的
な現像が生じない。従って、視覚上好ましくない斑点状
のシミ等の現像ムラが生じない。
第１図は本発明によるフォトレジスト現像装置の概略断
面図、第２図は本発明による装置の概略説明図、第３図
は従来のフォトレジスト現像方法の概略説明図である。 主要部分の符号の説明 ９・・・・・・本体 １０・・・・・・回転テ
ーブル１１・・・・・・シンク １３・・・・・
・フード１４・・・・・・ノズルアーム １５・・・・・・アームベース １５ａ・・・・・・現像液用ノズル １５ｂ・・・・・・純水用ノズル
面図、第２図は本発明による装置の概略説明図、第３図
は従来のフォトレジスト現像方法の概略説明図である。 主要部分の符号の説明 ９・・・・・・本体 １０・・・・・・回転テ
ーブル１１・・・・・・シンク １３・・・・・
・フード１４・・・・・・ノズルアーム １５・・・・・・アームベース １５ａ・・・・・・現像液用ノズル １５ｂ・・・・・・純水用ノズル
Claims (6)
- （１）基盤と該基盤上に形成されかつ感光したフォトレ
ジスト膜とからなる原盤を回転させつつ、前記フォトレ
ジスト膜を現像して凹凸を形成するフォトレジスト現像
方法であって、 回転する原盤の前記フォトレジスト膜に沿って親水液を
接触させ親水液層を形成する親水液層形成工程と、 前記親水液層上に水溶性現像液を供給して前記フォトレ
ジスト膜を現像する現像工程を有することを特徴とする
方法。 - （２）前記親水液は界面活性剤の溶液であることを特徴
とする請求項１記載の方法。 - （３）前記親水液は純水であることを特徴とする請求項
１記載の方法。 - （４）基盤と該基盤上に形成されかつ感光したフォトレ
ジスト膜とからなる原盤を回転させつつ前記フォトレジ
スト膜を現像して凹凸を形成するフォトレジスト現像装
置であって、 前記原盤を回転させる回転駆動手段と、 前記フォトレジスト膜上に親水液を供給する親水液性溶
液供給手段と、 前記フォトレジスト膜上に水溶性の現像液を供給する現
像液供給手段とを有することを特徴とする装置。 - （５）前記親水液は界面活性剤の溶液であることを特徴
とする請求項４項記載の装置。 - （６）前記親水液は純水であることを特徴とする請求項
４記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9105089A JPH02270147A (ja) | 1989-04-10 | 1989-04-10 | フォトレジスト現像方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9105089A JPH02270147A (ja) | 1989-04-10 | 1989-04-10 | フォトレジスト現像方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02270147A true JPH02270147A (ja) | 1990-11-05 |
Family
ID=14015679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9105089A Pending JPH02270147A (ja) | 1989-04-10 | 1989-04-10 | フォトレジスト現像方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02270147A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH086260A (ja) * | 1994-06-22 | 1996-01-12 | Nec Corp | レジスト現像方法及びその装置 |
| WO1996032521A1 (fr) * | 1995-04-10 | 1996-10-17 | Kao Corporation | Procede de metallisation au bain chaud, et procede et equipement de production de matrices |
| US6472127B1 (en) | 1999-07-12 | 2002-10-29 | Nec Corporation | Method of forming a photoresist pattern |
-
1989
- 1989-04-10 JP JP9105089A patent/JPH02270147A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH086260A (ja) * | 1994-06-22 | 1996-01-12 | Nec Corp | レジスト現像方法及びその装置 |
| WO1996032521A1 (fr) * | 1995-04-10 | 1996-10-17 | Kao Corporation | Procede de metallisation au bain chaud, et procede et equipement de production de matrices |
| US6472127B1 (en) | 1999-07-12 | 2002-10-29 | Nec Corporation | Method of forming a photoresist pattern |
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