JPH02270147A - フォトレジスト現像方法及び装置 - Google Patents

フォトレジスト現像方法及び装置

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Publication number
JPH02270147A
JPH02270147A JP9105089A JP9105089A JPH02270147A JP H02270147 A JPH02270147 A JP H02270147A JP 9105089 A JP9105089 A JP 9105089A JP 9105089 A JP9105089 A JP 9105089A JP H02270147 A JPH02270147 A JP H02270147A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoresist film
nozzle
master
hydrophilic liquid
surfactant
Prior art date
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Pending
Application number
JP9105089A
Other languages
English (en)
Inventor
Susumu Fukushima
福島 進
Kenji Yukishiro
幸城 賢治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pioneer Video Corp
Pioneer Corp
Original Assignee
Pioneer Video Corp
Pioneer Electronic Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Pioneer Video Corp, Pioneer Electronic Corp filed Critical Pioneer Video Corp
Priority to JP9105089A priority Critical patent/JPH02270147A/ja
Publication of JPH02270147A publication Critical patent/JPH02270147A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、微小孔又は凹凸(以下ピットという)からな
る光学的パターンを表面に有する光学式記録ディスクの
原盤の製作に用いられるフォトレジスト湿式現像方法及
び装置に関する。
背景技術 かかる光学式記録ディスクは、例えば、光学式ビデオ若
しくはオーディオディスクシステムの記録媒体として用
いられている。光学式ビデオ若しくはオーディオデイス
スクシステムは、記録媒体であるディスクを回転させな
がらその表面のピットからなる光学的パターンにレーザ
光を照射し、その光学的パターンによって変調されたレ
ーザ光を電気信号に変換してその光学式パターンに対応
する情報を再生するものである。当該システムに用いら
れる記録ディスクの原盤は、研磨したガラス基盤の表面
にフォトレジスト膜を設けて成るものである。当該フォ
トレジスト膜は、原盤に記録さるべき情報に応じて断続
的に照射されるレーザ光によって、渦巻状経路に沿って
不連続的に露光処理され、フォトレジスト膜の感光した
部分は現像液によって溶解除去すなわち食刻され、その
跡にピットの列が同心円状あるいは渦巻状に形成される
かかるピットを有する原盤から電鋳により複製用のスタ
ンバを形成し、該スタンバを用いて光学式記録ディスク
が複製、生産される。
原盤の現像処理によって形成される上記のピットの深さ
及び幅すなわちトラック方向に垂直な断面の寸法は、光
学式ビデオ若しくはオーディオディスクシステムにおけ
るレーザ光による情報検出の精度に密接に関連する寸法
である。従って、現像工程は、このピットの断面寸法が
所定範囲内の値となるように管理されねばならない。
従来のフォトレジスト現像方法においては、第3図に示
す如く、圧力容器1中に配置された現像液2に圧力を加
え、手動操作によってスプレーガン3にて現像液を原盤
4に塗布し、その後フォトレジスト膜の現像を行なって
いる。かかる塗布手段においては、現像液2に圧力を加
えるための圧力容器に連通した窒素ガス源5が含まれ、
現像液中の不純物を濾過するフィルター6が現像液2か
らスプレーガン3に至る輸送管の途中に設けられている
。また、原盤4は、それが回転しながら現像工程が行な
えるように原盤中心について回転させる回転テーブル7
上に載置されている。
しかしながら、かかる現像方法において、フォトレジス
ト膜が疎水面なので、現像開始初期に原盤上にスプレー
された小さな現像液滴によりフォトレジスト膜の部分的
な過現像が発生し、それが斑点状のシミとして残り視覚
上好ましくないという問題があった。
発明の概要 本発明の目的は、上記問題を解消することにあり、フォ
トレジスト膜の均一な現像を行うフォトレジスト現像方
法及び装置を提供することにある。
本発明の方法は、基盤と該基盤上に形成されかつ感光し
たフォトレジスト膜とからなる原盤を回転させつつ、前
記フォトレジスト膜を現像して凹凸を形成するフォトレ
ジスト現像方法であって、回転する原盤の前記フォトレ
ジスト膜に沿って親水液を接触させ親水液層を形成する
親水性付与工程と、前記親水液層上に水溶性現像液を供
給して前記フォトレジスト膜を現像する現像工程を有す
ることを特徴とする方法である。
また、本発明の装置は、基盤と該基盤上に形成されかつ
感光したフォトレジスト膜とからなる原盤を回転させつ
つ前記フォトレジスト膜を現像して凹凸を形成するフォ
トレジスト現像装置であって、前記原盤を回転させる回
転駆動手段と、前記フォトレジスト膜上に親水液を供給
する親水液性溶液供給手段と、前記フォトレジスト膜上
に水溶性の現像液を供給する現像液供給手段とを有する
ことを特徴とする装置である。
実施例 以下に、本発明の実施例を図面を参照しつつ説明する。
第1図は本実施例のフォトレジスト現像装置のの概略斜
視図を示す。装置の本体9の上面上にシンク11が設け
られている。シンク11内の凹所においてはモータ12
に連結された回転テーブル10が載置されており、回転
テーブル1oの周囲には間隙を置いて、フード13が設
けられている。
シンク11の周縁部には、ノズルアーム14を本体10
の上面に平行に回動自在に担持したアームベース15が
載置されている。フード13は回転テーブル10上に配
置された原盤が回転し、現像液等の液体がその上に供給
された際に原盤周縁から飛び散る該液体を受は止める働
きをなす。フード13の内側はシンク11の凹所に連通
しており、受は止められた液体が該凹部に流し出るよう
になっている。さらにシンク11の外側には、排出口1
6が設けられ、シンク11の凹部に溜った液体を外部に
排出できるようになっている。
第2図はかかる装置の構成を示す概略図である。
第1図のノズルアーム14は現像液用ノズル14 a 
s純水用ノズル14b及び界面活性剤用ノズル14cの
3つのノズルを有している。これらノズル先端は、ノズ
ルアーム14の回動により回転テーブル10上にてこれ
と平行に移動し、回転テーブル10の中心からその略半
径方向にて往復動自在となっている。現像液用ノズル1
4aは輸送管によりフィルタFaを介して現像液タンク
Taに連通している。現像液タンクTaは窒素ガス源N
Gに連通し、その内部の現像液は窒素ガスによって押圧
されている。ノズル14aからの現像液の噴出は電磁弁
MVによって制御される。純水用ノズル14bは輸送管
により純水源Tbに連通している。純水は電磁弁MVに
よって制御されノズル14bから吐出するようになされ
ている。界面活性剤用ノズル14cは輸送管によりフィ
ルタFCを介して界面活性剤タンクTcに連通している
界面活性剤タンクTcは窒素ガス源NGに連通し、その
内部の溶液形態の界面活性剤は窒素ガスによって押圧さ
れている。界面活性剤溶液はフォトレジスト膜の疎水面
を親水性とする働きをなす。ノズル14cからの界面活
性剤の噴出は電磁弁MVによって制御される。各電磁弁
MVは所定タイミングで開閉するように電気回路で制御
される。
原盤の現像は以下の如く行なわれる。
1) まず、原盤4を回転テーブル10上に載置して原
盤4を回転させ且つ界面活性剤ノズル14Cから一定流
量の界面活性剤を吐出しつつ、ノズル14cを原盤4の
半径方向に数秒間にて1回往復させ、親水液層である界
面活性剤層を原盤4のフォトレジスト膜上に形成する。
2) 次に、現像液ノズル14aから一定流量の現像液
を吐出しつつ、ノズル14aを現像時間内において原盤
4の半径方向において往復動させる。
3) 現像時間終了後、純水ノズルi4bから一定流量
の純水を滴下しつつノズル14bを原盤4の中央付近に
て停止させて原盤4を洗浄する。
以上の工程でフォトレジスト膜を現像する。
更に、界面活性剤を用いない場合には、原盤の現像は以
下の如く行なわれる。
1) まず、原盤4を回転テーブル10上に載置して原
盤4を回転させ且つ純水ノズル14bから一定流量の純
水を滴下しつつ、ノズル14bを原盤4の中央部に停止
させ数分間にて、純水層を原盤4のフォトレジスト膜上
に形成する。
2) 次に、現像液ノズル14aから一定流量の現像液
を吐出しつつ、ノズル14aを現像時間内において原盤
4の半径方向において往復動させる。
3) 現像時間終了後、再び純水ノズル14bから一定
流量の純水を滴下しつつノズル14bを原盤4の中央付
近にて停止させて原盤4を洗浄する。
以上の工程でフォトレジスト膜を現像する。
発明の効果 本発明によれば、フォトレジスト膜上に予め界面活性剤
溶液又は純水を供給することにより、フォトレジスト膜
に親水液層を形成させた後に現像液を供給するので、部
分的に現像液がフォトレジスト膜表面に供給されること
なく徐々に広い範囲に亘って現像液濃度が上って部分的
な現像が生じない。従って、視覚上好ましくない斑点状
のシミ等の現像ムラが生じない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるフォトレジスト現像装置の概略断
面図、第2図は本発明による装置の概略説明図、第3図
は従来のフォトレジスト現像方法の概略説明図である。 主要部分の符号の説明 9・・・・・・本体     10・・・・・・回転テ
ーブル11・・・・・・シンク    13・・・・・
・フード14・・・・・・ノズルアーム 15・・・・・・アームベース 15a・・・・・・現像液用ノズル 15b・・・・・・純水用ノズル

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基盤と該基盤上に形成されかつ感光したフォトレ
    ジスト膜とからなる原盤を回転させつつ、前記フォトレ
    ジスト膜を現像して凹凸を形成するフォトレジスト現像
    方法であって、 回転する原盤の前記フォトレジスト膜に沿って親水液を
    接触させ親水液層を形成する親水液層形成工程と、 前記親水液層上に水溶性現像液を供給して前記フォトレ
    ジスト膜を現像する現像工程を有することを特徴とする
    方法。
  2. (2)前記親水液は界面活性剤の溶液であることを特徴
    とする請求項1記載の方法。
  3. (3)前記親水液は純水であることを特徴とする請求項
    1記載の方法。
  4. (4)基盤と該基盤上に形成されかつ感光したフォトレ
    ジスト膜とからなる原盤を回転させつつ前記フォトレジ
    スト膜を現像して凹凸を形成するフォトレジスト現像装
    置であって、 前記原盤を回転させる回転駆動手段と、 前記フォトレジスト膜上に親水液を供給する親水液性溶
    液供給手段と、 前記フォトレジスト膜上に水溶性の現像液を供給する現
    像液供給手段とを有することを特徴とする装置。
  5. (5)前記親水液は界面活性剤の溶液であることを特徴
    とする請求項4項記載の装置。
  6. (6)前記親水液は純水であることを特徴とする請求項
    4記載の装置。
JP9105089A 1989-04-10 1989-04-10 フォトレジスト現像方法及び装置 Pending JPH02270147A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH086260A (ja) * 1994-06-22 1996-01-12 Nec Corp レジスト現像方法及びその装置
WO1996032521A1 (fr) * 1995-04-10 1996-10-17 Kao Corporation Procede de metallisation au bain chaud, et procede et equipement de production de matrices
US6472127B1 (en) 1999-07-12 2002-10-29 Nec Corporation Method of forming a photoresist pattern

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