JPH0256555A - 光ディスク用ガラス原盤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ディスク用ガラス原盤の製造方法に関し、特
に光ディスク用ガラス原盤製造時の現像方法の改良に関
するものである。

〔従来の技術〕

光ディスク用ガラス原盤の製造プロセスは、ガラス基板
の研摩、洗浄、フォトレジスト塗布、露光、現像の各工
程からなっている。すなわち１．先ずガラス基板の表面
を鏡面仕上に研摩し、清浄に洗浄する。次にシランカッ
プリング剤等により表面処理を施し、フォトレジストを
塗布する。そして、記録しようとする信号によって変調
されたレーザビームをフォトレジストに照射し、上記信
号に対応する凹凸パターンの潜像を形成する。その後、
現像を行い前記凹凸パターンを顕像化し、その後洗浄、
乾燥して光ディスク用ガラスＪＩＫ盤を得る。

従来、上記の現像は、フォトレジスト付きガラス基板を
フォトレジスト面を上にしてターンテーブル上にセット
し、回転させながら現像液を上から吹付けて行うのが一
般的であった。

ところが、この現像方法では、下記の問題点があった。

（イ）剥離したフォトレジスト片がガラス原盤面を浮遊
し、その一部が付着して欠陥の原因となる。

（ロ）フォトレジスト面を上向きにして現像を行うので
、空気中のダストをまき込み欠陥の原因となる。

このような問題を解決するため、特開昭６３−６４６４
８号公報には、フォトレジスト面を下向きにして、下方
から現像液を吹付けるか又は下方に設けられた現像槽内
・の現像液に浸漬することにより現像を行う方法が提案
されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら５上記公報に開示された方法によれば、上
述の（イ）、（ロ）の問題点は解決されるものの、下記
のような解決すべき問題点が残存する。

先ず、フォトレジスト面を下向きにして下方から現像液
を吹付けて現像を行う方法の場合、下部から吹付けを行
うことより多量の現像液を必要とし、しかも現像液に浸
る面が一様にならないで現像ムラの原因となり品質の低
下を招く。

一方、フォトレジスト面を下向きにして下方に設けられ
た現像槽内の現像液に浸漬して現像を行う方法の場合、
現像液が水平移動はするものの循環はしないので、現像
効率が悪い。常に新しい現像液が現像面にあたっている
のが理想である。

本発明は以上の問題点に鑑み、少量の現像液で現像ムラ
がなくかつ現像効率のよい現像工程を備え、欠陥率が低
く安定した特性を有する光ディスク用ガラス原盤が製造
可能な製造方法を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、本発明によれば、鏡面研摩さ
れた後清浄に洗浄されたガラス基板に表面処理を施し、
フォトレジストを塗布した後、信号としての凹凸パター
ンをレーザビームを照射することで潜像化し、次いで現
像によって前記凹凸パターンを顕像化する光ディスク用
ガラス原盤の製造方法において、フォトレジストが塗布
されたガラス基板面を下向きにし、かつ、ガラス基板の
裏面までは現像液が浸漬しない状態でフォトレジスト付
きガラス基板を現像液中に浸漬させ、該フォトレジスト
付きガラス基板を回転させると同時に、フォトレジスト
面にノズルで下部より現像液を供給して現像を行うこと
を特徴とする光ディスク用ガラス原盤の製造方法が提供
される。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。

本実施例による光ディスク用ガラス原盤の製造方法では
、ガラス基板の研摩、洗浄、フォトレジスト塗布及び露
光に関しては従来と同様であるので、ここでは現像の工
程について詳述する。

第１図は本実施例の製造方法の現像工程において使用さ
れる現像装置を示す図である。同図中１はレーザビーム
の照射により信号に対応する凹凸パターンの潜像が形成
されたフォトレジスト付きガラス基板で、フォトレジス
ト面１ａを下方にして真空チャック２に回転自在に固定
保持されている。

この真空チャック２は、真空ポンプ３、真空ゲージ４、
電磁弁５及び真空スイッチ６からなる真空チャック作動
系に接続されている。一方、現像液１０を収容する現像
液タンク１１は、冷却水１２を収容する冷却水タンク１
３中に図示の如く設置されている。

現像液タンク１１には、バルブ２０、ドレイン２１．フ
ィルター２２、ポンプ２３、流ｆｉｔ　調！バルブ２４
及びスプレィノズル２５からなる現像液循環系が接続さ
れており、現像液１０を循環可能としている。スプレィ
ノズル２５の吹出口は上向きに形成されており、フォト
レジスト付きガラス基板ｌのフォトレジスト面１ａに対
し下方から現像液１０を吹付けるようになっている。ま
た、冷却水タンク１３には、バルブ３０、冷却装置（ク
ールメイト）３１を含む冷却水循環系が接続されており
、昇温した冷却水を排出し、所定温度に冷却した冷却水
を冷却水タンク１３に供給している。

上記装置を用いて現像を行う場合、先ず、真空チャック
作動系を駆動させて真空チャック２によりフォトレジス
ト付きガラス基板ｌを回転可能に固定支持する。このと
き、フォト−ジス１〜付きガラス基板ｌは、フォトレジ
スト面１ａを下向きとし。

かつ、ガラス基板の裏面までは現像液１０がかからない
状態で支持される。そして、フォトレジスト付きガラス
基板１を回転させると同時に、その下部からスプレィノ
ズル２５により現像液１０を吹付けながら現像を行う。

この際、フォトレジスト面１ａに吹付けられる現像液は
常に新しいものがあたるように、現像液循環系を駆動さ
せて現像液１０の循環を行う。

このように現像液１０を循環させるシステムとすること
により、同じ現像液で５〜６回は十分に現像が可能とな
る。また、現像液１０の温度によって現像効率が異なる
ので、現像液１０は冷却水循環系によって循環される冷
却水１２により常に一定温度（例えば２３℃）に保持さ
れ、現像効率を向上させると共に現像の安定化を図って
いる。

尚、現像後の水洗、乾燥については常法により行われる
ので、ここでは説明を省略する。

第２図に、上記実施例により作製したガラス原盤（ロッ
ｔ”Ｎｏ、１９〜２４；図中Ａで示す）のトラッキング
エラー信号の安定性及び欠陥率を、上方から現像液を吹
付ける従来方法を用いて作製したガラス原盤（ロットＮ
ｏ、１〜６；図中Ｂ）、フォトレジスト面を下向きにし
て現像液中に浸漬する従来方法を用いて作製したガラス
原盤（ロットＮｏ、７〜１２；図中Ｃ）、及び下方から
現像液を吹付ける従来方法を用いて作製したガラス原盤
（ロフトＮｏ、１３〜１８；図中Ｄ）と対比させて示す
。この図から明らかなように、本実施例によるガラス原
盤は、従来のものと比べ、トラッキングエラー信号が安
定しかつ欠陥率の低いものとなっている。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したように、本発明によれば、フォトレ
ジスト付きガラス基板をフォトレジスト面を下向にしか
つガラス基板の裏面までは浸漬されない状態で現像液中
に浸漬させ、回転させると同時に下方から現像液を吹付
けながら現像を行うようにしたので、以下のような効果
が得られる。

■フォトレジスト面が下向きでかつ常に新しい現像液が
供給されていることにより、剥離したフォトレジスト片
や大気中のダストによる影響がなく、これらによる欠陥
が防止され、欠陥率の低減が可能となる。

■同じく上記理由により、フォトレジスト面にあたる現
像液が均一となり現像効率が向上し、現像ムラの少ない
現像上りとなり、トラッキングエラー信号等の信号特性
の安定した光ディスク用ガラス原盤の提供が可能となる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例による製造方法において使用さ
れる現像装置を示す図、第２図は上記実施例により製造
された光ディスク用ガラス原盤の特性を従来のものと比
較して示す図である。 Ｉ・・・フォトレジスト付きガラス基板ｌａ・・・フォ
トレジスト面　　２・・・真空チャックＩＯ・・現像液
　　　　　　　１１・・・現像液タンク１２・・・冷却
水　　　　　　　１３・・・冷却水タンク２５・・・ス
プレィノズル 第２図 ０ツトｐｌｏ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）鏡面研摩された後清浄に洗浄されたガラス基板に
   表面処理を施し、フォトレジストを塗布した後、信号と
   しての凹凸パターンをレーザビームを照射することで潜
   像化し、次いで現像によって前記凹凸パターンを顕像化
   する光ディスク用ガラス原盤の製造方法において、 フォトレジストが塗布されたガラス基板面を下向きにし
   、かつ、ガラス基板の裏面までは現像液が浸漬しない状
   態でフォトレジスト付きガラス基板を現像液中に浸漬さ
   せ、該フォトレジスト付きガラス基板を回転させると同
   時に、フォトレジスト面にノズルで下部より現像液を供
   給して現像を行うことを特徴とする光ディスク用ガラス
   原盤の製造方法。