JPH04105230A - 光ディスク原盤の現像処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、コンパクトディスク、レーザディスク、およ
び光記録ディスク等の光ディスク原盤の現像処理方法に
関するものである。

〔従来の技術〕

研磨、洗浄して清浄にしたガラス基板表面に感光剤を塗
布し、カッティングマシンにより信号で変調したレーザ
光を照射し、感光膜に露光記録する。次に現像処理を行
って信号ピット又は溝を形成し、導電膜を付けた後、ニ
ッケル電鋳を行ってスタンバを作成する。

ここで、現像処理について少し詳しく説明する。

露光記録の済んだ光ディスク原盤を回転台に取り付け、
光ディスク原盤を回転させながら、先ず純水をその表面
に注油してホトレジスト膜面を洗う。

次に所定濃度の現像液を流下しながら現像を行い、所定
時間又は現像の進行をモニタしている場合はモニタ値が
設定値に達した時、現像液の流下を止める。そして純水
を流下して盤面を洗浄し、盤上の現像液を洗い流した後
、高速に回転させて盤面上の水を振り切り乾燥して現像
処理を終了する。

〔発明が解決しようとする課題〕

一般に、ポジ型フォトレジストの現像液にはアルカリが
使用されており、例えば、苛性ソーダ。

燐酸ソーダ、珪素ソーダの混合物が用いられている。そ
のため現像終了後の純水による洗浄において、洗い残し
又は、洗浄不充分による盤面の欠陥を発生させる危険性
がある。また、ホトレジストの表面が疎水性のため、高
速回転時の水切りの時、微小水滴が盤表面に残ると高、
速回転時においても微小水滴は振り飛ばされないで、乾
燥後も盤表面に残存して欠陥となるこがある。

〔課題を解決するための手段〕

そのため本発明では、回転台上に着脱自在に固定して回
転する被現像物に現像液や処理液の液流を注いで現像処
理を行う光ディスク原盤の現像処理方法において、前記
処理液に表面活性剤を配合して前記被現像物の現像処理
を行うことを特徴としたものである。

〔作用〕

表面活性剤により、アルカリがレジスト面から離れ易く
なり、短時間の水洗いで清浄なレジスト面が得られる。

またホトレジスト表面に表面活性剤が吸着し、ホトレジ
ストの表面が親水性となる−ため、盤表面が一様に水に
濡れた状態となる。そのため、高速回転時に水切れが発
生せず、微小水滴が盤表面に残ることなく盤面全体が一
様に水を振り切り、きれいな乾燥表面が得られる。

さらに、次工程のニッケル蒸着、またはニフケルスバッ
タにおけるニッケル膜との密着性についてもホトレジス
ト面に表面活性剤が吸着し、第１図の如く表面活性剤の
非極性基がホトレジストと結合し、極性基が表面に並ぶ
ため、ニッケル膜との密着が良好となる。

〔実施例〕

直径３６０日のガラス盤を研磨、洗浄して清浄な表面を
得た後、ポジ型ホトレジストＡＺ−１３５０（ヘキスト
・ジャパン製）を膜厚１３００人となるように塗布して
、８０℃３０分ブリベータを行う。

次に、カッティングマシンにより、レーザ光を用いて信
号を記録露光する。そして、現像液としてＡＺ−デベロ
ッパー（ヘキスト・ジャパン製）を用いて回転現像を行
い、６０秒間現像後、純水を用いて１５秒洗浄する。

次に表面活性剤としてステアリン酸ナトリウムの０．３
％溶液を１５秒流下、次に再び純水を用いて３０秒間洗
浄した後、回転数を１５００回／分にして水切り乾燥を
行う。

ここでは表面活性剤として、ステアリン酸ソーダを使用
したが、これに限定されることはなく、陰イオン表面活
性剤のうち、高級脂肪酸のカルボｙｉ９塩（ＲＣＨ２ｃ
　ｏ　ｏＮａ）やスルホン酸塩第１図 使える。また液濃度としては、０．０５％〜０．５％が
良い結果が得られる。

〔発明の効果〕

以上述べた如く、本発明の現像方法を用いれば、欠陥の
ない表面清浄な光ディスク原盤が得られる。

また、ホトレジスト膜とニッケル導電膜の密着のよい、
光ディスク原盤を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を説明するための模型図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 回転台上に着脱自在に固定して回転する被現像物に現像
   液や処理液の液流を注いで現像処理を行う光ディスク原
   盤の現像処理方法において、前記処理液に表面活性剤を
   配合して前記被現像物の現像処理を行うことを特徴とす
   る光ディスク原盤の処理方法。