JP3184079B2 - 光ディスク用スタンパの製造方法及び光ディスクの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、各種光ディスクを
作製する際に使用される光ディスク用スタンパの製造方
法及び光ディスクの製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の光ディスク用スタンパの製造方法
およびその複製方法を図４ないし図６に基づいて以下に
説明する。図４に示すように、よく研磨され清浄なガラ
ス基板７１（図４（ａ））の表面にフォトレジスト７２
をスピン塗布法により、均一の厚さに塗布する（図４
（ｂ））。続いて、記録する信号に応じて変調されたレ
ーザ光７３、例えばアルゴンレーザを図示しないレーザ
カッティング装置からフォトレジスト７２に照射し、各
種情報がピット列で記録されるように、露光を行う（図
４（ｃ））。そして、露光されたフォトレジスト７２を
現像除去することにより、ピット７４ａが複数形成され
る（図４（ｄ））。

【０００３】次に、上記フォトレジスト７２の表面にニ
ッケル薄膜７５をスパッタリング法や無電解メッキ法に
より形成し（図４（ｅ））、導電化を行う。続いて、上
記ニッケル薄膜７５が形成されたガラス基板７１を電鋳
液中に浸漬し、電鋳処理を行い、電鋳膜７６を形成する
（図４（ｆ））。そして、この電鋳膜７６をガラス基板
７１から引き剥し、洗浄すると、表面に各ピット７４ａ
の形成位置に対応した複数の突起７４ｂを有したマスタ
スタンパ７７が得られ（図４（ｇ））、このマスタスタ
ンパ７７を用いて以下に説明するマザースタンパ７８を
複製する。

【０００４】上記マザースタンパ７８は、図５に示す方
法により複製される。上記マスタスタンパ７７の表面
に、マザースタンパ７８をマスタースタンパ７７から剥
離し易くするための剥離皮膜である酸化膜７９を形成す
る（図５（ａ））。酸化膜７９が形成されたマスタスタ
ンパ７７を電鋳液中に浸漬し、電鋳処理を行い電鋳膜８
０を形成する（図５（ｂ））。そして、この電鋳膜８０
をマスタスタンパ７７から引き剥し、洗浄すると、マス
タスタンパ７７と逆の凹凸形状を有し、複数のピット７
４ｃを有するマザースタンパ７８が得られ（図５
（ｃ））、このマザースタンパ７８を用いて以下に説明
するワークスタンパ８１を複製する。

【０００５】上記ワークスタンパ８１は、図６に示す方
法により複製される。上記マザースタンパ７８の表面に
は、ワークスタンパ８１を剥し易くするための剥離皮膜
である酸化膜８２が形成される（図６（ａ））。続い
て、上記酸化膜８２が形成されたマザースタンパ７８を
電鋳液中に浸漬し、電鋳処理を行い、電鋳膜８３を形成
する（図６（ｂ））。そして、この電鋳膜８３をマザー
スタンパ７８から引き剥し、洗浄すると、マスタスタン
パ７７と同じ凹凸形状の複数の突起７４ｄを有するワー
クスタンパ８１が得られ（図６（ｃ））、このワークス
タンパ８１を型として光ディスクが作製される。

【０００６】尚、上記酸化膜７９・８２は、マスタスタ
ンパ７７・マザースタンパ７８を重クロム酸カリウム溶
液に浸漬して形成することができる。しかしながら、重
クロム酸カリウム溶液は、そのまま排出すると公害の原
因となるので、廃液処理を施さなければならない。この
ため、廃液処理装置が必要となり、廃液処理にコストが
かかる等の欠点があった。

【０００７】そこで、特開平２−２７７７９１号公報、
特開平６−１１１３８４号公報または特開平６−１１１
３８６号公報には、重クロム酸カリウム溶液を使用せず
に、酸化膜７９・８２を形成するための光ディスク用ス
タンパの製造方法が提案されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記特開平
２−２７７７９１号公報、特開平６−１１１３８４号公
報および特開平６−１１１３８６号公報に開示されてい
る光ディスク用スタンパの製造方法では、それぞれ以下
の問題点を有している。上記特開平２−２７７７９１号
公報に開示されている光ディスク用スタンパの製造方法
では、マスタスタンパ７７またはマザースタンパ７８に
プラズマアッシング処理を施すことにより酸化膜７９・
８２を形成しているが、この処理法は、真空処理法のた
め、装置が大がかりなものになり、コストアップを招来
するとともに、処理時間が長くかかってしまう。

【０００９】上記特開平６−１１１３８４号公報に開示
されている光ディスク用スタンパの製造方法では、マス
タスタンパ７７またはマザースタンパ７８に酸素プラズ
マアッシング処理法を施すことにより酸化膜７９・８２
を形成しているが、この方法もプラズマ処理法であるの
で、上述した理由から、コストアップを招来するととも
に、処理時間が長くかかってしまう。

【００１０】上記特開平６−１１１３８６号公報に開示
されている光ディスク用スタンパの製造方法では、マス
タスタンパ７７またはマザースタンパ７８に紫外線−オ
ゾン処理法を施すことにより酸化膜７９・８２を形成し
ている。しかしながら、オゾンは有毒な物質であるの
で、外部に漏れ出さないようにするための装置が必要と
なり、コストアップを招来する。

【００１１】また、表面が酸化されたマスタスタンパ７
７またはマザースタンパ７８は、複数枚のマザースタン
パ７８またはワークスタンパ８１を複製するために、繰
り返し上記電鋳液中に浸漬される。一方、この電鋳液は
酸性であるので、電鋳液によって、上記マスタスタンパ
７７またはマザースタンパ７８の表面は徐々に腐食溶解
される。このため、幅が０．２〜０．８μｍ、長さが
０．５〜８μｍである突起７４ｂまたはピット７４ｃ
は、上記マザースタンパ７８またはワークスタンパ８１
の複製工程が繰り返されるにしたがい、上記電鋳液によ
り腐食溶解されて徐々に変形され、正確な形状のピット
７４ｃを有したマザースタンパ７８または突起７４ｄを
有したワークスタンパ８１を精度良く複製できなくな
り、ひいては上記ワークスタンパ８１を用いて形成され
た光ディスクから正確な情報を再生することができない
という問題を有している。

【００１２】本発明の目的は、低コストで、かつ短時間
でスタンパを作製することができるとともに、複製工程
を繰り返しても、ピットの形状が変化しない光ディスク
用スタンパの製造方法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項１の発明の光ディスク用スタンパの製造方
法は、微細な凹凸を表面に形成した親スタンパに電鋳処
理を行うことによって、上記微細な凹凸を有した子スタ
ンパを複製する光ディスク用スタンパの製造方法におい
て、上記親スタンパに電鋳処理を行う前に、上記親スタ
ンパの表面を酸化した酸化膜を形成した後、この酸化膜
上に上記電鋳処理による上記微細な凹凸の腐食溶解を防
止するための導電性保護膜を形成することを特徴として
いる。

【００１４】上記方法によれば、親スタンパの表面に酸
化膜を形成し、この酸化膜上に導電性保護膜を形成した
後、上記親スタンパに電鋳処理を行い、子スタンパを複
製する。このため、電鋳処理に使用する電鋳液が親スタ
ンパの表面に接触することがなくなるので、上記電鋳液
による上記微細な凹凸の腐食溶解を防止できる。

【００１５】また、親スタンパの表面には酸化膜が備え
られているので、酸化膜と導電性保護膜とが剥離し易く
なる。このため、親スタンパから導電性保護膜を有した
子スタンパを剥離する際、剥離を容易に行うことができ
る。

【００１６】この結果、導電性保護膜により上記電鋳液
による上記微細な凹凸の腐食溶解が防止できるので、上
記微細な凹凸を親スタンパから子スタンパに複製する工
程を繰り返しても、上記微細な凹凸は上記電鋳液により
変形されることがなく、同一の特性を有した子スタンパ
を作製することができる。また、酸化膜により、親スタ
ンパから導電性保護膜を有した子スタンパを剥離するこ
とが容易に行える。

【００１７】請求項２の発明の光ディスク用スタンパの
製造方法は、請求項１に記載の光ディスク用スタンパの
製造方法において、上記酸化膜は、少なくとも酸素を含
む雰囲気中において上記親スタンパを加熱することによ
り形成されていることを特徴としている。

【００１８】上記方法によれば、酸化膜は、親スタンパ
を少なくとも酸素を含んでいる雰囲気中において加熱
し、熱と酸素との作用によって、その表面が酸化される
ことにより形成されている。

【００１９】この結果、酸化膜は、親スタンパを少なく
とも酸素を含んでいる雰囲気中において加熱するだけで
形成されるので、スタンパのコストダウンを図ることが
できる。

【００２０】請求項３の発明の光ディスク用スタンパの
製造方法は、請求項１に記載の光ディスク用スタンパの
製造方法において、上記酸化膜は、上記親スタンパを温
水中に浸漬することにより形成されていることを特徴と
している。

【００２１】上記方法によれば、酸化膜は、親スタンパ
を温水中に浸漬すると、温水の熱と温水中に含有してい
る酸素との作用により、その表面が酸化されることによ
り形成される。

【００２２】この結果、温水に親スタンパを浸漬するだ
けで、温水の熱と温水中の酸素との作用により酸化膜が
形成されるので、スタンパのコストダウンを図ることが
できる。また、親スタンパを温水中に浸漬しているの
で、酸化膜の形成が促進されるとともに、親スタンパの
洗浄も同時に行うことができるので、請求項２の製造方
法よりもスタンパの作製時間を短縮することができる。

【００２３】請求項４の発明の光ディスク用スタンパの
製造方法は、請求項１に記載の光ディスク用スタンパの
製造方法において、上記導電性保護膜はニッケル薄膜で
あり、このニッケル薄膜は上記親スタンパの表面を腐食
しない方法により形成されていることを特徴としてい
る。

【００２４】上記方法によれば、ニッケル薄膜は、親ス
タンパの表面を腐食しない方法、例えばスパッタリング
法やアルカリ性無電解メッキ法により形成されるので、
親スタンパ表面に形成されている微細な凹凸が変形する
ことがない。また、スパッタリング法やアルカリ性無電
解メッキ法は、ニッケル薄膜の主剤であるニッケルを腐
食しない。

【００２５】この結果、子スタンパには、より正確に親
スタンパの微細な凹凸が複製され、この子スタンパを用
いて作製された光ディスクは、より正確な情報を再生す
ることができる。また、親スタンパの表面を腐食しない
方法として、スパッタリング法やアルカリ性無電解メッ
キ法により形成されたニッケル薄膜には、腐食等の悪影
響が存在しない。また、請求項５の光ディスクの製造方
法は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の製造方
法により作製された子スタンパを用いて、光ディスクを
作製することを特徴としている。この光ディスクによれ
ば、より正確な情報を再生することができる。

【００２６】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図１ないし
図３に基づいて以下に説明する。電鋳処理によって作製
されたマスタスタンパ１（図１（ａ））の微細な突起１
ｂが複数形成されている面１ａに酸化膜２を形成する
（図１（ｂ））。この酸化膜２は、後述するニッケル薄
膜３を有する電鋳層４をマスタスタンパ１から剥し易く
するものであり、マスタスタンパ１を図示しないオーブ
ン中において加熱し、熱と後述するオーブン内の雰囲気
とにより、その表面を酸化したものである。そして、酸
化膜２の膜厚は２０〜１００Åが好ましい。この数値の
設定理由は、２０Å未満では酸化膜２が均一に形成され
ないため、酸化膜２が形成されずマスタスタンパ１の表
面が露出することがあり、この場合、上記表面に直接ニ
ッケル薄膜３が形成されてしまい上記電鋳層４を剥すこ
とができなくなる一方、１００Åを超えた場合、突起１
ｂの形状に悪影響が現れて好ましくないからである。

【００２７】また、上記オーブンは、以下に示す条件に
設定されている。即ち、温度は８０℃以上とし、その雰
囲気は空気、酸素を２０％以上含む気体、または湿度が
８０％以上であるスチームから成り、加熱時間は２０分
以上とし、例えば酸化膜２を１００Åに形成する場合、
空気雰囲気では約１８０分まで、上記酸素雰囲気および
スチーム雰囲気では約１２０分までとする。尚、加熱時
間は、酸化膜２の膜厚および加熱雰囲気の条件によって
適宜変更するのが好ましい。さらに、上記オーブンは、
マスタスタンパ１にゴミが付着しないようにするために
クリーンオーブンであることが望ましい。

【００２８】また、酸化膜２を形成する他の方法とし
て、図２に示す温水洗浄装置２０を利用してもよい。同
図において、温水洗浄装置２０は、第１洗浄槽２１、第
２洗浄槽２２、温水槽２３、ＩＰＡ（Isopropyl Alcoho
l)槽２４およびＩＰＡ蒸気乾燥槽２５を備えている。第
１洗浄槽２１には、界面活性剤２６が満たされており、
その内部に超音波発生装置２７が備え付けられている。
第２洗浄槽２２には、純水２８が満たされており、その
内部に超音波発生装置２９が備え付けられている。温水
槽２３には、温水３０が満たされており、その内部に超
音波発生装置３１が備え付けられている。ＩＰＡ槽２４
には、イソプロピルアルコール３２が満たされている。
ＩＰＡ蒸気乾燥槽２５には、内部にヒータ３３が備えら
れており、このヒータ３３が浸される程度にイソプロピ
ルアルコール３４が満たされており、かつ上部内部の全
周にわたり冷却パイプ３５が設けられている。

【００２９】上記構成において、マスタスタンパ１は、
第１洗浄槽２１の界面活性剤２６に浸漬されると、界面
活性剤２６と超音波発生装置２７から発振された超音波
との作用により洗浄される。第１洗浄槽２１での洗浄工
程終了後、マスタスタンパ１は、第２洗浄槽２２の純水
２８に浸漬され、純水２８と超音波発生装置２９から発
振された超音波との作用により、マスタスタンパ１の表
面に残留していた界面活性剤２６等が洗浄される。

【００３０】第２洗浄槽２２での洗浄工程終了後、マス
タスタンパ１は、温水槽２３の温水３０に浸漬される。
このとき、マスタスタンパ１の浸漬時間は２分以上と
し、例えば酸化膜２を１００Åに形成する場合では約６
０分までとし、温水３０の温度は７０℃以上とする。こ
れにより、マスタスタンパ１は、その表面が温水３０の
熱と温水３０に含有している酸素との作用により酸化さ
れ、酸化膜２が形成されると同時に、超音波発生装置３
１から発振された超音波との作用により洗浄される。従
って、上述した雰囲気中において酸化膜２を形成する方
法よりも、酸化膜２の形成時間が短縮できるとともに、
マスタスタンパ１の作成時間を短縮することができる。

【００３１】温水槽２３での酸化膜２の形成および洗浄
工程終了後、マスタスタンパ１は、ＩＰＡ槽２４に搬送
され、ＩＰＡ蒸気乾燥槽２５での乾燥時間を短縮するた
めに、マスタスタンパ１の表面に残留している水分がイ
ソプロピルアルコール３２に置換される。ＩＰＡ槽２４
での置換終了後、マスタスタンパ１は、ＩＰＡ蒸気乾燥
槽２５上に移動させられ、イソプロピルアルコール３４
がヒータ３３により加熱され発生したイソプロピルアル
コール蒸気３４ａ内に搬送される。

【００３２】ここで、イソプロピルアルコール蒸気３４
ａが上記表面に接触すると、イソプロピルアルコール蒸
気３４ａは冷却され、凝縮し、水滴になる。この水滴は
上記表面を滴下しながら汚れ等を除去する。そして、マ
スタスタンパ１は温度が徐々に上昇し、イソプロピルア
ルコール蒸気３４ａ温度に達すると、イソプロピルアル
コール蒸気３４ａは凝縮しなくなり洗浄が終了する。

【００３３】次に、マスタスタンパ１をイソプロピルア
ルコール蒸気３４ａから取り出すと、上記表面に付着し
ているイソプロピルアルコール３４は、マスタスタンパ
１の温度により蒸発し乾燥する。尚、イソプロピルアル
コール蒸気３４ａは、冷却パイプ３５により冷却され、
液化しイソプロピルアルコール３４に戻る。

【００３４】これにより、ＩＰＡ蒸気乾燥槽２５は洗浄
と乾燥とを１槽にて行うことができるので、別途乾燥装
置が不要となりコストダウンを図ることができる。

【００３５】さらに、酸化膜２を形成する他の方法とし
て、図２に示して上述した温水槽２３、ＩＰＡ槽２４お
よびＩＰＡ蒸気乾燥槽２５の代わりに、第３洗浄槽４１
および温水槽４２を備えた図３に示す温水洗浄装置４０
を利用してもよい。同図において、温水洗浄装置４０
は、上記第１洗浄槽２１、上記第２洗浄槽２２、第３洗
浄槽４１および温水槽４２を備えている。第３洗浄槽４
１には、純水４３が満たされているとともに、その内部
に超音波発生装置４４が備え付けられている。温水槽４
２には、温水４５が満たされている。

【００３６】上記構成において、マスタスタンパ１は、
第１洗浄槽２１の界面活性剤２６に浸漬されると、界面
活性剤２６と超音波発生装置２７から発振された超音波
との作用により、マスタスタンパ１の表面に残留してい
た界面活性剤２６等が洗浄される。第１洗浄槽２１での
洗浄工程終了後、マスタスタンパ１は、第２洗浄槽２２
の純水２８に浸漬され、純水２８と超音波発生装置２９
から発振された超音波との作用により洗浄される。

【００３７】第２洗浄槽２２での洗浄工程終了後、マス
タスタンパ１は、第３洗浄槽４１の純水４３に浸漬さ
れ、純水４３と超音波発生装置４４から発振された超音
波との作用により洗浄される。尚、第３洗浄槽４１は、
第２洗浄槽２２にてマスタスタンパ１の表面に残留して
いた界面活性剤２６等が完全に除去され、マスタスタン
パ１が清浄な状態であるならば、必ずしも必要でない。

【００３８】第３洗浄槽４１での洗浄工程終了後、マス
タスタンパ１を温水槽４２の７０℃以上に保たれている
温水４５に所定時間浸漬すると、温水４５の熱と温水４
５に含有している酸素との作用により、マスタスタンパ
１の表面が酸化されて酸化膜２が形成される。そして、
酸化膜２が形成された後、マスタスタンパ１は、０．５
〜５mm/secの速度で温水４５から引き上げられながら表
面に残留している水分の乾燥を行う。引き上げ速度は、
マスタスタンパ１を温水４５からゆっくり引き上げるこ
とにより上記表面から水分が除去され、温水４５によっ
て加熱された上記表面から水分が乾燥するように決めら
れている。つまり、引き上げ速度が５mm/secを超える場
合では、上記表面に残留している水分が完全には乾燥せ
ず水滴が残ってしまい、この水滴に汚れ等が凝縮してし
まう。このため、乾燥工程が終了したマスタスタンパ１
の表面には汚れ等が残ってしまい好ましくない。一方、
引き上げ速度が０．５mm/sec未満の場合では上記水滴が
発生しないので、乾燥工程が終了したマスタスタンパ１
の表面は清浄であるが、乾燥時間が長くなってしまい好
ましくない。

【００３９】次に、面１ａに酸化膜２が形成されたマス
タスタンパ１には、酸化膜２上に導電性保護膜としての
ニッケル薄膜３が形成される（図１（ｃ））。このニッ
ケル薄膜３は、電鋳膜４を形成するために使用する電鋳
液が酸化膜２を、即ち上述した突起１ｂを腐食溶解しな
いようにするためのものであり、マスタスタンパ１の表
面を腐食しない方法、例えばスパッタリング法またはア
ルカリ性無電解メッキ法により形成される。そして、こ
れら２つの方法の重要な点は、ニッケル薄膜３の主剤で
あるニッケルを腐食しないことである。

【００４０】先ず、本実施の形態において利用したスパ
ッタリング法について説明する。このスパッタリング法
は、ターゲットをニッケルとし、真空度を０．３〜３Ｐ
ａになるようにアルゴンガスを流しながら交流電源また
は高周波電源により電圧を印加して行う。これにより、
酸化膜２上には、ニッケル原子が積層されて、腐食等の
悪影響が存在しないニッケル薄膜３が形成される。ま
た、上記スパッタリング法では、ニッケル薄膜３の膜厚
が１００〜１０００Åになるように設定されている。上
記数値の設定理由は、１００Å未満であるならば電鋳膜
４の形成時に電流が流れにくくなり電鋳層４が形成でき
なくなるとともに、ニッケル薄膜３が発熱により焼けて
しまう一方、１０００Åを超えるとニッケル薄膜３の内
部応力（主に引張応力）が増大し、上記電鋳液に浸漬す
るとニッケル薄膜３が剥離する虞があるからである。

【００４１】次に、アルカリ性無電解メッキ法について
説明する。アルカリ性無電解メッキ法において使用する
メッキ液は、アルカリ性の無電解メッキ液であればよ
く、表１に本実施の形態において使用したメッキ液の組
成例を示すが、これに限定されるものではない。

【００４２】

【表１】

【００４３】尚、含有量の単位は、メッキ液１リットル
当たりの各組成物の重量を表す。また、上記メッキ液
は、メッキを行うのに最適な温度である７０℃に設定さ
れ、かつそのｐＨは９．０に調整されている。

【００４４】このメッキ液に上記マスタスタンパ１を浸
漬し、このマスタスタンパ１に対して、上述したアルカ
リ性無電解メッキ法を行い、酸化膜２上に形成されるニ
ッケル薄膜３の膜厚が１００Å〜１０μｍになれば、マ
スタスタンパ１をメッキ液から引き上げる。上記数値の
設定理由は、１００Å未満の場合、スパッタリング法と
同様である一方、無電解メッキ法では上記内部応力が小
さいためニッケル薄膜３の膜厚を厚くすることが可能で
あるが、１０μｍを超えると作業時間が増加するので好
ましくないからである。尚、上記内部応力は、メッキ液
の組成によって異なる。

【００４５】メッキ液から引き上げられたマスタスタン
パ１は、純水により十分な洗浄が行われた後、乾燥が行
われる。これにより、酸化膜２上には、腐食等の悪影響
が存在しないニッケル薄膜３が形成される。

【００４６】そして、面１ａ上に酸化膜２とニッケル薄
膜３とがこの順で形成されたマスタスタンパ１は、図示
しない電鋳装置に取り付けられて、電鋳処理が行われ、
ニッケル薄膜３上に、所定の厚みを有した電鋳層４が形
成される（図１（ｄ））。尚、電鋳層４の材料は、ニッ
ケル薄膜３と同一であってもなくてもよい。

【００４７】電鋳処理終了後、酸化膜２とニッケル薄膜
３との接合部に薄板等を差し込み、隙間を作り、この隙
間を広げていくと酸化膜２を有しているマスタスタンパ
１と、ニッケル薄膜３を有している電鋳層４とに分離す
ることができる（図１（ｅ））。そして、上記電鋳層４
を洗浄すると、上述した突起１ｂの形成位置に対応した
複数のピット５ｂを有するマザースタンパ５が作製され
る（図１（ｆ））。

【００４８】次に、このマザースタンパ５からワークス
タンパ９を作製する。この方法は、図１（ｇ）ないし同
図（ｊ）に示す通りである。即ち、マスタスタンパ１か
らマザースタンパ５を複製したのと同様に、上記ピット
５ｂが形成されている面５ａ上に酸化膜６を形成する
（図１（ｇ））。この酸化膜６は、上述したオーブンに
よりマザースタンパ５を加熱して形成されるか、または
上述した温水洗浄装置２０または温水洗浄装置４０を使
用して形成される。

【００４９】続いて、この酸化膜６上に上述したスパッ
タリング法またはアルカリ性無電解メッキ法によりニッ
ケル薄膜７を形成し（図１（ｈ））、このニッケル薄膜
７上に電鋳処理により電鋳層８を形成する（図１
（ｉ））。そして、酸化膜６を有しているマザースタン
パ５と、ニッケル薄膜７を有している電鋳層８とに分離
し、上記電鋳層８を洗浄するとマスタスタンパ１と同じ
部分に突起９ａを有するワークスタンパ９が作製され
（図１（ｊ））、このワークスタンパ９を型として光デ
ィスクが作製される。

【００５０】以上のように、マスタスタンパ１からマザ
ースタンパ５を、またはマザースタンパ５からワークス
タンパ９を複製する場合、マスタスタンパ１またはマザ
ースタンパ５を上述したオーブンにおいて加熱する方
法、もしくは上述した温水洗浄装置２０または温水洗浄
装置４０を使用すれば、面１ａまたは面５ａ上に酸化膜
２・６を形成することができる。また、上述したスパッ
タリング法またはアルカリ性無電解メッキ法によって、
上記酸化膜２・６上には、腐食等の悪影響が存在しない
ニッケル薄膜３・７が形成される。

【００５１】この結果、マスタスタンパ１からマザース
タンパ５を、またはマザースタンパ５からワークスタン
パ９を複製する場合、マザースタンパ５およびマザース
タンパ９のコストダウンが図れるとともに、複製を繰り
返しても、マスタスタンパ１の突起１ｂおよびマザース
タンパ５のピット５ｂには、電鋳液による変形が発生し
ない。

【００５２】また、従来の方法、例えば、重クロム酸カ
リウム溶液にマスタスタンパ１またはマザースタンパ５
を浸漬する方法、酸素プラズマアッシング処理法、また
はアルカリ溶液中での陽極酸化法によって形成された酸
化膜２・６であっても、この酸化膜２・６上に、上述し
たスパッタリング法またはアルカリ性無電解メッキ法に
よりニッケル薄膜３・７を形成すれば、電鋳液により上
記酸化膜２・６が腐食溶解されることはない。

【００５３】この結果、上記従来の方法を用いて酸化膜
２・６を形成し、マザースタンパ５およびワークスタン
パ９の複製を繰り返しても、マスタスタンパ１の突起１
ｂおよびマザースタンパ５のピット５ｂには、電鋳液に
よる変形が発生しない。

【００５４】

【発明の効果】以上のように、請求項１の発明の光ディ
スク用スタンパの製造方法は、微細な凹凸を表面に形成
した親スタンパに電鋳処理を行うことによって、上記微
細な凹凸を有した子スタンパを複製する光ディスク用ス
タンパの製造方法において、上記親スタンパに電鋳処理
を行う前に、上記親スタンパの表面を酸化した酸化膜を
形成した後、この酸化膜上に上記電鋳処理による上記微
細な凹凸の腐食溶解を防止するための導電性保護膜を形
成することを特徴としている。

【００５５】これにより、導電性保護膜により上記電鋳
液による上記微細な凹凸の腐食浸食の防止ができるの
で、上記微細な凹凸を親スタンパから子スタンパに複製
する工程を繰り返しても、上記微細な凹凸は上記電鋳液
により変形されることがなく、同一の特性を有した子ス
タンパを作製することができるという効果を奏する。ま
た、酸化膜により、親スタンパから導電性保護膜を有し
た子スタンパを剥離することが容易に行えるという効果
も併せて奏する。

【００５６】請求項２の発明の光ディスク用スタンパの
製造方法は、請求項１に記載の光ディスク用スタンパの
製造方法において、上記酸化膜は、少なくとも酸素を含
む雰囲気中において上記親スタンパを加熱することによ
り形成されていることを特徴としている。

【００５７】これにより、酸化膜は、親スタンパを少な
くとも酸素を含んでいる雰囲気中において加熱するだけ
で形成されるので、スタンパのコストダウンを図ること
ができるという効果を奏する。

【００５８】請求項３の発明の光ディスク用スタンパの
製造方法は、請求項１に記載の光ディスク用スタンパの
製造方法において、上記酸化膜は、上記親スタンパを温
水中に浸漬することにより形成されていることを特徴と
している。

【００５９】これにより、温水に親スタンパを浸漬する
だけで、温水の熱と温水中の酸素との作用により酸化膜
が形成されるので、スタンパのコストダウンを図ること
ができるという効果を奏する。また、親スタンパを温水
中に浸漬しているので、酸化膜の形成が促進されるとと
もに、親スタンパの洗浄も同時に行うことができるの
で、請求項２の製造方法よりもスタンパの作製時間を短
縮することができるという効果を併せて奏する。

【００６０】請求項４の発明の光ディスク用スタンパの
製造方法は、請求項１に記載の光ディスク用スタンパの
製造方法において、上記導電性保護膜はニッケル薄膜で
あり、このニッケル薄膜は上記親スタンパの表面を腐食
しない方法により形成されていることを特徴としてい
る。

【００６１】これにより、子スタンパには、より正確に
親スタンパの微細な凹凸が複製され、この子スタンパを
用いて作製された光ディスクは、より正確な情報を再生
することができるという効果を奏する。また、親スタン
パの表面を腐食しない方法としてスパッタリング法やア
ルカリ性無電解メッキ法を使用した場合、これら２つの
方法はニッケル薄膜の主剤であるニッケルを腐食しない
ので、ニッケル薄膜には腐食等が存在しなくなるという
効果も併せて奏する。また、請求項５の光ディスクの製
造方法は、請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の製
造方法により作製された子スタンパを用いて、光ディス
クを作製することを特徴としている。この光ディスクに
よれば、より正確な情報を再生することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】同図（ａ）ないし同図（ｊ）は、本発明におけ
る光ディスク用スタンパの製造方法の概略を示す説明図
である。

【図２】親スタンパの表面に酸化膜を形成するための装
置の概略構成を示す模式図である。

【図３】親スタンパの表面に酸化膜を形成するための他
の装置の概略構成を示す模式図である。

【図４】同図（ａ）ないし同図（ｇ）は、従来における
マスタスタンパの製造方法の概略を示す説明図である。

【図５】同図（ａ）ないし同図（ｃ）は、従来における
マザースタンパの複製方法の概略を示す説明図である。

【図６】同図（ａ）ないし同図（ｃ）は、従来における
ワークスタンパの複製方法の概略を示す説明図である。

【符号の説明】

１ マスタスタンパ（親スタンパ） ２ 酸化膜 ３ ニッケル薄膜 ４ 電鋳層 ５ マザースタンパ（親スタンパ、子スタンパ） ６ 酸化膜 ７ ニッケル薄膜 ８ 電鋳層 ９ ワークスタンパ（子スタンパ）

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−320973（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−259936（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−105986（ＪＰ，Ａ) 特公 平１−18996（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C25D 1/00 - 1/22 G11B 7/26

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】微細な凹凸を表面に形成した親スタンパに
   電鋳処理を行うことによって、上記微細な凹凸を有した
   子スタンパを複製する光ディスク用スタンパの製造方法
   において、 上記親スタンパに電鋳処理を行う前に、上記親スタンパ
   の表面を酸化した酸化膜を形成した後、この酸化膜上に
   上記電鋳処理による上記微細な凹凸の腐食溶解を防止す
   るための導電性保護膜を形成することを特徴とする光デ
   ィスク用スタンパの製造方法。
2. 【請求項２】上記酸化膜は、少なくとも酸素を含む雰囲
   気中において上記親スタンパを加熱することにより形成
   されていることを特徴とする請求項１に記載の光ディス
   ク用スタンパの製造方法。
3. 【請求項３】上記酸化膜は、上記親スタンパを温水中に
   浸漬することにより形成されていることを特徴とする請
   求項１に記載の光ディスク用スタンパの製造方法。
4. 【請求項４】上記導電性保護膜はニッケル薄膜であり、
   このニッケル薄膜は上記親スタンパの表面を腐食しない
   方法により形成されていることを特徴とする請求項１に
   記載の光ディスク用スタンパの製造方法。
5. 【請求項５】請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の
   製造方法により作製された子スタンパを用いて、光ディ
   スクを作製することを特徴とする光ディスクの製造方
   法。