JPH02237681A - 光ディスク原盤の現像方法 - Google Patents
光ディスク原盤の現像方法Info
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- JPH02237681A JPH02237681A JP5505889A JP5505889A JPH02237681A JP H02237681 A JPH02237681 A JP H02237681A JP 5505889 A JP5505889 A JP 5505889A JP 5505889 A JP5505889 A JP 5505889A JP H02237681 A JPH02237681 A JP H02237681A
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- JP
- Japan
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- substrate
- washing
- center hole
- washing water
- center
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- Pending
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
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- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 7
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はフォトレジストを用いて微細パターンを形成す
るための光ディスク原盤の現像方法に関する。
るための光ディスク原盤の現像方法に関する。
従来、光ディスク原盤は表面研磨されたガラス基板上に
、フォトレジストを塗布した後レーザー光等によって露
光され、現像、洗浄等することによフて得られる。この
露光済み光ディスク原盤の現像方法は、第３図に示すよ
うな現像装置を用いて、露光されたディスク原盤の基板
１を真空チャック等によりターンテーブル２に固定し、
回転させながら現像液、水洗水を基板上部に設けたノズ
ル９より排出して現像、水洗を行なっていた。
、フォトレジストを塗布した後レーザー光等によって露
光され、現像、洗浄等することによフて得られる。この
露光済み光ディスク原盤の現像方法は、第３図に示すよ
うな現像装置を用いて、露光されたディスク原盤の基板
１を真空チャック等によりターンテーブル２に固定し、
回転させながら現像液、水洗水を基板上部に設けたノズ
ル９より排出して現像、水洗を行なっていた。
しかしながら、上記従来例では光ディスク用原盤の様に
基板中心に穴を有する場合、その穴に現像液が入り込み
、水洗をかなり行なっても完全には除去されず、また第
４図の様にターンテーブルの中心に水抜き用の排出口を
設け、現像液、水洗水共に流れる様にしたが、これによ
っても完全に中心六の部分を水洗できていないため、乾
燥時にシミが発生することがあった。
基板中心に穴を有する場合、その穴に現像液が入り込み
、水洗をかなり行なっても完全には除去されず、また第
４図の様にターンテーブルの中心に水抜き用の排出口を
設け、現像液、水洗水共に流れる様にしたが、これによ
っても完全に中心六の部分を水洗できていないため、乾
燥時にシミが発生することがあった。
（課題を解決するための手段）
本発明によれば、露光されたフォトレジスト層を有する
光ディスク原盤を回転させながら現像、水洗、乾燥を行
なう現像処理工程において、水洗水をターンテーブル中
心に設けられた給水口より供給することによって、基板
の中心穴の水洗不足を解消することが可能となった。し
かも、基板中心穴より供給された水洗水は、基板が回転
しているため基板表面に十分に行き渡り、水洗が完全に
行なわれる。
光ディスク原盤を回転させながら現像、水洗、乾燥を行
なう現像処理工程において、水洗水をターンテーブル中
心に設けられた給水口より供給することによって、基板
の中心穴の水洗不足を解消することが可能となった。し
かも、基板中心穴より供給された水洗水は、基板が回転
しているため基板表面に十分に行き渡り、水洗が完全に
行なわれる。
以下、図面により本発明を詳細に説明する。
第１図は本発明の現像方法に好適に用いられる装置の概
略図であり、図中１は基板、２はターンテーブル、３は
現像チャンバー、４は基板中心穴、５は水洗水が通るタ
ーンテーブル中心穴、６は給水口を表わす。現像液によ
り基板１を処理した後、水洗水が給水口６を通してター
ンテーブル中心穴５より流れ出し、ターンテーブルを回
転させながら基板ｌ上の現像液を洗い流す。この際、基
板中心穴４付近に回り込んだ現像液も完全に水洗される
。
略図であり、図中１は基板、２はターンテーブル、３は
現像チャンバー、４は基板中心穴、５は水洗水が通るタ
ーンテーブル中心穴、６は給水口を表わす。現像液によ
り基板１を処理した後、水洗水が給水口６を通してター
ンテーブル中心穴５より流れ出し、ターンテーブルを回
転させながら基板ｌ上の現像液を洗い流す。この際、基
板中心穴４付近に回り込んだ現像液も完全に水洗される
。
第２図は基本的には第１図と同じであるが、水洗が終了
した時に水洗水が基板中心穴４の上端まで達している場
合、乾燥時に飛散してシミの原因となり易いため、ター
ンテーブル中心穴５の途中に排水口７と水洗中に水洗水
が排水されない様に弁８を設けたものである。この弁８
は支点１０を中心に動き、通常は自重により給水口６を
閉じているが、水洗中は水洗水圧によって弁８が跳ね上
げられて排水口７を閉じ、現像及び乾燥時には排水口７
を開くものであり、これにより水洗時以外は基板中心穴
に現像液や水洗水が残ることがなく、乾燥後のシミを防
止することが可能となった。
した時に水洗水が基板中心穴４の上端まで達している場
合、乾燥時に飛散してシミの原因となり易いため、ター
ンテーブル中心穴５の途中に排水口７と水洗中に水洗水
が排水されない様に弁８を設けたものである。この弁８
は支点１０を中心に動き、通常は自重により給水口６を
閉じているが、水洗中は水洗水圧によって弁８が跳ね上
げられて排水口７を閉じ、現像及び乾燥時には排水口７
を開くものであり、これにより水洗時以外は基板中心穴
に現像液や水洗水が残ることがなく、乾燥後のシミを防
止することが可能となった。
（実施例）
以下、実施例により本発明を説明する。
夾Δ■ユ
露光済みの光ディスク原盤を、第１図に示した装置のタ
ーンテーブル中央に置き、ターンテーブルを７ ５ ｒ
ｎｐの速度で回転させながら現像液を上部のノズルより
噴霧し塗布した。その後、ターンテーブル中心穴より洗
浄水を３１／分で給水し、原盤の洗浄を同様の回転速度
で１０分間行なった。洗浄終了後、乾燥エアーによりブ
ロー乾燥を施こしたが、光ディスク原盤の上にはシミの
発生は見られなかった。
ーンテーブル中央に置き、ターンテーブルを７ ５ ｒ
ｎｐの速度で回転させながら現像液を上部のノズルより
噴霧し塗布した。その後、ターンテーブル中心穴より洗
浄水を３１／分で給水し、原盤の洗浄を同様の回転速度
で１０分間行なった。洗浄終了後、乾燥エアーによりブ
ロー乾燥を施こしたが、光ディスク原盤の上にはシミの
発生は見られなかった。
夾Ａ■ス
装置を第２図に示した装置に変更して実施例１同様に現
像、洗浄を行なった後、給水を止め、乾燥を施こした。
像、洗浄を行なった後、給水を止め、乾燥を施こした。
基板中心穴付近についても現像液や水洗水の残留が抑制
され、非常に清浄な表面をもつ光ディスク原盤が得られ
た。
され、非常に清浄な表面をもつ光ディスク原盤が得られ
た。
以上、説明したように、基板の中心から水洗水を流しな
がら洗浄することによって、基板中心穴の部分に現像液
が溜ることなく、シミの発生を防止することができる。
がら洗浄することによって、基板中心穴の部分に現像液
が溜ることなく、シミの発生を防止することができる。
更に水洗水が基板上に拭き付けられていないため、その
はねかえりが現像チャンバーや乾燥エアーノズルを汚染
することも無くなり、より欠陥の少ない原盤を作ること
が可能となった。
はねかえりが現像チャンバーや乾燥エアーノズルを汚染
することも無くなり、より欠陥の少ない原盤を作ること
が可能となった。
第１図は本発明の一実施例に示された現像装置の概略図
、第２図は他の実施例に示された現像装置の概略図、第
３図及び第４図は従来の現像装置の概略図をそれぞれ示
す。 １：基 板 ２：ターンテーブル３：現像チャ
ンバー ４＝基板中心穴 ５：ターンテーブル中心穴 ６：給 水 口 ７：排 水 口 ８：弁 ９：ノズル １０：支 点
、第２図は他の実施例に示された現像装置の概略図、第
３図及び第４図は従来の現像装置の概略図をそれぞれ示
す。 １：基 板 ２：ターンテーブル３：現像チャ
ンバー ４＝基板中心穴 ５：ターンテーブル中心穴 ６：給 水 口 ７：排 水 口 ８：弁 ９：ノズル １０：支 点
Claims (1)
- 露光されたフォトレジスト層を有する光ディスク原盤
を回転させながら現像、水洗、乾燥を行なう現像処理工
程において、水洗水をターンテーブル中心に設けられた
給水口より供給することを特徴とする光ディスク原盤の
現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5505889A JPH02237681A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 光ディスク原盤の現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5505889A JPH02237681A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 光ディスク原盤の現像方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02237681A true JPH02237681A (ja) | 1990-09-20 |
Family
ID=12988079
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5505889A Pending JPH02237681A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 光ディスク原盤の現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02237681A (ja) |
-
1989
- 1989-03-09 JP JP5505889A patent/JPH02237681A/ja active Pending
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