JP2525255B2 - 光ディスク原盤の現像処理方法 - Google Patents
光ディスク原盤の現像処理方法Info
- Publication number
- JP2525255B2 JP2525255B2 JP27046589A JP27046589A JP2525255B2 JP 2525255 B2 JP2525255 B2 JP 2525255B2 JP 27046589 A JP27046589 A JP 27046589A JP 27046589 A JP27046589 A JP 27046589A JP 2525255 B2 JP2525255 B2 JP 2525255B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- master
- developing
- optical disc
- development method
- sodium phosphate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は現像方法に係わり、特に光ディスク原盤の現
像処理方法に関する。
像処理方法に関する。
コンパクトディスク，ビデオディスクや光記録ディス
ク等の光ディスクの原盤は次のような工程で作られる。
即ち、光学研磨されたガラス原盤に感光剤を塗布、カッ
ティングマシンを使ってレーザ光線で信号を記録露光す
る。次に現像処理を行って信号ピット形成してガラスマ
スター原盤が作られる。
ク等の光ディスクの原盤は次のような工程で作られる。
即ち、光学研磨されたガラス原盤に感光剤を塗布、カッ
ティングマシンを使ってレーザ光線で信号を記録露光す
る。次に現像処理を行って信号ピット形成してガラスマ
スター原盤が作られる。
現像処理の方法は、原盤を回転台に固定し、ゆっくり
回転させながら先ず純水で盤面を洗浄し、次に所定濃度
の現像液を滴下し、所定時間又は、所定ピット形状にな
った所で現像液の滴下を止める。そして再び純水で洗浄
した後、回転数を上げて遠心力により盤面の水分を振り
切り乾燥させて現像処理を終了する。
回転させながら先ず純水で盤面を洗浄し、次に所定濃度
の現像液を滴下し、所定時間又は、所定ピット形状にな
った所で現像液の滴下を止める。そして再び純水で洗浄
した後、回転数を上げて遠心力により盤面の水分を振り
切り乾燥させて現像処理を終了する。
しかしながら、原盤の感光剤塗布面はカッティングや
原盤取扱い中に微小異物の付着や汚れが付き易く、現像
初期の純水の洗浄では殆ど除去することはできない。そ
のため現像の段階で、微小異物の付着や汚れ等が現像液
の感光剤塗布面への浸透を妨げ、その部分の現像の進行
が正常な部分と異なってしまう。その結果、第２図
（ａ）（ｂ）に示すように、微小異物の付着や汚れの付
いた部分10の信号ピット11が小さくなってしまい信号の
欠落となり、また外観上のシミやムラが発生する欠点が
あった。
原盤取扱い中に微小異物の付着や汚れが付き易く、現像
初期の純水の洗浄では殆ど除去することはできない。そ
のため現像の段階で、微小異物の付着や汚れ等が現像液
の感光剤塗布面への浸透を妨げ、その部分の現像の進行
が正常な部分と異なってしまう。その結果、第２図
（ａ）（ｂ）に示すように、微小異物の付着や汚れの付
いた部分10の信号ピット11が小さくなってしまい信号の
欠落となり、また外観上のシミやムラが発生する欠点が
あった。
そのため本発明では回転台上に着脱自在に固定して回
転する被現像物に、現像液及び洗浄液の液流を注いで現
像処理を行う現像処理方法において、燐酸ソーダ単独、
又は、燐酸ソーダと硅酸ソーダを混合した溶液で前記被
現像物の表面を湿潤させた後、前記現像処理を行うこと
を特徴としたものである。
転する被現像物に、現像液及び洗浄液の液流を注いで現
像処理を行う現像処理方法において、燐酸ソーダ単独、
又は、燐酸ソーダと硅酸ソーダを混合した溶液で前記被
現像物の表面を湿潤させた後、前記現像処理を行うこと
を特徴としたものである。
したがって、燐酸ソーダや硅酸ソーダの洗浄効果によ
り原盤に付着した異物や汚れが除去され、原盤の感光剤
塗布面全体に現像液が浸透し、全面を同時に現像するこ
とができる。
り原盤に付着した異物や汚れが除去され、原盤の感光剤
塗布面全体に現像液が浸透し、全面を同時に現像するこ
とができる。
以下本発明の一実施例を第１図に基づき説明する。
第１図はビデオ・ディスクの原盤の現像装置を示す概
略構成図である。
略構成図である。
図において、カッティングを行って露光記録された原
盤１を回転台２に固定し、モータ３により回転数100rpm
で回転させる。そして回転している原盤１の外周部から
中心部に向かって前処理液である燐酸ソーダ単独、又は
燐酸ソーダと硅酸ソーダを混合した溶液をアーム４の先
端のノズル５より300ml/minの流量で30秒間流下させた
後、現像液AZデベロッパ（ヘキストジャパン製）をアー
ム7,ノズル８から300ml/minの流量で60秒間流下させ
る。次にアーム4,ノズル６から純水を300ml/minの流量
で90秒間盤面を水洗した後、回転数を1000rpmに上げて
盤面の水を振り切り乾燥する。この実施例で使用した前
処理液は、Na4Ｐ2Ｏ7を1g/lの割合で純水に溶解したも
のと、Na2Si2Ｏ5を1g/lの割合で純水に溶解したものと
を混合して用いた。しかしながら前処理液はこれに限定
されることなく、燐酸ソーダとしてはNa3PO4が、硅酸ソ
ーダとしてはNa2Si4Ｏ9が、それぞれ単独、又は混合し
て使用することができる。そして濃度は1g/lから20g/l
の範囲が適当である。
盤１を回転台２に固定し、モータ３により回転数100rpm
で回転させる。そして回転している原盤１の外周部から
中心部に向かって前処理液である燐酸ソーダ単独、又は
燐酸ソーダと硅酸ソーダを混合した溶液をアーム４の先
端のノズル５より300ml/minの流量で30秒間流下させた
後、現像液AZデベロッパ（ヘキストジャパン製）をアー
ム7,ノズル８から300ml/minの流量で60秒間流下させ
る。次にアーム4,ノズル６から純水を300ml/minの流量
で90秒間盤面を水洗した後、回転数を1000rpmに上げて
盤面の水を振り切り乾燥する。この実施例で使用した前
処理液は、Na4Ｐ2Ｏ7を1g/lの割合で純水に溶解したも
のと、Na2Si2Ｏ5を1g/lの割合で純水に溶解したものと
を混合して用いた。しかしながら前処理液はこれに限定
されることなく、燐酸ソーダとしてはNa3PO4が、硅酸ソ
ーダとしてはNa2Si4Ｏ9が、それぞれ単独、又は混合し
て使用することができる。そして濃度は1g/lから20g/l
の範囲が適当である。
このように本発明の現像処理方法を用うればカッティ
ング中又はその他の工程での感光剤表面への微小異物の
付着や汚れが不注意に付けられても欠陥のない光ディス
ク原盤の現像処理を行うことができる。
ング中又はその他の工程での感光剤表面への微小異物の
付着や汚れが不注意に付けられても欠陥のない光ディス
ク原盤の現像処理を行うことができる。
第１図は本発明の実施例を説明するための概略構成図、
第２図（ａ），（ｂ）は欠陥部を説明するための模型図
である。 １……原盤 5,6,8……ノズル 4,7……アーム 10……汚れ部分 11……信号ピット
第２図（ａ），（ｂ）は欠陥部を説明するための模型図
である。 １……原盤 5,6,8……ノズル 4,7……アーム 10……汚れ部分 11……信号ピット
Claims (1)
- 【請求項１】回転台上に着脱自在に固定して回転する被
現像物に、現像液及び洗浄液の液流を注いで現像処理を
行う現像処理方法において、燐酸ソーダ単独、又は、燐
酸ソーダと硅酸ソーダを混合した溶液で前記被現像物の
表面を湿潤させた後、前記現像処理を行うことを特徴と
する光ディスク原盤の現像処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27046589A JP2525255B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 光ディスク原盤の現像処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27046589A JP2525255B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 光ディスク原盤の現像処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03132939A JPH03132939A (ja) | 1991-06-06 |
| JP2525255B2 true JP2525255B2 (ja) | 1996-08-14 |
Family
ID=17486681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27046589A Expired - Lifetime JP2525255B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 光ディスク原盤の現像処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2525255B2 (ja) |
-
1989
- 1989-10-19 JP JP27046589A patent/JP2525255B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03132939A (ja) | 1991-06-06 |
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