JPS5992059A - 円盤状体への被膜形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は円盤状体の表面に被膜を形成する表面被膜の形
成方法に関するもので、円盤状記録媒体（ディスク）の
表面を保護する保護膜の形成工程等に利用し得るもので
ある。

従来例の構成とその問題点 従来より円盤状の透明基板の一方の面に記録媒体層を設
けたり、所定の情報信号を凹凸ビットとして記録したも
のを、前記記録媒体層の設けられた面が互に対向するよ
う２枚張合せて、ディスクを形成し、その基板表面より
光ビームを照射して情報の記録再生を行う装置が開発さ
れている。

これらのディスクにおける透明基板としては一経済性お
よび安全性の観点よりキャストアクリルやポリカーボネ
イト等の樹脂材料を使用しているため、使用時に露出さ
れた外表面に傷が付きやすい問題がある。このだめ、こ
の露出表面により硬度の高い被膜を形成して、保護する
ことが考えられている。

この保護被膜の形成方法としては、従来第１図に示すよ
うに、コーテイング液１の入れられたディップ槽２に、
中心孔６が回転軸３に固定されだディスク４をその中心
孔６の近傍まで浸した状態で低速回転せしめ、第２図に
示すように中心孔６の近傍ヲ、〈所定の部分に保蝕被膜
６を形成していた。

しかし、この方法であると多数のディスクに順次被膜を
形成する場合、ディスクの表面に付着していた異物等が
コーテイング液１中に混入し、この異物がディスク表面
に再度付着し、記録再生特性を損う問題がある。

このためにディップ槽２内のコーテイング液を循環させ
ながらフィルタにより濾過することが行なわれているが
、次々にディスクが挿入される場合ディップ槽２内のコ
ーテイング液を常に清浄に保つことは困難であった。

発明の目的 本発明は上述の問題点を解決し、常に清浄なコーテイン
グ液のみがディスク表面に塗布されるよう構成したもの
である。

発明の構成 本発明は、濾過されたコーテイング液を、大地に対して
略垂直な面で中心孔を中心に回転駆動されるディスクの
前記中心孔の下方に掛は流すことにより、異物の付差の
少ない保護被膜をディスク表面に形成せんとするもので
ある。

実施例の説明 第３図および第４図は、本発明の被膜形成方法の一実施
例における要部装置の正面図および側面図である。

第３図および第４図において−ディスク４は従来例と同
様に、その中心孔６が回転軸３に固定され、大地に垂直
な面において矢印方向に回転駆動されている。

７．８はコーテイング液の射出ノズルであり、前記ディ
スク４の中心孔６の下方において、両側よりそれぞれコ
ーテイング液１をディスク４に掛は流している。

９は前記ディスク４の下方に設けられたコーテイング液
１の回収槽であり、この回収槽９内のコーテイング液１
とディスク４とは接触しないよう構成されている。

この回収槽９内のコーテイング液は、ポンプ１ｏとフィ
ルタ１１を含む循環経路を介して前記ノズル７．８に導
かれている。

以上の構成において、ディスク４に掛は流されたコーテ
イング液は、ディスク４をつたわって回収槽９に落下し
、ディスク４の回転にともなってディスクの外周部に塗
布される。

この時、ディスクの回転速度は、塗布直後のコーテイン
グ液がディスクの半回転後回転軸３の真上に米た時にコ
ーテイング液が回転軸３へ落下しない速度に設定すると
良い。

例えば−直径２０ＣｒＩＬのディスクに一粘度４ｃｐの
コーテイング液を塗布する場合には３０〜６゜ｒ、ｐ、
ｍ　　程度の回転速度が良く、また、この塗布時のディ
スクの回転回数は３〜４回程度が良い。

回収槽９に回収されたコーテイング液は、フィルタ１１
により清浄化され、ディスク４には常に清浄なコーテイ
ング液が掛けられるものである。

前記過程により塗布されたコーテイング液層は必ずしも
均一ではないので、前記塗布時の回転速度の２倍以内の
回転速度で３０秒間程度以上回転せしめ、コーテイング
液の表面張力により略々均一化した後に、２分間程度１
８０ｏｒ、ｐ０ｍ　　程度の高速回転せしめて均一化す
る。

なお一実施例ではディスクの一方の面に１つのノズルを
設けた場合を示したが、複数のノズルを設けても良いも
のである。

発明の効果 以上のように、本発明によれば、コーテイング液は常に
清浄な状態でディスクに掛は流されるため、異物の付着
の少ない被膜を形成できるものであり、筐たこのコーテ
イング液は掛は流されるため、ディスクに付着した異物
を洗い落す効果も有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の被膜形成装置の要部を示す一部切欠正面
図、第２図は保護被膜の形成されたディスクの平面図、
第３図は本発明の被膜形成方法に使用される装置の一実
施例を示す一部切欠正面図。 第４図は同側断面図である。 １・・・・・コーテイング液、３・川・・回転軸、４・
川・・ディスク、７，８・・・・・・ノズル、９・・・
・・回収槽、１Ｑ・・・・・・ポンプ、１１・・団・フ
ィルタ。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　はが１名第１
図 第２図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）被膜を形成すべき円盤状体を大地に対して垂直な
   面で回転駆動せしめつつ；コーテイング液を前記円盤状
   体の回転中心の下方において掛は流して、前記コーテイ
   ング液を前記円盤状体の表面に塗布した後に乾燥せしめ
   ることを特徴とペン する円盤状体の被膜形成方法。
2. （２）　　コーテイング液の塗布後における乾燥時に、
   コーテイング液の塗布された円盤状体を前記塗布時の回
   転速度の２倍以内の回転速度で回転駆動する工程と、そ
   の後において高速回転駆動せしめる工程とを含むことを
   特徴とする特許請求の範囲第１頂に記載の円盤状体への
   被膜形成方法。