JPS5843267A - 円盤の塗装方法 - Google Patents

円盤の塗装方法

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JPS5843267A
JPS5843267A JP56142062A JP14206281A JPS5843267A JP S5843267 A JPS5843267 A JP S5843267A JP 56142062 A JP56142062 A JP 56142062A JP 14206281 A JP14206281 A JP 14206281A JP S5843267 A JPS5843267 A JP S5843267A
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JP
Japan
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disc
disk
coating liquid
coating
rotating
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JP56142062A
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JPS6130634B2 (ja
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Takao Inoue
孝夫 井上
Yukio Maeda
幸男 前田
Masami Uchida
内田　正美
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/002—Processes for applying liquids or other fluent materials the substrate being rotated
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
    • B05D3/065—After-treatment
    • B05D3/067—Curing or cross-linking the coating

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学式の記録、再生円盤の製造方法に関し、特
に円盤外周に硬質被膜を形成させる方法に関するもので
ある。
即ち本発明の目的は、１そりの少い円盤を提供すること
、２均質の硬質被膜を有する円盤を提供することである
。
従来、光学式記録円盤は、円形のプラスチック板に、光
学的に記録、再生可能な記録層を形成させる工程を経て
、その後必要に１芯じて他のプラスチック板を重ね合せ
、前記記録層を保護するのが一般的であった。この従来
の問題点は記録層の保護に用いたプラスチック板も、砂
ぼこりや製造時の異物との接触により、その表面にキズ
が付くことであった。これは、レーザ光を用いる光学式
記録、再生円盤でも問題となってきている。すなわち、
これが記録、再生信号にノイズとして現われるという問
題であった。これに対し本発明者らは従来の方法で製造
した光学式記録円盤に、特願昭５４−９８９４２号明細
書、特願昭５５−３９７３５号明細書のコーティング組
成物を塗装、硬化させ、透明硬質被膜を形成させること
によって顕著なキズ付き防止効果が現われることを見い
だした。し　−かしながら、ムラのない被膜を形成する
のがむずかしぐ、従来の水平スピンナ一方式から得られ
る片面コーティング円盤では、そりが生じてしまうとい
う新たな問題を生じさせたさらに、スピンナー後、−担
イ亭止し紫外線硬化を行うと、円板端面と中心に膜厚ム
ラが生じた。すなわちそりや硬化被膜の膜厚ムラなどが
大きい円盤では、半導体レーザ素子と円盤との間隙を一
定に保つのが困難であり、信号の記録、再生が出来なく
なってしまい、逆に円盤性能を低下させたなどである。
本発明は、以上の様な従来の欠点をすべて解消した画期
的な光学式記録円盤の塗布、硬化方法を提供するもので
あり、以下、第１〜３図によりその一実施例を説明する
。
本発明に用いた光学式記録、再生円盤基材は第１図に示
すように大きく３つのパ層から成りたっている。　　　
　　　　　　　　　　′１ すなわち、中心に穴を有す東□Ｉ＠　＆　２１０−の２
枚のアクリル板１の間に、光学的な記録、再生に必要な
記録層３を形成させたものである。さらに詳しくは、こ
の記録層３はレーザ光の照射により相転移を起させ、層
の反射率を変化させる原理を利用したものである。以下
に図面を用いて、その方法を具体的に示す。
第２図は本発明におけるコーテイング材の塗布方法の一
例を示す図である。ディップ槽６にコーテイング液４を
満し、樹脂円盤１を回転軸６で回転させながら両面同時
にコーテイング材を塗布した。第３図は本発明における
コーテイング材の硬化方法の一例である。
塗布時と共通の回転軸５で樹脂円盤１に回転を加えなが
ら、コーティング剤２を紫外線ランプ７と反射ミラー８
とから放射される紫外光９によって同時に硬化させた。
さらに詳しくは、ディップ塗布時の回転軸の回転数は２
０Ｏｒｐｍ以下が好捷しく、２０Ｏｒｐｍ以上では、画
布時にコーテイング液中に気泡が発！１１．３−ヶ、゛
しｆＢＭ　Ｋ　ｅ　７　＊　−／Ｌ−やゆいオ□じされ
た。又、；イヘップ後ディップ槽から離し２０Ｏｒｐｍ
　〜６０００　ｒｐｍより好しくは１０００　ｒｐｍか
ら２αηｒｐｍの回転を加え、スピンナー処理を施せば
均一で良好な薄膜を得ることができる。その後硬質被膜
を得るためには、前記の様に紫外線を照射すれば良い。
硬化条件は、紫外線ランプ容量と距離。
冷却方式などによって異なるが、水冷方式で８０Ｗ／、
のＵＶランプ６ｍの距離から照射する場合２００Ｏｒｐ
ｍ以下が好ましくより好しくけ、２００ｒｐｍ以下であ
る。すなわちスピンナー処理以上の回転数では、１硬化
膜の表面粗さが粗くなる２端部に凹凸の硬化異物が残る
などの問題が生じた。
尚、紫外線ランプはランプの中心位置が円板中心よりは
ずれている方が良く、より好しくけ円板中心と円板端と
の間である。
なお、本発明に用いるプラスチック板は光学的に透明で
使用する光（８００ｎｍ〜９００　ｎ　ｍ　）を良く通
すものであれば良い。
コーテイング材の一例として先願特願昭５４−ｇ８９４
２号明細書又は特願昭５５−３９７３５号明細書を用い
ることができる。
以下に実際、片面塗装を施した場合と、本発明による両
面塗装を施した場合の効果をデータにもとづき説明する
。
（実施例） コーテイング材（１ｓ　ｃｐｓ２ｒｓ°Ｃ）をディップ
回転数５　Ｏｒｐｍで塗布し、スピンナー回転数を・９
ラメータとした。紫外線硬化条件は、１５０ｒｐｍで６
０秒間という一定条件で行った結果を表１に示した。
表　　　　１ （基板円板φ２１０．．アクリル板） 尚、そりは、初期円板の基準を中心と平面方向の初期状
態にとり、被膜硬化後円板の端面のズレを測定した結果
をそりとして示した。
以上の結果より、両面塗布２両面間時硬化は、片面塗布
と比べ１基板のそりが少い。２ムラのない均〜な硬化被
膜を得ることができる。などの効果が得られたという点
で工業的価値は大なるものがある。
以上、本発明によると１円板に硬質硬化被膜２を両面同
時に塗布し、その後、スピンナ処理を行い、さらに回転
しながら紫外線照射を連続して行なうことつまり塗布工
程、スピンナ処理工程、紫外線照射工程を通して円板の
回転を止めることなく処理することによって膜厚ムラの
少い、そりの少い円板を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の製造方法を実施した円盤の断面図、第
２図は回転両面塗布装置の断面図、第３図は回転両面同
時硬化を行う装置の断面図である。 １・・・・・・樹脂円板、２・・・・・・硬質硬化被膜
、４・・−・・・コーテイング液、６・−・・・・回転
軸、６・・・・０．ディップ槽、７−１−、−＝紫外、
線ランプ、８゜１、。、。 反射ミラー。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名＠２
図 男　３　図 手続補正書 １事件の表示 昭和５６年特許願第１４２０６２号 ２発明の名称 円盤の塗装方法 ３補正をする者 ４１件との関係　　　　　　特　　許　　出　　願　　
人任　所　　大阪府門真市大字門真１００６番地名　称
　（５８２）松下電器産業株式会社代表者　　　　山　
　下　　俊　　彦 ４代理人　〒５７１ 住　所　　大阪府門真市大字門真１００６番地松下電器
産業株式会社内 ６補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容　　　　　　　　　　　　　　２１　明
細書簡５頁６〜６行目のＩ　２０　Ｏｒｐｍ’　Ｊを「
１０ｏｏｒｐｍ　」と補正する。 ２　同第４頁１４〜１６行目の「回転数は２０　Ｏｒｐ
ｍ　　以下が好ましく、２０Ｏｒｐｍ以上では、」を「
回転数は２０　Ｏｒｐｍ以下が好ましくより好ましくは
２Ｏｒｐｍ以下である、２００ｒｐｍ以上では、」と補
正する。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）　　コーテイング液中に円盤の両面を同時に浸し
    、前記円盤を回転させて、円盤の中心領域以外の両面に
    コーテイング液を塗布する工程と、その後、前記円盤を
    回転させながら両面同時に硬化させる工程とを有する円
    盤の塗装方法。
  2. （２）　　コーテイング液中に円盤の両面を同時に浸し
    、前記円盤を回転させて、円盤の中心領域以外の両面に
    コーテイング液を塗布する工程と、前記円盤に付着した
    コーテイング液を不必要な量だけ除去するよう前記円盤
    を高速回転させる回転除去工程と、その後前記円盤を回
    転させながら両面同時に硬化させる工程とを有する円盤
    の塗装方法。
JP56142062A 1981-09-08 1981-09-08 円盤の塗装方法 Granted JPS5843267A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56142062A JPS5843267A (ja) 1981-09-08 1981-09-08 円盤の塗装方法
US06/413,064 US4452819A (en) 1981-09-08 1982-08-30 Disc coating method
EP82107988A EP0074058B1 (en) 1981-09-08 1982-08-31 Disc coating method
DE3280465T DE3280465T2 (de) 1981-09-08 1982-08-31 Verfahren zur Beschichtung von Platten.
CA000410855A CA1200446A (en) 1981-09-08 1982-09-07 Disc coating method

Applications Claiming Priority (1)

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JP56142062A JPS5843267A (ja) 1981-09-08 1981-09-08 円盤の塗装方法

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JPS5843267A true JPS5843267A (ja) 1983-03-12
JPS6130634B2 JPS6130634B2 (ja) 1986-07-15

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ID=15306535

Family Applications (1)

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JP56142062A Granted JPS5843267A (ja) 1981-09-08 1981-09-08 円盤の塗装方法

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US (1) US4452819A (ja)
EP (1) EP0074058B1 (ja)
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CA (1) CA1200446A (ja)
DE (1) DE3280465T2 (ja)

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Publication number Publication date
US4452819A (en) 1984-06-05
DE3280465T2 (de) 1995-09-07
EP0074058B1 (en) 1995-01-11
EP0074058A3 (en) 1985-01-09
DE3280465D1 (de) 1995-02-23
JPS6130634B2 (ja) 1986-07-15
EP0074058A2 (en) 1983-03-16
CA1200446A (en) 1986-02-11

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