JPS6130634B2 - - Google Patents

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JPS6130634B2
JPS6130634B2 JP56142062A JP14206281A JPS6130634B2 JP S6130634 B2 JPS6130634 B2 JP S6130634B2 JP 56142062 A JP56142062 A JP 56142062A JP 14206281 A JP14206281 A JP 14206281A JP S6130634 B2 JPS6130634 B2 JP S6130634B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
disk
coating
sides
rotating
coating liquid
Prior art date
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Expired
Application number
JP56142062A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5843267A (ja
Inventor
Takao Inoe
Yukio Maeda
Masami Uchida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP56142062A priority Critical patent/JPS5843267A/ja
Priority to US06/413,064 priority patent/US4452819A/en
Priority to DE3280465T priority patent/DE3280465T2/de
Priority to EP82107988A priority patent/EP0074058B1/en
Priority to CA000410855A priority patent/CA1200446A/en
Publication of JPS5843267A publication Critical patent/JPS5843267A/ja
Publication of JPS6130634B2 publication Critical patent/JPS6130634B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/002—Processes for applying liquids or other fluent materials the substrate being rotated
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
    • B05D3/065—After-treatment
    • B05D3/067—Curing or cross-linking the coating

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は光学式の記録、再生円盤の製造方法に
関し、特に円盤外周に硬質被覆を形成させる方法
に関するものである。 即ち本発明の目的は、１そりの少い円盤を提供
すること、２均質の硬質被覆を有する円盤を提供
することである。 従来、光学式記録円盤は、円形のプラスチツク
板に、光学的に記録、再生可能な記録層を形成さ
せる工程を経て、その後必要に応じて他のプラス
チツク板を重ね合せ、前記円盤層を保護するのが
一般的であつた。この従来の問題点は記録層の保
護に用いたプラスチツク板も、砂ぼこりや製造時
の異物との接触により、その表面にキズが付くこ
とであつた。これは、レーザ光を用いる光学式記
録、再生円盤でも問題となつてきている。すなわ
ち、これが記録、鎖生信号にノイズとして現われ
るという問題であつた。これに対し本発明者らは
従来の方法で製造した光学式記録円盤に、特願昭
54−98942号明細書、特願昭55−39735号明細書の
コーテイング組成物を塗装、硬化させ、透明硬質
被膜を形成させることによつて顕著なキズ付き防
止効果が現われることを見いだした。しかしなが
ら、ムラのない被膜を形成するのがむずかしく、
従来の水平スピンナー方式から得られる片面コー
テイング円盤では、そりが生じてしまうという新
たな問題を生じさせた。さらに、スピンナー後、
一担停止し紫外線硬化を行うと、円板端面と中心
に膜厚ムラが生じた。すなわちそりや硬化被膜の
膜厚ムラなどが大きい円盤では、半導体レーザ素
子と円盤との間隙を一定に保つのが困難であり、
信号の記録、再生が出来なくなつてしまい。逆に
円盤性能を低下させたなどである。 本発明は、以上の様な従来の欠点をすべて解消
した画期的な光学式記録円盤の塗布、硬化方法を
提供するものであり、以下、第１〜３図によりそ
の一実施例を説明する。 本発明に用いた光学式記録、再生円盤基材は第
１図に示すように大きく３つの層から成りたつて
いる。 すなわち、中心に穴を有する直径210mmの２枚
のアクリル板１の間に、光学的な記録、再生に必
要な記録層３を形成させたものである。さらに詳
しくは、この記録層３はレーザ光の照射により相
転移を起させ、層の反射率を変化させる原理を利
用したものである。以下に図面を用いて、その方
法を具体的に示す。 第２図は本発明におけるコーテイング材の塗布
方法の一例を示す図である。デイツプ槽６にコー
テイング液４を満し、樹脂円盤１を回転軸５で回
転させながら両面同時にコーテイング材を塗布し
た。第３図は本発明におけるコーテイング材の硬
化方法の一例である。 塗布時と共通の回転軸５で樹脂円盤１に回転を
加えながら、コーテイング剤２を紫外線ランプ７
と反射ミラー８とから放射される紫外光９につて
同時に硬化させた。さらに詳しくは、デイツプ塗
布時の回転軸の回転数は200rpm以下が好ましく
より好ましくは20rpm以下である。200rpm以上
では、塗布時にコーテイング液中に気泡が発生
し、コーテイング膜にピンホールやはじきを生じ
させた。又、デイツプ後デイツプ槽から離し
200rpm〜6000rpmより好しくは1000rpmから
2000rpmの回転を加え、スピンナー処理を施せば
均一で良好な薄膜を得ることができる。その後硬
質被膜を得るためには、前記の様に紫外線を照射
すれば良い。硬化条件は、紫外線ランプ容量と距
離、冷却方式などにつて異なるが、水冷方式で
80W／cmのUVランプ５cmの距離から照射する場
合2000rpm以下が好ましくより好しくは、
1000rpm以下である。すなわちスピンナー処理以
上の回転数では、１硬化膜の表面粗さが粗くなる
２端部に凹凸の硬化異物が残るなどの問題が生じ
た。尚、紫外線ランプはランプの中心位置が円板
中心よりはずれている方が良く、より好しくは円
板中心と円板端との間である。 なお、本発明に用いるプラスチツク板は光学的
に透明で使用する光（800nm〜900nm）を良く通
すものであれば良い。 コーテイング材の一例として先願特願昭54−
98942号明細書又は特願昭55−39735号明細書を用
いることができる。 以下に実際、片面塗装を施した場合と、本発明
による両面塗装を施した場合の効果をデータにも
とづき説明する。 （実施例） コーテイング材（16cps25℃）をデイツプ回転
数50rpmで塗布し、スピンナー回転数をパラメー
タとした。紫外線硬化条件は、150rpmで60秒間
という一定条件で行つた結果を表１に示した。
【表】 尚、そりは、初期円板の基準を中心と平面方向
の初期状態にとり、被膜硬化後円板の端面のズレ
を測定した結果をそりとして示した。 以上の結果より、両面塗布、両面同時硬化は片
面塗布と比べ１基板のそりが少い。２ムラのない
均一な硬化被膜を得ることができる。などの効果
が得られたという点で工業的価値は大なるものが
ある。 以上、本発明によると、円板に硬質硬化被膜２
を両面同時に塗布し、その後、スピンナ処理を行
い、さらに回転しながら紫外線照射を連続して行
なうことつまり塗布工程、スピンナ処理工程、紫
外線照射工程を通して円板の回転を止めることな
く処理することによつて膜厚ムラの少い、そりの
少い円板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の製造方法を実施した円盤の断
面図、第２図は回転両面塗布装置の断面図、第３
図は回転両面同時硬化を行う装置の断面図であ
る。 １……樹脂円板、２……硬質硬化被膜、４……
コーテイング液、５……回転軸、６……デイツプ
槽、７……紫外線ランプ、８……反射ミラー。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ コーテイング液中に円盤の両面を同時に浸
    し、前記円盤を回転させて、円盤の中心領域以外
    の両面にコーテイング液を塗布する工程と、その
    後、前記円盤を回転させながら両面同時に硬化さ
    せる工程とを有する円盤の塗装方法。 ２ コーテイング液中に円盤の両面を同時に浸
    し、前記円盤を回転させて、円盤の中心領域以外
    の両面にコーテイング液を塗布する工程と、前記
    円盤に付着したコーテイング液を不必要な量だけ
    除去するよう前記円盤を高速回転させる回転除去
    工程と、その後前記円盤を回転させながら両面同
    時に硬化させる工程とを有する円盤の塗装方法。
JP56142062A 1981-09-08 1981-09-08 円盤の塗装方法 Granted JPS5843267A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56142062A JPS5843267A (ja) 1981-09-08 1981-09-08 円盤の塗装方法
US06/413,064 US4452819A (en) 1981-09-08 1982-08-30 Disc coating method
DE3280465T DE3280465T2 (de) 1981-09-08 1982-08-31 Verfahren zur Beschichtung von Platten.
EP82107988A EP0074058B1 (en) 1981-09-08 1982-08-31 Disc coating method
CA000410855A CA1200446A (en) 1981-09-08 1982-09-07 Disc coating method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56142062A JPS5843267A (ja) 1981-09-08 1981-09-08 円盤の塗装方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5843267A JPS5843267A (ja) 1983-03-12
JPS6130634B2 true JPS6130634B2 (ja) 1986-07-15

Family

ID=15306535

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56142062A Granted JPS5843267A (ja) 1981-09-08 1981-09-08 円盤の塗装方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4452819A (ja)
EP (1) EP0074058B1 (ja)
JP (1) JPS5843267A (ja)
CA (1) CA1200446A (ja)
DE (1) DE3280465T2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4020373A1 (de) * 1990-06-27 1992-01-02 Basf Ag Verfahren zur herstellung photopolymerer flexographischer reliefdruckplatten
JPH04153079A (ja) * 1990-10-18 1992-05-26 Digital Sutoriimu:Kk 消去、書き換え可能な用紙、印字用インク、並びにこれらを用いた印字装置及び消去装置
US5300331A (en) * 1991-09-27 1994-04-05 Fusion Systems Corporation Method and apparatus for UV curing thick pigmented coatings
NL1011991C2 (nl) * 1999-05-07 2000-11-09 Odme Internat B V Inrichting voor het uitharden van een op een hoofdoppervlak van een schijfvormige registratiedrager aangebrachte laklaag.
US6740163B1 (en) * 2001-06-15 2004-05-25 Seagate Technology Llc Photoresist recirculation and viscosity control for dip coating applications
JP5642401B2 (ja) * 2010-03-01 2014-12-17 株式会社ブリヂストン 導電性ローラおよびその製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR789741A (fr) * 1935-05-08 1935-11-05 American Braille Press For War Perfectionnements aux machines et aux procédés pour la fabrication et l'enregistrement des disques phonographiques
US2272157A (en) * 1940-03-11 1942-02-03 Plastic Binding Corp Record disk
US2388126A (en) * 1941-12-20 1945-10-30 Rock Ola Mfg Corp Apparatus for coating record blanks
US3104983A (en) * 1959-08-26 1963-09-24 Ibm Method of curing magnetic tape binder comprising butadiene-acrylonitrile and phenolicresin with subatomic radiation
US3730760A (en) * 1971-11-26 1973-05-01 Ibm Vertical centrifugal spin coating method
US3795534A (en) * 1972-04-19 1974-03-05 Rca Corp Manufacture of video discs
GB1454495A (en) * 1973-05-21 1976-11-03 Lucas Electrical Ltd Methods of coating articles
FR2275841A1 (fr) * 1974-06-21 1976-01-16 Thomson Brandt Support d'information lisible optiquement par transmission et procede de fabrication dudit support
NL8002039A (nl) * 1980-04-08 1981-11-02 Philips Nv Optisch uitleesbare informatieschijf.

Also Published As

Publication number Publication date
EP0074058B1 (en) 1995-01-11
DE3280465T2 (de) 1995-09-07
EP0074058A2 (en) 1983-03-16
EP0074058A3 (en) 1985-01-09
CA1200446A (en) 1986-02-11
DE3280465D1 (de) 1995-02-23
US4452819A (en) 1984-06-05
JPS5843267A (ja) 1983-03-12

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