JP2794775B2 - フォトマスク洗浄方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置等を製造する際に用いるフォト
マスクを洗浄するフォトマスク洗浄方法に関するもので
ある。

〔従来と技術〕

半導体装置において、フォトリソグラフィ工程は必要
不可欠である。このフォトリソグラフィ工程において、
フォトマスク（レチクル，マスタマスク）は日常よく使
われ、そのクリーン化方法（洗浄方法）はかねてより開
発・改善が行われている。

しかしながら、デバイスの高集積度化に伴い、フォト
マスク上の異物（ゴミ）を完全に除去しペリクル膜を貼
ることにより、フォトマスクを作成する機会が増加して
きている。このため、異物はある大きさ以上存在しては
ペリクル膜が貼ることができず、転写の際に投撮される
ので、完全に除去しなくてはならない。

また、その異物の大きさは、年々益々小さくなってお
り、異物除去技術すなわち洗浄方法は益々難しくなって
いる。

従来の異物除去方法は、薬液中に浸漬する方法、ブラ
シなどで擦り異物を除去する方法、高圧水を噴射する方
法等があった。

しかしながら、フォトマスク上に付着しているゴミは
多種多様あり、薬液中に浸漬するだけでは除去できない
ものが多くなってきている。

従って、ブラシなどにより機械的洗浄を実施する必要
があるが、この際に洗浄液を使用しているが、適当な洗
浄液がなく異物が除去されにくいという欠点があった。

第２図は従来の洗浄方法による異物の減少率を示した
特性図である。ここで、実線は強付着異物を示し、一点
鎖線は通常異物を示している。

この図から明らかなように、異物でもフォトマスク上
に強固に付着していると、洗浄回数を増やしてもとれに
くい傾向があった。

また、フォトマスクに強固に付着している異物として
は、フォトマスクアライナのセット時に付着したと思わ
れる金属粉，ペリクルの接着剤などが分析の結果明らか
となった。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来の洗浄方法は、上記のように行なっているので、
強付着している異物は１回の洗浄では除去できず何回も
洗浄する必要があり、パターン欠けの発生、スループッ
トの低下になる等の問題点があった。

本発明は上記のような欠点を解消するためになされた
もので、フォトマスクに付着した強固な異物も１回の洗
浄にて除去できる洗浄剤及び洗浄方法を得ることを目的
とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明に係るフォトマスクの洗浄方法は、湿潤剤とし
て機能する界面活性剤と、研磨剤と、発泡剤として機能
する界面活性剤とを混合した洗浄液により、フォトマス
クを洗浄している。

〔作 用〕

フォトマスクの洗浄溶液として湿潤剤，研磨剤及び発
泡剤を含むものを用い、機械洗浄を行う。

〔実施例〕

次に、本発明のついて図面を参照して説明する。先ず
洗浄方法としてブラシなどを用いた機械的な洗浄法を用
いる。強固に付着した異物は薬液中に浸漬するのみでは
除去できないため、どうしても機械的に除去する必要が
ある。この方法として、ブラシ，布，ガーゼ及びベンコ
ットン等などを用い機械的に異物を除去する。その際に
用いる洗浄剤として、従来界面活性剤系の洗浄剤を用い
ていたが、それに湿潤剤，研磨剤，発泡剤を混合したも
のを用いる。

まず、湿潤剤としてソルビット液，プロピレングリコ
ール，ポリエチレングリコール等を用いる。また、研磨
剤としては、重曹炭酸カルシウム，無水ケイ酸などを用
いるが、粒径としては１μｍ以下の比較的細かい粒径と
し、パターン損傷が発生しないように混入比率も低くす
る必要がある。さらに、発泡剤としては、ラウリル硫酸
ナトリウム，ラウロイサルコシンナトリウム等を用い
る。

本洗浄剤を用い、ブラシ洗浄（材質；ナイロン，回転
数;120rpm）を行ない、洗浄前に多数の異物が存在して
いるフォトマスクを用い洗浄する。

さて、上記の洗浄方法によって洗浄した結果を第１図
に示す。同図のように１回の洗浄にて通常の異物（一点
鎖線）は勿論，強固に付着したいた異物（実線）も除去
され、また洗浄後のパターン損傷も全くなかった。

この後、水洗によりこれらの洗浄剤を除去し、イソプ
ロピルアルコールにて蒸気乾燥し、異物検査機，欠陥検
査機にて欠陥を検査する。そして、この検査後、ペリク
ル貼付する。貼付後においても、異物の存在は確認され
ず、転位した異物もなかった。

洗浄の際は、本洗浄剤は、液状であるため、フォトマ
スク上に均一に広がりやすく、また、本洗浄剤は無害で
あるため生産上，実使用上何らの支障をきたすことがな
い。また、価格についても安価で製造方法が容易であ
る。

なお、上記実施例では、ブラシ洗浄による方法につい
て述べたが、他の機械洗浄方法でもよく、同様の効果を
奏する。

また、湿潤剤，発泡剤，研磨剤として実施例に述べた
ものを使用したがこれ以外のものであってもよい。さら
に、これらの他に粘結剤を添加してもよく、同様の効果
を奏する。

また、フォトマスクについて述べたが、他のガラス基
板などでもよく、同様の効果を奏する。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は、湿潤剤，研磨剤及び発
泡剤を含む洗浄溶液より、フォトマスクを洗浄している
ため、１度の洗浄で異物が除去でき、洗浄効果の向上，
洗浄工程の短縮化など優れた効果を有する

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の洗浄方法を用いてフォトマスクを洗浄
した場合の結果を示す特性図、第２図は従来の洗浄方法
でフォトマスクを洗浄した場合の結果を示す特性図であ
る。

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】半導体装置等の製造に用いるフォトマスク
   の洗浄において、 湿潤剤として機能する界面活性剤と、研磨剤と、発泡剤
   として機能する界面活性剤とを混合した洗浄溶液によ
   り、フォトマスクを機械洗浄することを特徴としたフォ
   トマスク洗浄方法。