JPS60106896A - 洗浄剤 - Google Patents

洗浄剤

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JPS60106896A
JPS60106896A JP21347683A JP21347683A JPS60106896A JP S60106896 A JPS60106896 A JP S60106896A JP 21347683 A JP21347683 A JP 21347683A JP 21347683 A JP21347683 A JP 21347683A JP S60106896 A JPS60106896 A JP S60106896A
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JP
Japan
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weight
methylene chloride
cleaning
experiment
cleaning agent
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JP21347683A
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English (en)
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JPS612718B2 (ja
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小林 泰史
赤瀬 真一郎
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプラスチック成形用型枠、ガラスマスーク基板
その他ガラス、セラミックス、シリコンウェー八等の洗
浄剤に関するものであり、特に注型重合法で製造するプ
ラスチック成形体たとえばポリカーボネート樹脂、メタ
クリル樹脂、ジエブーレングリコール・ビスアリルカー
ボネート樹脂に使用スるガラスモールドあるいは金型を
洗浄するのに好適とされる洗浄剤の提供を目的とするも
のである。
ポリカーボネート樹脂は、衝撃強度、耐熱性、耐老化性
、電気的特性にすぐれているので、くぎ、びょう、ボル
ト、ナツト、各種パイプ、絶縁テープ、・接着テープ、
電線被覆、スイツブー、は乳びん、コーヒーポット、ハ
ウジングケース等に、メタクリル樹脂は、衝撃強度、光
線透過度、耐候性にすぐれているので、扇風機羽根、計
器板、電気器具銘板、ランプカバーレンズ、歯科材料等
に、またジエチレングリコール・ビスアリルカーボネー
ト樹脂は、衝撃強度、光線透過度、耐候性、耐溶剤性に
すぐれているので、矯正用メガネ、VTR力 −メラ、
安全保護メガネ、光学機器等に、それぞれ−使用されて
いる。
上記した各種プラスチック成形体の製造に当って、−→
H帥躬H畔時叱44− ’ −ヤ礁譜喘つ〈〒一般に成
形型枠としてガラスモールドあるいは金型が使用される
が、このガラスモールドあるいは金型については取扱い
にきわめて慎重を期す必要があり、原料樹脂の付着によ
る汚れや作業者の指紋、作業手袋の汚れ等があってはな
らず、したがって成形作業に先立ってあらかじめ完全に
洗浄されていることが要求される。
しかして、塩化メチレン、トリクロロエチレン、1、1
.1〜トリクCOエタン、テトラクロロエチレン等のハ
ロゲン化炭化水素類は、不燃性で洗浄力にすぐれている
ので、上記目的の洗浄剤として適用することが試みられ
ているが、それらハロゲン化炭化水素類のうちでも特に
洗浄力、低毒性にすぐれていると言われている塩化メチ
レンを使用してもなお期待する完全な洗浄が回熱であり
、また洗浄に長時間を要するなどの問題がある。たどえ
は、塩化メチレンあるいはトリクロロエチレンの単独も
しくはこれらの混合物で、ガラスモールドあるいは金型
等を洗浄しようとする場合、この洗浄のみでは汚れを完
全に洗い落すにいたらず、ついでアセトンおよび/また
はメタノールで手ふきするという作業能率上はなはだ不
利な工程が必要である。
本発明者らは上記した問題点にかんがみ、塩化メチレン
等のハロゲン化炭化水素類が本来有する性能、特長を阻
害することなく、これに他の物質を比較的少!l添加す
る−ことによりすぐれた洗浄効果を辻成することを目的
として鋭意研究を重ねた結果、塩化メチレン等のハロゲ
ン化炭化水素類に、界面活性剤および第四アンモニウム
へイドロキサイド、さらに要すれば炭素数6以下の一価
飽和アルコールを添加することにより上記目的が満足さ
れることを見出し本発明を完成した。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明にかかわる洗浄剤はハロゲン化炭化水素類に前記
した添加剤を1111えてなるものであるが、このへロ
ゲン化炭化水Mmとしては、塩化メチレン、トリクロロ
エチレン、1,1.1−) 9クロロエタン、テトラク
ロロエチレン等が例示される。これらのハロゲン化炭化
水素類のうちでも特に塩化メチレンが洗浄力、低毒性、
不燃性の点ですぐれているので望ましいものである。
添加剤として使用される界面活性剤および第四アンモニ
ウムへイドロキサイドのうち、界面活性剤としてはアル
キル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、
アルキルスルホコハク酸塩、アルキルりん酸エステル塩
、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオ
キンエチレンアルキルフェノールエーテル硫酸塩などの
陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル
などのノニオン界面活性剤が、また第四アンモニウムへ
イドロキサイドとしては、テトラメチルアンモニウムへ
イドロキサイド、デトラエテルアンモニウムハイドロキ
サイド、コリン、トリメチルベンジルアンモニウムへイ
ドロキサイドなどが、それぞれ例示される。なお、界面
活性剤として上記した陰イオン界面活性剤の少なくとも
1種とノニオン界面活性剤の少なくとも1種とを併用す
ることにより、後記実施例に示すように、一層すぐれた
洗浄効果を得ることができる。
ハロゲン化炭化水素に対する上記した各添加剤の配合割
合は、界面活性剤0.01〜10重量%(好ましくは0
1〜5重量%)および第四アンモニウムへイドロキサイ
ド01〜20重量% (好ましくは1〜10重FtL 
O20とすることが必要とされる。
これらの添加剤が少なすぎると十分な洗浄効果の向上が
望めずまた上記それぞれの範囲を越える多量を加えても
それ以上の効果が得られないのみならず、経済的に不利
となる。
本発明においては上記添加剤のほかにさらに要すれば炭
素数6以下の飽和−価アルコールが添加され、これによ
れば作業者の指紋、体内から分泌されるタンパクη等の
極性汚れに対し、洗浄を助ける効果が与えられる。この
ような効果を期待して該アルコールを添加する場合その
添加量は1〜20重皿%(特には2〜10重量%)とす
ることが望ましい。
なお、上記炭素数6以下の飽和−価アルコールとしては
、メタノール、エタノール、イソプロパツール、n−ブ
タノール等が例示されるが、これらのうちでも特にメタ
ノールがすぐれている。
そのほか必要に応じハロゲン化炭化水素の安定化剤を添
加してもよく、この安定化剤としては、プロピレンオキ
シド、ブチレンオキシド等のエポキシド類、ジイソプロ
ピンアミン、イソプロピルアミン等のアミン類、ニトロ
メタン、ニトロエタン等のニトロアルカン類が例示され
る。
本発明の洗浄剤は、以上述べた各添加剤のそれぞれ所定
量を塩化メチレン等のへロゲン化炭化水素類に加えるこ
とにより得られるが、第四アンモニウムハイドロキサイ
ドについてはこのものをあらかじめ水もしくは前記炭素
数6以下のアルコール類に溶解した溶液として加えるこ
とが望ましい。
この場合、水もしくはアルコール類は洗浄剤中20重量
%(特には10!lii%)を越えないようにすること
が望ましく、したがってこの場合には自ずと第四アンモ
ニウムハイドロキサイドの添加量はその溶液濃度に応じ
低い値におさえられる。
なお、水が含有した場合には洗浄剤は二層液タイプとな
るが、洗浄力に悪影響はない。
このようにして得られる洗浄剤を用いることにより、た
とえばプラスツーツク成形体(プラスチックレンズ等)
製造用ガラスモールドあるいは金型等をきわめて効果的
にかつ完全に洗浄することができ、油溶性の汚れにも水
溶性の汚れにも顕著な洗浄効果を発揮し、従来のように
アセトン、メタノール等で手ふきするという工程が不要
となるので、作業能率の大幅な向上がJ1゛られる。
本発明の洗浄剤は、プラスチック成形用型枠の′15L
浄に限られず、ガラスマスク裁板その他ガラス、セラミ
ックス、シリコンウェー八等の洗浄にも有用とされるも
のである。
つぎに具体的実施例をあげる。
実施例 プラスチックレンズ1京料(ジエチレングリコール・ビ
スアリルカーボネ−1・樹脂96重量%+ジイソプロピ
ルパーオキシジカーボネート4重量%)を注型重合した
後のガラスモールド(このガラスモールドには原料樹脂
、指紋、手袋の跡等カー付着) 100枚を洗浄カゴに
入れ、溶剤系洗浄工程(超音波槽、2槽)→洗剤洗浄工
程(超音波槽、2枯・)→水洗工程(超音波槽、2槽)
→脱水工程(超音波槽、2槙)→仕上げ工程(浸漬槽、
蒸気検者IM)の各種に順に1分ずつ入れて洗浄した。
溶剤系洗浄工程:後記実験/I61〜22に記載の組成
からなる洗浄剤を使用 洗剤洗浄工程:ママローセル(ライオン(株社製品)1
重量%水溶液を使用 水洗工程 二 通常の飲料水を使用 脱水工程 : イソプロパツールを使用仕上げ工程: 
フロン113を使用 〔溶剤系洗浄工程で使用した洗浄剤〕 実験A61 塩化メチレン 94市量% %水溶液 実験42 塩化メチレン 94 fIf&% %メタノール溶液 実験A3 塩化メチレン 94重量% 9イ、メタノール溶液 塩化メチレン 94重鼠% プリンの5屯)8%水溶液 5 〃 実験扁5 塩化メチレン 89重も1% %水溶液 メタノール 5 // 実験/166 塩化メチレン 93重足% %水溶液 実験A67 塩化メチレン 93重量% %メタノール溶液 実験A6B 塩化メチレン 88重[べ努、 %メタノール溶液 メタノール 5 ″ 実験、469 塩化メチレン 88爪1111% %水溶液 イソプロパツール 5 〃 実験1610 塩化メチレン 94.9重1ii% %水溶液 実験ガロ 11 塩化メチレン 987i4.、’ ifj%キサイドの
5重量%水溶液 1 // 実験痛12 塩化メチレン 97」旧 fj)%水溶液 実験A613 塩化メチレン 84重量% %水溶液 メタノール 10// 実験扁14 トリクロロエチレン 88重量% 酸酸ナトリウ ム水溶液 メタノール 5 〃 実験/1615 塩化メチレン 99M量% l 実験A16 塩化メチレン 99重量% ドデシルベンゼンスルホン 1 、。
酸ナトリウム 実験1617 塩化メチレン 98M量% 実験A18 塩化メチレン 95重量% テトラメチルアンモニウムハイド 5 、/ロキサイド
の5重量%水溶液 実験A19 塩化メチレン 90重量% %水溶液 メタノ−フル 5 〃 実験A62Q 塩化メチレン 88重量% メタノール 5 〃 実験A621 塩化メチレン単独 実験A622 トリクロロエチレン単独 以上の各実験において、ガラスモールドの外観を調べ合
格不合格を判定したところ、結果はつぎのとおりであっ
た。
2 同上 90 3 同上 90 4 同上 89 5 同上 91 6 同上 95 7 同上 97 8 同上 97 9 同上 96 10 同上 88 11 同上 88 12 同上 89 13 同上 91 残りあり 15 同上 75 16 同上 75 17 同上 80 18 同上 80 19 同上 81 20 向上 85 浄残りあり 浄残りあり

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ハロゲン化炭化水素に、界面活性剤0.01〜10
    重量%および第四アンモニクムへイドロキサイド0.1
    〜20重量%添加してなる洗浄剤2、 ハロゲン化炭化
    水素が塩化メチレンである特許請求の範囲第1項記載の
    洗浄剤 3 界面活性剤が陰イオン界面活性剤および/またはノ
    ニオン界面活性剤である特許請求の範囲第1項記載の洗
    浄剤 4、ハロゲン化炭化水素に、界面活性剤0.01〜10
    diti’t%、第四アンモニウムハイドロキサイド0
    1〜20重量%および炭素数6以下の一価飽和アルコー
    ル1〜20重量%添加し、てなる洗浄剤 5−価飽和アルコールがメタノールである特許請求の範
    囲第4項記載の洗浄剤
JP21347683A 1983-11-14 1983-11-14 洗浄剤 Granted JPS60106896A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21347683A JPS60106896A (ja) 1983-11-14 1983-11-14 洗浄剤
US06/667,537 US4592856A (en) 1983-11-14 1984-11-02 Liquid detergent composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21347683A JPS60106896A (ja) 1983-11-14 1983-11-14 洗浄剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60106896A true JPS60106896A (ja) 1985-06-12
JPS612718B2 JPS612718B2 (ja) 1986-01-27

Family

ID=16639828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21347683A Granted JPS60106896A (ja) 1983-11-14 1983-11-14 洗浄剤

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JP (1) JPS60106896A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02296243A (ja) * 1989-05-11 1990-12-06 Mitsubishi Electric Corp フォトマスク洗浄方法
US5039349A (en) * 1990-05-18 1991-08-13 Veriflo Corporation Method and apparatus for cleaning surfaces to absolute or near-absolute cleanliness
JP2001518552A (ja) * 1997-09-29 2001-10-16 キーゼン コーポレイション 製造中で使用した重合物及び樹脂のクリーニング組成物及びクリーニング方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2001518552A (ja) * 1997-09-29 2001-10-16 キーゼン コーポレイション 製造中で使用した重合物及び樹脂のクリーニング組成物及びクリーニング方法

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JPS612718B2 (ja) 1986-01-27

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