JPH02296243A - フォトマスク洗浄方法 - Google Patents
フォトマスク洗浄方法Info
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- JPH02296243A JPH02296243A JP1117932A JP11793289A JPH02296243A JP H02296243 A JPH02296243 A JP H02296243A JP 1117932 A JP1117932 A JP 1117932A JP 11793289 A JP11793289 A JP 11793289A JP H02296243 A JPH02296243 A JP H02296243A
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 abstract description 2
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 abstract description 2
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 abstract description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 abstract 3
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 abstract 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 abstract 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 abstract 1
- ADWNFGORSPBALY-UHFFFAOYSA-M sodium;2-[dodecyl(methyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCN(C)CC([O-])=O ADWNFGORSPBALY-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- NKWPZUCBCARRDP-UHFFFAOYSA-L calcium bicarbonate Chemical compound [Ca+2].OC([O-])=O.OC([O-])=O NKWPZUCBCARRDP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置等を製造する際に用いるフォトマ
スクを洗浄するフォトマスク洗浄方法に関するものであ
る。
スクを洗浄するフォトマスク洗浄方法に関するものであ
る。
半導体装置において、フォトリソグラフィ工程は必要不
可欠である。このフォトリソグラフィ工程において、フ
ォトマスク（レチクル、マスクマスク）は日常よく使わ
れ、そのクリーン化方法（洗浄方法）はかねてより開発
・改善が行われている。
可欠である。このフォトリソグラフィ工程において、フ
ォトマスク（レチクル、マスクマスク）は日常よく使わ
れ、そのクリーン化方法（洗浄方法）はかねてより開発
・改善が行われている。
しかしながら、デバイスの高集積度化に伴い、フォトマ
スク上の異物（ゴミ）を完全に除去しペリクル膜を貼る
ことにより、フォトマスクを作成する機械が増加してき
ている。このため、異物はある大きさ以上存在してはべ
りタル膜が貼ることができず、転写の際に投撮されるの
で、完全に除去しなくてはならない。
スク上の異物（ゴミ）を完全に除去しペリクル膜を貼る
ことにより、フォトマスクを作成する機械が増加してき
ている。このため、異物はある大きさ以上存在してはべ
りタル膜が貼ることができず、転写の際に投撮されるの
で、完全に除去しなくてはならない。
また、その異物の大きさは、年々益々小さくなっており
、異物除去技術すなわち洗浄方法は益々難しくなってい
る。
、異物除去技術すなわち洗浄方法は益々難しくなってい
る。
従来の異物除去方法は、薬液中に浸漬する方法、ブラシ
などで擦り異物を除去する方法、高圧水を噴射する方法
等があった。
などで擦り異物を除去する方法、高圧水を噴射する方法
等があった。
しかしながら、フォトマスク上に付着しているゴミは多
種多様あり、薬液中に浸漬するだけでは除去できないも
のが多くなってきている。
種多様あり、薬液中に浸漬するだけでは除去できないも
のが多くなってきている。
従って、ブラシなどにより機械的洗浄を実施する必要が
あるが、この際に洗浄液を使用しているが、適当な洗浄
液がなく異物が除去されにくいという欠点があった。
あるが、この際に洗浄液を使用しているが、適当な洗浄
液がなく異物が除去されにくいという欠点があった。
第２図は従来の洗浄方法による異物の減少率を示した特
性図である。ここで、実線は強付着異物を示し、−点鎖
線は通常異物を示している。
性図である。ここで、実線は強付着異物を示し、−点鎖
線は通常異物を示している。
この図から明らかなように、異物でもフォトマスク上に
強度に付着していると、洗浄回数を増やしてもとれにく
い傾向があった。
強度に付着していると、洗浄回数を増やしてもとれにく
い傾向があった。
また、フォトマスクに強固に付着している異物としては
、フォトマスクアライナのセント時に付着したと思われ
る金属粉、ペリクルの接着剤などが分析の結果明らかと
なった。
、フォトマスクアライナのセント時に付着したと思われ
る金属粉、ペリクルの接着剤などが分析の結果明らかと
なった。
従来の洗浄方法は、上記のように行なっているので、強
固い付着している異物は１回の洗浄では除去できず何回
も洗浄する必要があり、パターン欠けの発生、スルーブ
ツトの低下になる等の問題点があった。
固い付着している異物は１回の洗浄では除去できず何回
も洗浄する必要があり、パターン欠けの発生、スルーブ
ツトの低下になる等の問題点があった。
本発明は上記のような欠点を解消するためになされたも
ので、フォトマスクに付着した強固な異物も１回の洗浄
にて除去できる洗浄剤及び洗浄方法を得ることを目的と
する。
ので、フォトマスクに付着した強固な異物も１回の洗浄
にて除去できる洗浄剤及び洗浄方法を得ることを目的と
する。
本発明に係るフォトマスクの洗浄方法は、湿潤剤、研磨
剤及び発泡剤を含む洗浄溶液により、フォトマスクを洗
浄している。
剤及び発泡剤を含む洗浄溶液により、フォトマスクを洗
浄している。
フォトマスクの洗浄溶液として湿潤剤、研磨剤及び発泡
剤を含むものを用いる。
剤を含むものを用いる。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
先ず洗浄方法としてブラシなどを用いた機械的な洗浄法
を用いる。強固に付着した異物は薬液中に浸漬するのみ
では除去できないため、どうしても機械的に除去する必
要がある。この方法として、ブラシ、布、ガーゼ及びペ
ンコツトン等などを用い機械的に異物を除去する。その
際に用いる洗浄剤として、従来界面活性剤系の洗浄剤を
用いていたが、それに湿潤剤、研磨剤２発泡剤を混合し
たものを用いる。
を用いる。強固に付着した異物は薬液中に浸漬するのみ
では除去できないため、どうしても機械的に除去する必
要がある。この方法として、ブラシ、布、ガーゼ及びペ
ンコツトン等などを用い機械的に異物を除去する。その
際に用いる洗浄剤として、従来界面活性剤系の洗浄剤を
用いていたが、それに湿潤剤、研磨剤２発泡剤を混合し
たものを用いる。
まず、湿潤剤としてソルビット液、プロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール等を用いる。
ル、ポリエチレングリコール等を用いる。
また、研磨剤としては、重曹炭酸カルシウム、無水ケイ
酸などを用いるが、粒径としては１μｍ以下の比較的細
かい粒径とし、パターン損傷が発生しないように混入比
率も低くする必要がある。さらに、発泡剤としては、ラ
ウリル硫酸ナトリウム。
酸などを用いるが、粒径としては１μｍ以下の比較的細
かい粒径とし、パターン損傷が発生しないように混入比
率も低くする必要がある。さらに、発泡剤としては、ラ
ウリル硫酸ナトリウム。
ラウロイサルコシンナトリウム等を用いる。
本洗浄剤を用い、ブラシ洗浄（材質；ナイロン回転数；
１２０ｒｐｍ）を行ない、洗浄前に多数の異物が存在し
てフォトマスクを用い洗浄する。
１２０ｒｐｍ）を行ない、洗浄前に多数の異物が存在し
てフォトマスクを用い洗浄する。
さて、上記の洗浄方法によって洗浄した結果を第１図に
示す。同図のように１回の洗浄にて通常の異物（−点鎖
線）は勿論１強間に付着したいた異物（実線）も除去さ
れ、また洗浄後のパターン損傷も全くなかった。
示す。同図のように１回の洗浄にて通常の異物（−点鎖
線）は勿論１強間に付着したいた異物（実線）も除去さ
れ、また洗浄後のパターン損傷も全くなかった。
この後、水洗によりこれらの洗浄剤を除去し、イソプロ
ピルアルコールにて上記乾燥し、異物検査機、欠陥検査
機にて欠陥を検査する。そして、この検査後、ペリクル
貼付する。貼付後においても、異物の存在は確認されず
、推移された異物もなかった。
ピルアルコールにて上記乾燥し、異物検査機、欠陥検査
機にて欠陥を検査する。そして、この検査後、ペリクル
貼付する。貼付後においても、異物の存在は確認されず
、推移された異物もなかった。
洗浄の際は、本洗浄剤は、液状であるため、フォトマス
ク上に均一に広がりやすく、また、本洗浄剤は無害であ
るため生産上、実使用上何らの支障をきたすことがない
。また、価格についても安価で製造方法が容易である。
ク上に均一に広がりやすく、また、本洗浄剤は無害であ
るため生産上、実使用上何らの支障をきたすことがない
。また、価格についても安価で製造方法が容易である。
なお、上記実施例では、ブラシ洗浄による方法について
述べたが、他の機械洗浄方法でもよく、同様の効果を奏
する。
述べたが、他の機械洗浄方法でもよく、同様の効果を奏
する。
また、湿潤剤２発泡剤、研磨剤として実施例に述べたも
のを使用したがこれ以外のものであってもよい。さらに
、これらの他に粘結剤を添加してもよく、同様の効果を
奏する。
のを使用したがこれ以外のものであってもよい。さらに
、これらの他に粘結剤を添加してもよく、同様の効果を
奏する。
また、フォトマスクについて述べたが、他のガラス基板
などでもよく、同様の効果を奏する。
などでもよく、同様の効果を奏する。
以上説明したように本発明は、湿潤剤、研磨剤及び発泡
剤を含む洗浄溶液により、フォトマスクを洗浄している
ため、１度の洗浄で異物が除去で＝６ き、洗浄効果の向上、洗浄工程の短縮化など優れた効果
を有する。
剤を含む洗浄溶液により、フォトマスクを洗浄している
ため、１度の洗浄で異物が除去で＝６ き、洗浄効果の向上、洗浄工程の短縮化など優れた効果
を有する。
第１図は本発明の洗浄方法を用いてフォトマスクを洗浄
した場合の結果を示す特性図、第２図は従来の洗浄方法
でフォトマスクを洗浄した場合の結果を示す特性図であ
る。
した場合の結果を示す特性図、第２図は従来の洗浄方法
でフォトマスクを洗浄した場合の結果を示す特性図であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体装置等の製造に用いるフォトマスクの洗浄におい
て、 湿潤剤、研磨剤及び発泡剤を含む洗浄溶液により、フォ
トマスクを洗浄することを特徴としたフォトマスク洗浄
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11793289A JP2794775B2 (ja) | 1989-05-11 | 1989-05-11 | フォトマスク洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11793289A JP2794775B2 (ja) | 1989-05-11 | 1989-05-11 | フォトマスク洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02296243A true JPH02296243A (ja) | 1990-12-06 |
| JP2794775B2 JP2794775B2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=14723775
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11793289A Expired - Fee Related JP2794775B2 (ja) | 1989-05-11 | 1989-05-11 | フォトマスク洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2794775B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6392806B2 (en) * | 1994-10-27 | 2002-05-21 | Kopin Corporation | Efficient illumination system for color projection displays |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57128315A (en) * | 1981-01-30 | 1982-08-09 | Canon Inc | Manufacture for electrooptic display device |
| JPS59129852A (ja) * | 1983-01-17 | 1984-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | マスクの洗浄方法 |
| JPS60106896A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-12 | 信越化学工業株式会社 | 洗浄剤 |
-
1989
- 1989-05-11 JP JP11793289A patent/JP2794775B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57128315A (en) * | 1981-01-30 | 1982-08-09 | Canon Inc | Manufacture for electrooptic display device |
| JPS59129852A (ja) * | 1983-01-17 | 1984-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | マスクの洗浄方法 |
| JPS60106896A (ja) * | 1983-11-14 | 1985-06-12 | 信越化学工業株式会社 | 洗浄剤 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6392806B2 (en) * | 1994-10-27 | 2002-05-21 | Kopin Corporation | Efficient illumination system for color projection displays |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2794775B2 (ja) | 1998-09-10 |
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|---|---|---|---|
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