JPH0529474Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案は、LSI製造のリソグラフイー工程に
使用されるペリクル体に関する。

さらに詳細には、本考案は第１図に示すような
構造をもち、膜１のフレーム２が接合せしめられ
た面に反射防止層３が設置されたものとなつてお
り、反射防止効果により光線透過性が優れると同
時に、膜１の上面７にゴミ等が付着した場合水等
で洗浄出来ることを特徴とするペリクル体に関す
る。

（従来技術） 近年のLSIの発展に伴ない、その画線巾も１〜
3μmと非常に微細となつて来ている。この様な
LSIを作成する場合、ゴミの管理が極めて重要と
なつて来ている。特にリソグラフイー工程でのゴ
ミの除去が問題となつて来ており、フオトマス
ク・レチクル（以下マスクと略す）に防塵カバー
体であるペリクル体を装着することにより、ゴミ
の結像を防止する方法がとられている。

かかるペリクル体は通常第２図に示す構造とな
つており、１は膜、２はフレーム、３が反射防止
層、４は接着層、５は粘着層、６は保護フイルム
である。ここで、反射防止層３は膜１の表裏面で
の反射光を消して高い光線透過率を得る為に設け
られる。

このペリクル体は、保護フイルム６を剥して、
マスクに粘着層５を介して貼られ、使用に供され
る（第３図参照）。

ペリクル体の目的とするところは、万一ゴミが
あつてもペリクル体上へゴミが付着し、マス上へ
はゴミの付着を防止する様に考案されたもので、
ゴミが比較的小さい場合はこのゴミは結像せず充
分なる効果があるものの、比較的大きな（50〜
100μm以上）ゴミが付着した場合には、ゴミは結
像する。そこで従来はエアーブローによつてこの
ゴミを除去することが行なわれていたが、充分に
除去が出来なかつた。

（構成・効果） かゝる欠点を解決すべく、本考案者は第１図に
示す構造のペリクル体を考案した。

即ち、膜１の反射防止層をフレーム側のみとし
て、膜１の上面７には反射防止層を設けない構造
とした。かゝる構造とすることにより、膜の上面
７にゴミが付着した場合、超純水やフレオン１１
３等の洗浄剤にて洗浄することにより除去が容易
となる。膜の上面に反射防止層が有る場合にはこ
れらの洗浄剤にて洗浄しようとすると反射防止層
が剥れて逆にゴミとなる為使用出来なかつた。

膜のフレーム側のみに反射防止層を設けた本考
案のペリクル体は、両面に反射防止層を有するペ
リクル体よりは光線透過性が若干劣るものの、全
く反射防止層のないペリクル体よりは格段に優れ
た光線透過性を有しており、充分に実用性のある
性能を有している。

以上の通り、本考案によれば、高い光線透過性
を有すると同時に洗浄剤等でゴミを洗浄除去出来
るという利点を兼ね備えたペリクル体となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案のペリクル体の構造断面図、第
２図は従来のペリクル体の構想断面図、第３図は
マスクにペリクル体を貼つた状態を表わす断面図
である。 １は膜、２はフレーム、３は反射防止層、４は
接着層、５は粘着層、６は保護フイルム、７は膜
の上面、８はマスクを表わす。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ペリクル体の要部をなす膜１が、フレーム２が
   接合せしめられた面のみに反射防止層３を有する
   ことを特徴とする光線透過性に優れているととも
   に膜面を洗浄することのできるペリクル体。