JPH0882918A - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
- Publication number
- JPH0882918A JPH0882918A JP21598694A JP21598694A JPH0882918A JP H0882918 A JPH0882918 A JP H0882918A JP 21598694 A JP21598694 A JP 21598694A JP 21598694 A JP21598694 A JP 21598694A JP H0882918 A JPH0882918 A JP H0882918A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- adhesive
- frame
- foreign matter
- projecting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 たとえ異物が発生してもフォトマスクの表面
に落下、付着するのを防止することが可能で、且つ安価
なペリクルを提供する。 【構成】 ペリクル膜１１の周縁部を固定するフレーム
１２の上面に中央部が突出する突状面１２ａを形成し、
この突状面１２ａの外側半面に接着剤１３を塗布すると
ともに、接着剤１３でペリクル膜１１の周縁部を接着固
定する。
に落下、付着するのを防止することが可能で、且つ安価
なペリクルを提供する。 【構成】 ペリクル膜１１の周縁部を固定するフレーム
１２の上面に中央部が突出する突状面１２ａを形成し、
この突状面１２ａの外側半面に接着剤１３を塗布すると
ともに、接着剤１３でペリクル膜１１の周縁部を接着固
定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体装置製造のリ
ソグラフィ工程における露光時のゴミよけカバーとして
用いられるペリクルの構造に関するものである。
ソグラフィ工程における露光時のゴミよけカバーとして
用いられるペリクルの構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は例えば特開平４−１９９０５５号
公報に示されたこの種従来のペリクルの一例の構成を示
す断面図である。図において、１はフォトマスク、２は
このフォトマスク１上に接着剤３によって接着固定され
た矩形状のフレーム、４はこのフレーム２の上面に接着
剤５によってその周縁部が接着固定されたペリクル膜で
あり、フレーム２と共にペリクル６を構成している。
公報に示されたこの種従来のペリクルの一例の構成を示
す断面図である。図において、１はフォトマスク、２は
このフォトマスク１上に接着剤３によって接着固定され
た矩形状のフレーム、４はこのフレーム２の上面に接着
剤５によってその周縁部が接着固定されたペリクル膜で
あり、フレーム２と共にペリクル６を構成している。
【０００３】上記のようにペリクル６をフォトマスク１
上に貼り付けた後に、ペリクル膜４に異物が付着した場
合、一般的には窒素ガス等の気体を吹き付けて除去して
いる。しかしながら、この気体の吹き付けによって、ペ
リクル膜４が振動してペリクル膜４とフレーム２との接
着部分から異物が発生し、この異物がフォトマスク１上
に付着してパターン欠陥となった場合、この欠陥はウエ
ハに転写されてデバイスの歩留まりを低下させる。
上に貼り付けた後に、ペリクル膜４に異物が付着した場
合、一般的には窒素ガス等の気体を吹き付けて除去して
いる。しかしながら、この気体の吹き付けによって、ペ
リクル膜４が振動してペリクル膜４とフレーム２との接
着部分から異物が発生し、この異物がフォトマスク１上
に付着してパターン欠陥となった場合、この欠陥はウエ
ハに転写されてデバイスの歩留まりを低下させる。
【０００４】依って、フォトマスク１上に異物が付着し
た時は、ペリクル６をフォトマスク１から剥離して再度
洗浄し、異物検査、欠陥検査で異物、欠陥が存在しない
ことを確認した後、新しいペリクルを貼り直す必要があ
る。しかしながら、強力な接着剤３で接着されたフレー
ム２をフォトマスク１から剥離する作業は、新たに異物
を発生させる危険性がある。したがって、近年は、この
ように異物発生の原因となる接着剤を使用することな
く、ペリクル膜をケースに固定する技術も開発されてい
る。
た時は、ペリクル６をフォトマスク１から剥離して再度
洗浄し、異物検査、欠陥検査で異物、欠陥が存在しない
ことを確認した後、新しいペリクルを貼り直す必要があ
る。しかしながら、強力な接着剤３で接着されたフレー
ム２をフォトマスク１から剥離する作業は、新たに異物
を発生させる危険性がある。したがって、近年は、この
ように異物発生の原因となる接着剤を使用することな
く、ペリクル膜をケースに固定する技術も開発されてい
る。
【０００５】図５は例えば実開平３−１２２４５号公報
に示されたこの種従来のペリクルの他の一例の構成を示
す平面図、図６は図５におけるＡ部の詳細を示す断面図
である。図において、７はペリクル膜、８はこのペリク
ル膜７と接触する上面に環状の溝８ａが形成されたフレ
ーム、９はペリクル膜７の周縁部を押さえるように、溝
８ａに嵌合される嵌合部材であり、これら７〜９でペリ
クル１０を構成している。
に示されたこの種従来のペリクルの他の一例の構成を示
す平面図、図６は図５におけるＡ部の詳細を示す断面図
である。図において、７はペリクル膜、８はこのペリク
ル膜７と接触する上面に環状の溝８ａが形成されたフレ
ーム、９はペリクル膜７の周縁部を押さえるように、溝
８ａに嵌合される嵌合部材であり、これら７〜９でペリ
クル１０を構成している。
【０００６】上記のように構成されるペリクル１０で
は、フレーム８の上面に形成された環状の溝８ａ内に、
ペリクル膜７の周縁部を装着し、この上からペリクル膜
７の周縁部を押さえつけるようにして、嵌合部材９を溝
８ａに嵌合することにより、ペリクル膜７をフレーム８
に固定するようにしているので、接着剤を使用する必要
がなくなり異物の発生は防止される。
は、フレーム８の上面に形成された環状の溝８ａ内に、
ペリクル膜７の周縁部を装着し、この上からペリクル膜
７の周縁部を押さえつけるようにして、嵌合部材９を溝
８ａに嵌合することにより、ペリクル膜７をフレーム８
に固定するようにしているので、接着剤を使用する必要
がなくなり異物の発生は防止される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来のペリクルは上記
のように構成されているので、接着剤の使用が不要とな
り異物の発生は防止されるが、ケース８に溝８ａを形成
したり、この溝８ａに嵌合することによりペリクル膜７
を溝８ａ内に押さえつける嵌合部材９が必要になる等、
製作に多くの手間が必要となり高価になるという問題点
があった。
のように構成されているので、接着剤の使用が不要とな
り異物の発生は防止されるが、ケース８に溝８ａを形成
したり、この溝８ａに嵌合することによりペリクル膜７
を溝８ａ内に押さえつける嵌合部材９が必要になる等、
製作に多くの手間が必要となり高価になるという問題点
があった。
【０００８】この発明は上記のような問題点を解消する
ために成されたもので、たとえ異物が発生してもフォト
マスクの表面に落下、付着するのを防止することが可能
で、且つ安価なペリクルを提供することを目的とするも
のである。
ために成されたもので、たとえ異物が発生してもフォト
マスクの表面に落下、付着するのを防止することが可能
で、且つ安価なペリクルを提供することを目的とするも
のである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１に係
るペリクルは、半導体装置製造のリソグラフィ工程にお
ける露光時のゴミよけカバーとして用いられるペリクル
において、ペリクル膜の周縁部を固定するフレームの上
面に中央部が突出する突状面を形成し、この突状面の外
側半面に接着剤を塗布するとともに、接着剤でペリクル
膜の周縁部を接着固定したものである。
るペリクルは、半導体装置製造のリソグラフィ工程にお
ける露光時のゴミよけカバーとして用いられるペリクル
において、ペリクル膜の周縁部を固定するフレームの上
面に中央部が突出する突状面を形成し、この突状面の外
側半面に接着剤を塗布するとともに、接着剤でペリクル
膜の周縁部を接着固定したものである。
【００１０】又、この発明の請求項２に係るペリクル
は、請求項１において、突状面を断面半円状にしたもの
である。
は、請求項１において、突状面を断面半円状にしたもの
である。
【００１１】又、この発明の請求項３に係るペリクル
は、請求項１において、突状面を断面三角状にしたもの
である。
は、請求項１において、突状面を断面三角状にしたもの
である。
【００１２】又、この発明の請求項４に係るペリクル
は、請求項３において、突状面の外側半面に窪み部を形
成したものである。
は、請求項３において、突状面の外側半面に窪み部を形
成したものである。
【００１３】又、この発明の請求項５に係るペリクル
は、請求項４において、窪み部の内面に接着剤を塗布し
たものである。
は、請求項４において、窪み部の内面に接着剤を塗布し
たものである。
【００１４】
【作用】この発明の請求項１におけるペリクルのフレー
ムは、その上面に形成された突状面の外側半面に接着剤
が塗布されることにより、内側半面からフォトマスク表
面に異物が落下するのを阻止する。
ムは、その上面に形成された突状面の外側半面に接着剤
が塗布されることにより、内側半面からフォトマスク表
面に異物が落下するのを阻止する。
【００１５】又、この発明の請求項２におけるペリクル
のフレームは、その上面に形成された断面半円状の突状
面の外側半面に接着剤が塗布されることにより、内側半
面からフォトマスク表面に異物が落下するのを阻止す
る。
のフレームは、その上面に形成された断面半円状の突状
面の外側半面に接着剤が塗布されることにより、内側半
面からフォトマスク表面に異物が落下するのを阻止す
る。
【００１６】又、この発明の請求項３におけるペリクル
のフレームは、その上面に形成された断面三角状の突状
面の外側半面に接着剤が塗布されることにより、内側半
面からフォトマスク表面に異物が落下するのを阻止す
る。
のフレームは、その上面に形成された断面三角状の突状
面の外側半面に接着剤が塗布されることにより、内側半
面からフォトマスク表面に異物が落下するのを阻止す
る。
【００１７】又、この発明の請求項４におけるペリクル
のフレームは、断面三角状の突状面の外側半面に形成さ
れた窪み部によって、発生した異物を捕獲する。
のフレームは、断面三角状の突状面の外側半面に形成さ
れた窪み部によって、発生した異物を捕獲する。
【００１８】又、この発明の請求項５におけるペリクル
のフレームは、断面三角状の突状面の外側半面に形成さ
れた窪み部によって発生した異物を捕獲するとともに、
窪み部内に塗布された接着剤によって捕獲された異物を
付着する。
のフレームは、断面三角状の突状面の外側半面に形成さ
れた窪み部によって発生した異物を捕獲するとともに、
窪み部内に塗布された接着剤によって捕獲された異物を
付着する。
【００１９】
実施例１．以下、この発明の実施例を図について説明す
る。図１はこの発明の実施例１におけるペリクルの要部
の構成を示す断面図である。図において、１１はペリク
ル膜、１２はこのペリクル膜１１と接触する上面に、断
面半円状の突状面１２ａが形成されたフレーム、１３は
このフレーム１２の突状面１２ａの外側半面に塗布され
た接着剤であり、これら１１〜１３でペリクル１４を構
成している。
る。図１はこの発明の実施例１におけるペリクルの要部
の構成を示す断面図である。図において、１１はペリク
ル膜、１２はこのペリクル膜１１と接触する上面に、断
面半円状の突状面１２ａが形成されたフレーム、１３は
このフレーム１２の突状面１２ａの外側半面に塗布され
た接着剤であり、これら１１〜１３でペリクル１４を構
成している。
【００２０】上記のように構成された実施例１によれ
ば、フレーム１２の突状面１２ａの外側半面に接着剤１
３を塗布し、この接着剤１３によりペリクル膜１１とフ
レーム１２との接着を行っているので、仮に、ペリクル
膜１１が振動して接着剤１３から異物が発生しても、こ
の異物が突状面１２ａの内側半面側に侵入することは防
止され、外側半面に沿ってペリクル１４の外側に落下す
るので、異物がフォトマスク（図示せず）上に落下、付
着することはなく、又、フレーム１２の上面の形状を変
えるだけで済ますことができるので、製作の手間が大き
く増えることもなく、安価なペリクルを提供することが
できる。
ば、フレーム１２の突状面１２ａの外側半面に接着剤１
３を塗布し、この接着剤１３によりペリクル膜１１とフ
レーム１２との接着を行っているので、仮に、ペリクル
膜１１が振動して接着剤１３から異物が発生しても、こ
の異物が突状面１２ａの内側半面側に侵入することは防
止され、外側半面に沿ってペリクル１４の外側に落下す
るので、異物がフォトマスク（図示せず）上に落下、付
着することはなく、又、フレーム１２の上面の形状を変
えるだけで済ますことができるので、製作の手間が大き
く増えることもなく、安価なペリクルを提供することが
できる。
【００２１】実施例２．図２はこの発明の実施例２にお
けるペリクルの要部の構成を示す断面図である。図にお
いて、１５はペリクル膜、１６はこのペリクル膜１５と
接触する上面に、断面三角状の突状面１６ａが形成され
たフレーム、１７はこのフレーム１６の突状面１６ａの
外側半面に塗布された接着剤であり、これら１５〜１７
でペリクル１８を構成している。
けるペリクルの要部の構成を示す断面図である。図にお
いて、１５はペリクル膜、１６はこのペリクル膜１５と
接触する上面に、断面三角状の突状面１６ａが形成され
たフレーム、１７はこのフレーム１６の突状面１６ａの
外側半面に塗布された接着剤であり、これら１５〜１７
でペリクル１８を構成している。
【００２２】上記のように構成された実施例２によれ
ば、フレーム１６の突状面１６ａの外側半面に接着剤１
７を塗布し、この接着剤１７によりペリクル膜１５とフ
レーム１６との接着を行っているので、仮に、ペリクル
膜１５が振動して接着剤１７から異物が発生しても、こ
の異物が突状面１６ａの内側半面側に侵入することは防
止され、外側半面に沿ってペリクル１８の外側に落下す
るので、異物がフォトマスク（図示せず）上に落下、付
着することはなく、又、フレーム１６の上面の形状を変
えるだけで済ますことができるので、上記実施例１と同
様に製作の手間が大きく増えることもなく、安価なペリ
クルを提供することができる。
ば、フレーム１６の突状面１６ａの外側半面に接着剤１
７を塗布し、この接着剤１７によりペリクル膜１５とフ
レーム１６との接着を行っているので、仮に、ペリクル
膜１５が振動して接着剤１７から異物が発生しても、こ
の異物が突状面１６ａの内側半面側に侵入することは防
止され、外側半面に沿ってペリクル１８の外側に落下す
るので、異物がフォトマスク（図示せず）上に落下、付
着することはなく、又、フレーム１６の上面の形状を変
えるだけで済ますことができるので、上記実施例１と同
様に製作の手間が大きく増えることもなく、安価なペリ
クルを提供することができる。
【００２３】実施例３．図３はこの発明の実施例３にお
けるペリクルの要部の構成を示す断面図である。図にお
いて、１９はペリクル膜、２０はこのペリクル膜１９と
接触する上面に、断面三角状の突状面２０ａを有すると
ともに、この突状面２０ａの外側半面に窪み部２０ｂが
形成されたフレーム、２１はフレーム２０の突状面２０
ａの外側半面および窪み部２０ｂ内に塗布された接着剤
であり、これら１９〜２１でペリクル２２を構成してい
る。
けるペリクルの要部の構成を示す断面図である。図にお
いて、１９はペリクル膜、２０はこのペリクル膜１９と
接触する上面に、断面三角状の突状面２０ａを有すると
ともに、この突状面２０ａの外側半面に窪み部２０ｂが
形成されたフレーム、２１はフレーム２０の突状面２０
ａの外側半面および窪み部２０ｂ内に塗布された接着剤
であり、これら１９〜２１でペリクル２２を構成してい
る。
【００２４】上記のように構成された実施例３によれ
ば、フレーム２０の突状面２０ａの外側半面に接着剤２
１を塗布し、この接着剤２１によりペリクル膜１９とフ
レーム２０との接着を行っているので、仮に、ペリクル
膜１９が振動して接着剤２０から異物が発生しても、こ
の異物が突状面２０ａの内側半面側に侵入することは防
止され、外側半面に形成された窪み部２０ｂ内に捕獲さ
れるとともに、内部に塗布された接着剤２１に付着して
外部に飛び出すこともないので、異物がフォトマスク
（図示せず）上に落下、付着することはなく、フレーム
２０の上面の形状を変えるだけで済ますことができるの
で、上記各実施例と同様に製作の手間が大きく増えるこ
ともなく、安価なペリクルを提供することができる。
ば、フレーム２０の突状面２０ａの外側半面に接着剤２
１を塗布し、この接着剤２１によりペリクル膜１９とフ
レーム２０との接着を行っているので、仮に、ペリクル
膜１９が振動して接着剤２０から異物が発生しても、こ
の異物が突状面２０ａの内側半面側に侵入することは防
止され、外側半面に形成された窪み部２０ｂ内に捕獲さ
れるとともに、内部に塗布された接着剤２１に付着して
外部に飛び出すこともないので、異物がフォトマスク
（図示せず）上に落下、付着することはなく、フレーム
２０の上面の形状を変えるだけで済ますことができるの
で、上記各実施例と同様に製作の手間が大きく増えるこ
ともなく、安価なペリクルを提供することができる。
【００２５】
【発明の効果】以上のように、この発明の請求項１によ
れば、半導体装置製造のリソグラフィ工程における露光
時のゴミよけカバーとして用いられるペリクルにおい
て、ペリクル膜の周縁部を固定するフレームの上面に中
央部が突出する突状面を形成し、この突状面の外側半面
に接着剤を塗布するとともに、接着剤でペリクル膜の周
縁部を接着固定したので、たとえ異物が発生してもフォ
トマスクの表面に落下、付着するのを防止することが可
能で、且つ安価なペリクルを提供することができる。
れば、半導体装置製造のリソグラフィ工程における露光
時のゴミよけカバーとして用いられるペリクルにおい
て、ペリクル膜の周縁部を固定するフレームの上面に中
央部が突出する突状面を形成し、この突状面の外側半面
に接着剤を塗布するとともに、接着剤でペリクル膜の周
縁部を接着固定したので、たとえ異物が発生してもフォ
トマスクの表面に落下、付着するのを防止することが可
能で、且つ安価なペリクルを提供することができる。
【００２６】又、この発明の請求項２によれば、請求項
１において突状面を断面半円状にしたので、たとえ異物
が発生してもフォトマスクの表面に落下、付着するのを
防止することが可能で、且つ安価なペリクルを提供する
ことができる。
１において突状面を断面半円状にしたので、たとえ異物
が発生してもフォトマスクの表面に落下、付着するのを
防止することが可能で、且つ安価なペリクルを提供する
ことができる。
【００２７】又、この発明の請求項３によれば、請求項
１において突状面を断面三角状にしたので、たとえ異物
が発生してもフォトマスクの表面に落下、付着するのを
防止することが可能で、且つ安価なペリクルを提供する
ことができる。
１において突状面を断面三角状にしたので、たとえ異物
が発生してもフォトマスクの表面に落下、付着するのを
防止することが可能で、且つ安価なペリクルを提供する
ことができる。
【００２８】又、この発明の請求項４によれば、請求項
３において突状面の外側半面に窪み部を形成したので、
たとえ異物が発生しても、この異物を窪み部で捕獲しフ
ォトマスクの表面に落下、付着するのを防止することが
可能で、且つ安価なペリクルを提供することができる。
３において突状面の外側半面に窪み部を形成したので、
たとえ異物が発生しても、この異物を窪み部で捕獲しフ
ォトマスクの表面に落下、付着するのを防止することが
可能で、且つ安価なペリクルを提供することができる。
【００２９】又、この発明の請求項５によれば、請求項
４において窪み部の内面に接着剤を塗布したので、たと
え異物が発生しても、この異物を窪み部で捕獲するとと
もに接着剤で付着しフォトマスクの表面に落下、付着す
るのを防止することが可能で、且つ安価なペリクルを提
供することができる。
４において窪み部の内面に接着剤を塗布したので、たと
え異物が発生しても、この異物を窪み部で捕獲するとと
もに接着剤で付着しフォトマスクの表面に落下、付着す
るのを防止することが可能で、且つ安価なペリクルを提
供することができる。
【図１】 この発明の実施例１におけるペリクルの要部
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図２】 この発明の実施例２におけるペリクルの要部
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図３】 この発明の実施例３におけるペリクルの要部
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
【図４】 従来のペリクルの一例の構成を示す断面図で
ある。
ある。
【図５】 従来のペリクルの他の一例の構成を示す平面
図である。
図である。
【図６】 図５におけるＡ部の詳細を示す断面図であ
る。
る。
１１，１５，１９ ペリクル膜、１２，１６，２０ フ
レーム、１２ａ，１６ａ，２０ａ 突状面、１３，１
７，２１ 接着剤、２０ｂ 窪み部、１４，１８，２２
ペリクル。
レーム、１２ａ，１６ａ，２０ａ 突状面、１３，１
７，２１ 接着剤、２０ｂ 窪み部、１４，１８，２２
ペリクル。
Claims (5)
- 【請求項１】 半導体装置製造のリソグラフィ工程にお
ける露光時のゴミよけカバーとして用いられるペリクル
において、ペリクル膜の周縁部を固定するフレームの上
面に中央部が突出する突状面を形成し、上記突状面の外
側半面に接着剤を塗布するとともに、上記接着剤で上記
ペリクル膜の周縁部を接着固定したことを特徴とするペ
リクル。 - 【請求項２】 突状面は断面半円状であることを特徴と
する請求項１記載のペリクル。 - 【請求項３】 突状面は断面三角状であることを特徴と
する請求項１記載のペリクル。 - 【請求項４】 突状面の外側半面に窪み部を形成したこ
とを特徴とする請求項３記載のペリクル。 - 【請求項５】 窪み部の内面に接着剤を塗布したことを
特徴とする請求項４記載のペリクル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21598694A JP3347224B2 (ja) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21598694A JP3347224B2 (ja) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | ペリクル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0882918A true JPH0882918A (ja) | 1996-03-26 |
| JP3347224B2 JP3347224B2 (ja) | 2002-11-20 |
Family
ID=16681522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21598694A Expired - Lifetime JP3347224B2 (ja) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3347224B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0840169A1 (en) * | 1996-10-30 | 1998-05-06 | Micro Lithography, Inc. | Optical pellicle and package |
| KR20060047206A (ko) * | 2004-04-19 | 2006-05-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 페리클 프레임 및 그것을 이용한 포토리소그래피용 페리클 |
| CN101930167A (zh) * | 2009-06-24 | 2010-12-29 | 信越化学工业株式会社 | 防护膜框架及光刻用防护膜 |
| CN103901716A (zh) * | 2012-12-25 | 2014-07-02 | 信越化学工业株式会社 | 光刻技术用防尘薄膜组件 |
| CN104133341A (zh) * | 2013-04-30 | 2014-11-05 | 信越化学工业株式会社 | 防尘薄膜组件 |
| JP2018180252A (ja) * | 2017-04-12 | 2018-11-15 | 日本特殊陶業株式会社 | ペリクル枠及びその製造方法 |
-
1994
- 1994-09-09 JP JP21598694A patent/JP3347224B2/ja not_active Expired - Lifetime
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